The present invention relates to a frame-integrated mask. The frame-integrated mask according to the present invention is used in a process of forming pixels on a silicon wafer, and includes a mask including a mask pattern, and a frame connected to at least a part of a region of the mask excluding the region in which the mask pattern is formed. The mask has a shape corresponding to the silicon wafer and is integrally connected to the frame.
C23C 14/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
2.
METHOD FOR MAKING MASK, MASK, AND FRAME-INTEGRATED MASK
The present invention relates to a method for manufacturing a mask, a mask, and a frame-integrated mask. A method for manufacturing a mask according to the present invention includes the steps of: (a) forming a first insulating portion patterned on one surface of a metal sheet; (b) forming a first mask pattern of a predetermined depth by wet etching on one surface of the metal sheet; (c) filling a second insulating portion within at least the first mask pattern; (d) volatilizing at least a portion of the second insulating portion by baking; (e) exposing the upper portion of the first insulating portion and leaving only a second insulating portion located at a lower portion in the direction perpendicular to the first insulating portion; and (f) forming a second mask pattern penetrating the other surface of the metal sheet from the first mask pattern by wet etching on one surface of the metal sheet.
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
The present invention relates to a method for manufacturing a frame-integrated mask. The method for manufacturing a frame-integrated mask according to the present invention, which is a method for manufacturing a frame-integrated mask including at least one mask integrally formed with a frame for supporting the mask, comprises the steps of: (a) providing a frame having at least one mask cell region; (b) providing a mask; (c) matching the mask with the mask cell region of the frame; and (d) irradiating a welding part of the mask with a laser to bond the mask to the frame, wherein: a plurality of adsorption holes are formed through parts which are spaced apart a predetermined distance from the corners of the frame having the mask cell region existing thereon; and in step (c), through the plurality of adsorption holes, an adsorptive force is applied to the mask being in contact with the frame, so that the mask is made to closely adhere to the frame.
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
4.
MASK-TRANSFER SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK HAVING INTEGRATED FRAME
The present invention relates to a mask-transfer system and a method for manufacturing a mask having an integrated frame. The mask-transfer system, according to the present invention, is a system that transfers a mask for the formation of OLED pixels, by which, in a step for integrally forming a mask (100) and a frame (200) that supports the mask, the mask is loaded and transferred, the system being characterized by comprising: a mask loading part (90) which can adsorb one surface of the mask (100), thereby loading same; and a transfer unit (92) which moves and flips the mask loading part (90).
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/677 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le transport, p. ex. entre différents postes de travail
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
5.
MASK-TRANSFER SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK HAVING INTEGRATED FRAME
The present invention relates to a mask-transfer system and a method for manufacturing a mask having an integrated frame. The mask-transfer system, according to the present invention, is a system that transfers a mask for the formation of OLED pixels, for integrally forming the mask (100) and a frame (200) that supports the mask, and is characterized by comprising: a mask loading part (90) which can adsorb one surface of the mask (100), thereby loading same; and a tray (50) which supports the other surface of the mask (100) and makes the mask (100) correspond to the frame (200).
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
6.
MASK SUPPORTING TEMPLATE, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING FRAME-INTEGRATED MASK
The present invention relates to a mask supporting template, a method for manufacturing same, and a method for manufacturing a frame-integrated mask. The method for manufacturing a mask supporting template according to the present invention is a method for manufacturing a template (50) that supports a mask (100) for forming OLED pixels and makes the mask (100) correspond to a frame (200), and comprises the steps of: (a) providing a mask metal film (110); (b) attaching the mask metal film (110) onto the template (50) having a temporary adhesive portion (55) formed on one surface thereof; and (c) forming a mask pattern (P) on the mask metal film (110) and manufacturing the mask (100).
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
The present invention relates to a frame-integrated mask manufacturing method. A frame-integrated mask manufacturing method, according to the present invention, integrates at least one mask (100) and a frame (200) for supporting the mask (100), and comprises the steps of: (a) providing the frame (200) having at least one mask cell region (CR); (b) raising (ET1) the temperature of a process region including the frame (200) to a first temperature; (c) allowing the mask (100) to correspond to the mask cell region (CR) of the frame (200); (d) lowering (ET2) the temperature of the process region including the frame (200) to a second temperature; (e) bonding at least a part of the edge of the mask (100) to the frame (200); and lowering (LT) the temperature of the process region including the frame (200) to a third temperature.
