- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/037 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polyamides ou des polyimides
Détention brevets de la classe G03F 7/037
Brevets de cette classe: 408
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30689 |
125 |
| Toray Industries, Inc. | 7149 |
94 |
| Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | 2860 |
23 |
| LG Chem, Ltd. | 17970 |
15 |
| Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | 1543 |
13 |
| Kaneka Corporation | 4775 |
8 |
| FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 354 |
8 |
| Toyobo Co., Ltd. | 2544 |
8 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 10839 |
7 |
| Resonac Corporation | 3672 |
7 |
| Hitachi Chemical Company, Ltd. | 2229 |
6 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6143 |
6 |
| Dongjin Semichem Co., Ltd. | 515 |
6 |
| Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 200 |
6 |
| HD MicroSystems, Ltd. | 70 |
6 |
| Mitsui Chemicals, Inc. | 3267 |
5 |
| Toyobo MC Corporation | 546 |
5 |
| Hitachi Chemical DuPont Microsystems Ltd. | 57 |
4 |
| JSR Corporation | 2553 |
3 |
| Microcosm Technology Co., Ltd. | 28 |
3 |
| Autres propriétaires | 50 |