- Sections
- H - Électricité
- H05H - Technique du plasma production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutronsproduction ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 1/10 - Dispositions pour confiner le plasma au moyen de champs électriques ou magnétiquesDispositions pour chauffer le plasma utilisant uniquement des champs magnétiques appliqués
Détention brevets de la classe H05H 1/10
Brevets de cette classe: 44
Historique des publications depuis 10 ans
|
3
|
5
|
9
|
6
|
4
|
7
|
1
|
1
|
7
|
2
|
| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Tae Technologies, Inc. | 231 |
10 |
| Alpha Ring International, Ltd. | 34 |
4 |
| Lockheed Martin Corporation | 3304 |
3 |
| General Fusion Inc. | 73 |
3 |
| Hamamatsu Photonics K.K. | 4324 |
2 |
| Energetiq Technology, Inc. | 45 |
2 |
| Torus Tech LLC | 9 |
2 |
| Novatron Fusion Group AB | 9 |
2 |
| The Boeing Company | 19959 |
1 |
| Hitachi, Ltd. | 15274 |
1 |
| Vapor Technologies, Inc. | 64 |
1 |
| National Institute of Advanced Industrial Science and Technology | 3762 |
1 |
| Brookhaven Science Associates, LLC | 196 |
1 |
| Canon Anelva Corporation | 681 |
1 |
| China University of Geosciences, Beijing | 73 |
1 |
| The George Washington University | 426 |
1 |
| Phase Four, Inc. | 16 |
1 |
| Varex Imaging Corporation | 297 |
1 |
| INFICON Holding AG | 185 |
1 |
| Tibbar Plasma Technologies, Inc. | 6 |
1 |
| Autres propriétaires | 4 |