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
8.
METHOD FOR MANUFACTURING FRAME-INTEGRATED MASK, AND MASK FOR FORMING OLED PIXELS
The present invention relates to a method for manufacturing a frame-integrated mask, and to a mask for forming OLED pixels. The method for manufacturing a frame-integrated mask according to the present invention is a method for manufacturing a frame-integrated mask in which at least one mask (100) and a frame (200) supporting the mask (100) are integrally formed, the method being characterized by comprising: (a) a step for providing the frame (200) having at least one mask cell region (CR); (b) a step for attaching the mask (100) onto a tray (50); (c) a step for loading the tray (50) onto the frame (200) such that the mask (100) corresponds to the mask cell region (CR) of the frame (200); and (d) a step for emitting laser beams (L) onto weld portions (WP) of the mask (100) so as to attach the mask (100) to the frame (200), wherein the mask (100) includes a mask cell (C), in which a plurality of mask patterns (P) are formed, and a dummy (DM) around the mask cell (C), the plurality of weld portions (WP) are formed at intervals on at least a portion of the dummy (DM), and wrinkle-preventing patterns (150-170) are formed in the vicinity of each of the weld portions (WP) at a predetermined distance therefrom.
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
The present invention relates to a mother plate and a method of producing a mask. A mother plate according to the present invention is a mother plate (20) which is used when producing a mask for forming an OLED pixel by electroforming, and comprises a substrate (21) which is a conductive material and has a circular shape.
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
The present invention relates to an apparatus for manufacturing a frame-integrated mask. The apparatus (10) for manufacturing a frame-integrated mask according to the present invention comprises: a stage part (20) on which a frame (200) is seated and supported; a grip part (30) for gripping a template (50) by which a mask (100) is adhesively supported; a grip moving part (40) for moving the grip part (30) in at least one of X, Y, Z, and θ axis directions; a head part (60) for emitting a laser beam to a weld part of the mask (100) and sensing an alignment state of the mask (100); and a head moving part (70) for moving the head part (60) in at least one of X, Y, and Z axis directions, wherein the grip part (30) adsorbs at least a portion of the upper surface of the template (50) to grip same.
The present invention relates to a buffer substrate for supporting a mask, a method for manufacturing same, and a method for manufacturing a frame-integrated mask. The method for manufacturing a buffer substrate for supporting a mask according to the present invention, which is a method for manufacturing a buffer substrate (50) that supports a mask (100) for forming OLED pixels and makes the mask (100) correspond to a frame (200), comprises: (a) a step for providing a mask metal film (110); (b) a step for adhering the mask metal film (110) onto the buffer substrate (50) having a temporary adhesive portion (55) formed on a surface thereof; (c) a step for forming a mask pattern (P) on the mask metal film (110); and (d) a step for separating, from the buffer substrate (50), the mask metal film (110) having the mask pattern (P) formed therein.
The present invention relates to a method for manufacturing a frame-integrated mask. A method for manufacturing a frame-integrated mask, according to the present invention, in which at least one mask (100) and a frame (200) for supporting the mask (100) are integrally formed, comprises the steps of: (a) providing a frame (200) having at least one mask cell region (CR); (b) corresponding a mask (100) to the mask cell region (CR) of the frame (200); (c) raising (ET) the temperature of a process region including the frame (200) to a first temperature; (d) bonding at least a portion of an edge of the mask (100) to the frame (200); and (e) lowering (LT) the temperature of the process region including the frame (200) to a second temperature.
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
13.
FRAME-INTEGRATED MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING FRAME-INTEGRATED MASK
The present invention relates to a frame-integrated mask and a method of manufacturing a frame-integrated mask. The frame-integrated mask according to the present invention is a frame-integrated mask in which a plurality of masks (100) and a frame (200) for supporting the masks (100) are integrally formed. The frame (200) comprises: a frame border part (210) including a hollow region (R); and a mask cell sheet part (220) having a plurality of mask cell regions (CR) and connected to the border frame part (210), wherein each of the masks (100) is connected to the upper portion of the mask cell sheet part (220).
