- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/021 - Composés de diazonium macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
Détention brevets de la classe G03F 7/021
Brevets de cette classe: 34
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30210 |
4 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 42901 |
3 |
| LG Chem, Ltd. | 17813 |
1 |
| Industrial Technology Research Institute | 5079 |
1 |
| Eastman Kodak Company | 2687 |
1 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 9793 |
1 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9044 |
1 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5933 |
1 |
| Brewer Science Inc. | 237 |
1 |
| Daicel Corporation | 2459 |
1 |
| DIC Corporation | 3902 |
1 |
| Dongjin Semichem Co., Ltd. | 492 |
1 |
| Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 2616 |
1 |
| Illumina, Inc. | 3452 |
1 |
| Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences | 237 |
1 |
| Kiian S.p.A. | 1 |
1 |
| Korea Institute of Machinery & Materials | 778 |
1 |
| Mercene Labs AB | 11 |
1 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3586 |
1 |
| Murakami Co., Ltd. | 12 |
1 |
| Autres propriétaires | 9 |