- Sections
- H - Électricité
- H05H - Technique du plasma production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutronsproduction ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 1/18 - Dispositions pour confiner le plasma au moyen de champs électriques ou magnétiquesDispositions pour chauffer le plasma utilisant des champs électriques et magnétiques dans lesquels les champs oscillent à très haute fréquence, p. ex. dans la bande des micro-ondes
Détention brevets de la classe H05H 1/18
Brevets de cette classe: 21
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Alpha Source LLC | 3 |
2 |
| LG Display Co., Ltd. | 14965 |
1 |
| Corning Incorporated | 10500 |
1 |
| Commissariat à l'énergie atomique et aux energies alternatives | 11127 |
1 |
| Christian-albrechts-universitat zu Kiel | 251 |
1 |
| Istituto Nazionale di Fisica Nucleare | 97 |
1 |
| Neocoat SA | 3 |
1 |
| Noxilizer, Inc. | 26 |
1 |
| Phase Four, Inc. | 11 |
1 |
| SPECTRO Scientific, Inc. | 42 |
1 |
| The Texas a & M University System | 1868 |
1 |
| Utah State University | 208 |
1 |
| 6K Inc | 135 |
1 |
| Kyoto Fusioneering Ltd. | 26 |
1 |
| Shanghai Photonlink Electronic Technology Co., Ltd | 1 |
1 |
| Clocktower Engineering | 5 |
1 |
| Lithos Industries Inc. | 15 |
1 |
| Thermal Processing Solution GmbH | 1 |
1 |
| Guangdong Institute of Laser Plasma Accelerator Technology | 2 |
1 |
| Icarus Thermal Solutions | 1 |
1 |
| Autres propriétaires | 0 |