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
C23C 14/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
The present invention relates to a method for manufacturing a frame-integrated mask. The method for manufacturing a frame-integrated mask, according to the present invention, is a method for manufacturing a frame-integrated mask having a mask (100) and a frame (200), for supporting the mask (100), integrally formed, wherein the method comprises the steps of: (a) providing a frame (200) provided with a plurality of mask cell (C) regions along at least one direction among a first direction, and a second direction perpendicular to the first direction; (b) providing a base plate (40) having formed on the upper surface thereof a mask (100) having a plurality of mask patterns (P) provided thereto; (c) having the base plate (40) and the mask (100) correspond to one mask cell (C) region of the frame (200); and (d) adhering (W) at least one portion of the edge of the mask (100) to the frame (200).
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
C23C 14/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
The present invention relates to a method for manufacturing a frame integrated mask. According to the present invention, the method for manufacturing a frame integrated mask (10) in which a mask (20) and a frame (30) supporting the mask (20) are integrally formed comprises the steps of: (a) forming plated films (20: 20a, 20b) through electroplating on a conductive substrate (41) on which a patterned insulating portion (45) is formed on one surface thereof; (b) forming an adhesive portion (EA) including a metal on at least a part of an upper portion of the frame (30) and making at least a part of the edge (20b) of the plated film (20) correspond to the adhesive portion (EA); (c) applying at least one of a predetermined temperature and a predetermined pressure (HP) to the adhesive portion (EA); and (d) releasing the application of at least one of the predetermined temperature and the predetermined pressure to adhere the plated film (20) to the frame (30).
B32B 37/12 - Procédés ou dispositifs pour la stratification, p. ex. par polymérisation ou par liaison à l'aide d'ultrasons caractérisés par l'usage d'adhésifs
C09J 11/04 - Additifs non macromoléculaires inorganiques
The present invention relates to a frame-integrated mask. The present invention provides a frame-integrated mask in which a plurality of masks (100) and a frame (200) for supporting the masks (100) are integrally formed, wherein the frame (200) includes an edge frame portion (210), and at least one first grid frame portion (220) which extends in a first direction and is connected to the edge frame portion (210) at opposite ends thereof, and each of the masks (100) is integrally connected to an upper portion of the frame (200).
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
The present invention relates to a method for producing a frame-integrated mask. A method for producing a frame-integrated mask according to the present invention is a method for producing a frame-integrated mask in which a mask (100) and a frame (200) for supporting the mask (100) are integrally formed, the method comprising the steps of: (a) providing a frame (200) having a plurality of mask cell (C) areas along at least one direction of a first direction and a second direction perpendicular to the first direction; (b) providing a mask (100) having a plurality of mask patterns (P) formed thereon; (c) matching the mask (100) with one mask cell (C) area of the frame (200); and (d) adhering (W) at least a part of the edge of the mask (100) to the frame (200).
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
C23C 14/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
18.
MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND MOTHER PLATE
The present invention relates to a mask and a method for manufacturing a mask, and a mother plate and a method for manufacturing a mother plate. A mask (100) according to the present invention, which is manufactured by electroforming, comprises a mask body and a plurality of mask patterns (PP), wherein the mask body comprises a plurality of masking cells (110) and a center part (111) of each of the masking cells (110) has a greater thickness than an edge part (115) of each of the masking cells (111).
C25D 1/20 - Séparation d'avec les électrodes des objets formés par celles-ci
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/288 - Dépôt de matériaux conducteurs ou isolants pour les électrodes à partir d'un liquide, p. ex. dépôt électrolytique
H01L 21/033 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou comportant des couches inorganiques
H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p. ex. gravure électrolytique en utilisant des masques
The present invention relates to a frame-integrated mask. The frame-integrated mask (10) according to the present invention is used in a process of forming pixels on a silicon wafer, and comprises: a mask (20) including a mask pattern (PP); and a frame (30) joined to at least a part of a mask region (20b) excluding the region (20a) in which the mask pattern (PP) is formed, wherein the mask (20) has a shape corresponding to the silicon wafer and is integrally connected to the frame (30).
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
C23C 14/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
20.
METHOD FOR MANUFACTURING MASK AND MOTHER PLATE USED THEREFOR
The present invention relates to a method for manufacturing a mask and a mother plate used therefor. The method for manufacturing a mask according to the present invention, which is a method for manufacturing a mask (100 ) by electroforming, comprises the steps of: (a) providing a conductive substrate (21); (b) forming an insulating portion (26) patterned on one side of the conductive substrate (21) to manufacture a mother plate (20); (c) forming, by electroforming, a plating film (100) on the mother plate (20) which is used as a cathode body (20); (d) heat treating (H) the plating film (100); and (e) separating the plating film (100) from the mother plate (20).
