- Sections
- H - Électricité
- H05H - Technique du plasma production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutronsproduction ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 1/10 - Dispositions pour confiner le plasma au moyen de champs électriques ou magnétiquesDispositions pour chauffer le plasma utilisant uniquement des champs magnétiques appliqués
Détention brevets de la classe H05H 1/10
Brevets de cette classe: 46
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tae Technologies, Inc. | 251 |
9 |
| General Fusion Inc. | 81 |
4 |
| Alpha Ring International, Ltd. | 35 |
4 |
| Lockheed Martin Corporation | 3255 |
3 |
| Novatron Fusion Group AB | 14 |
3 |
| Hamamatsu Photonics K.K. | 4686 |
2 |
| Energetiq Technology, Inc. | 50 |
2 |
| Torus Tech LLC | 3 |
2 |
| The Boeing Company | 20163 |
1 |
| Hitachi, Ltd. | 16113 |
1 |
| National Institute of Advanced Industrial Science and Technology | 3794 |
1 |
| Booz Allen Hamilton Inc. | 331 |
1 |
| Brookhaven Science Associates, LLC | 201 |
1 |
| Canon Anelva Corporation | 684 |
1 |
| China University of Geosciences, Beijing | 82 |
1 |
| The George Washington University | 451 |
1 |
| Phase Four, Inc. | 11 |
1 |
| Varex Imaging Corporation | 332 |
1 |
| INFICON Holding AG | 178 |
1 |
| Tibbar Plasma Technologies, Inc. | 6 |
1 |
| Autres propriétaires | 5 |