- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/032 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants
Détention brevets de la classe G03F 7/032
Brevets de cette classe: 462
Historique des publications depuis 10 ans
|
32
|
44
|
42
|
21
|
35
|
33
|
28
|
24
|
31
|
7
|
| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30594 |
61 |
| LG Chem, Ltd. | 17950 |
38 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 10719 |
38 |
| Resonac Corporation | 3610 |
23 |
| Duk San Neolux Co., Ltd. | 703 |
21 |
| Toray Industries, Inc. | 7139 |
20 |
| Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 200 |
12 |
| Cheil Industries Inc. | 808 |
11 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 38817 |
9 |
| Merck Patent GmbH | 5735 |
9 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1569 |
8 |
| JSR Corporation | 2552 |
7 |
| DIC Corporation | 3974 |
7 |
| DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1438 |
7 |
| Hitachi Chemical Company, Ltd. | 2236 |
6 |
| Kolon Industries, Inc. | 1850 |
6 |
| Taiyo Holdings Co., Ltd. | 324 |
6 |
| Kaneka Corporation | 4732 |
5 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 44409 |
5 |
| Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | 2840 |
5 |
| Autres propriétaires | 158 |