C25D 5/50 - Post-traitement des surfaces revêtues de métaux par voie électrolytique par traitement thermique
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
21.
MOTHER PLATE, METHOD FOR MANUFACTURING MOTHER PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK
The present invention relates to a mother plate, a method for manufacturing a mother plate, and a method for manufacturing a mask. The mother plate according to the present invention is a mother plate used when manufacturing a mask through electroforming, and is characterized by including: a substrate (21)that is made of a conductive single crystal silicon material and has an engraved pattern (28) formed on one surface thereof; and insulation parts (25: 26, 27) formed on the substrate (21) surface on which the engraved pattern (28) is formed, and on the side surface of the engraved pattern (28).
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
C23C 14/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
The present invention relates to a method for producing a frame-integrated mask. The method for producing a frame-integrated mask (10) according to the present invention comprises the steps of: (a) providing a base plate (40) having, on one surface thereof, patterned (46) insulation parts (45); (b) connecting a frame (30) to at least one side (42) of the base plate (40); (c) using the base plate (40) and frame (30) as a cathode body, forming plated film (20: 20a, 20b) on the base plate (40) and frame (30) via electroforming; and (d) separating the base plate (40) from the plated film (20) and frame (30).
C25D 1/20 - Séparation d'avec les électrodes des objets formés par celles-ci
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
C23C 14/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
23.
FRAME-INTEGRATED MASK AND METHOD FOR PRODUCING SAME
The present invention relates to a frame-integrated mask and a method for producing same. The frame-integrated mask (10) according to the present invention is a frame-integrated mask (10) in which a mask (20a) and frame (30) supporting same are integrated, and comprises: a mask (20a) having a mask pattern (PP); and a frame (30) adhered to at least a part of the area of the mask (20a) excluding the areas having the mask pattern (PP), wherein a support film (20b) attached to at least a part of the surface of the frame (30) is of the same material as the mask (20a) and is integrated therewith.
C25D 1/20 - Séparation d'avec les électrodes des objets formés par celles-ci
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/56 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
24.
MOTHER PLATE, METHOD FOR MANUFACTURING MOTHER PLATE, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND OLED PIXEL DEPOSITION METHOD
The present invention relates to a mother plate, a method for manufacturing a mother plate, a method for manufacturing a mask, and an OLED pixel deposition method. The method for manufacturing a mother plate according to the present invention is a method for manufacturing a mother plate (20) used when a mask is manufactured by electroforming, and comprises the steps of: (a) providing a substrate (21) made of a conductive monocrystalline silicon material; and (b) forming, on at least one face of the substrate (21), an insulation part (25) having a pattern.
The present invention relates to a batch deposition apparatus. According to an embodiment of the present invention, which includes: a chamber for providing a space for depositing a layer on a plurality of substrates; a heater arranged on the outside of the chamber for heating the plurality of substrates; a substrate support arranged on the inside of the chamber for supporting the plurality of substrates; a process gas supply part arranged on the inside of the chamber through the center of the substrate support for supplying a process gas to the plurality of substrates; an exhaust gas part for discharging the process gas; and a process gas generation part arranged on the inside of the chamber for providing the process gas supply part with a first process gas generated by reacting a metal of a metal source with a gas containing a halogen.
H01L 21/205 - Dépôt de matériaux semi-conducteurs sur un substrat, p. ex. croissance épitaxiale en utilisant la réduction ou la décomposition d'un composé gazeux donnant un condensat solide, c.-à-d. un dépôt chimique
26.
GAS SUPPLY UNIT FOR SUPPLYING MULTIPLE GASES, AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
The present invention relates to a gas supply unit for supplying multiple gases. The gas supply unit for supplying multiple gases according to one embodiment of the present invention comprises an outer pipe and one or more inner pipes positioned in the interior of the outer pipe, wherein the gas for a first process, supplied to the inner pipe via a plurality of first gas injectors, is injected to the exterior of the outer pipe, and the gas for a second process, supplied to the outer pipe via a plurality of second gas injectors, is injected to the exterior of the outer pipe.
H01L 21/205 - Dépôt de matériaux semi-conducteurs sur un substrat, p. ex. croissance épitaxiale en utilisant la réduction ou la décomposition d'un composé gazeux donnant un condensat solide, c.-à-d. un dépôt chimique
brevets
