An atomic layer deposition system for depositing thin layers of material onto a common substrate includes a deposition head shaped to define a conical interior cavity into which a conical deposition dram is disposed. Together, the deposition head and the deposition dram define a narrow gap adapted to receive the common substrate, the spacing of the narrow gap being adjustable through acute axial displacement of the deposition head relative to the deposition dram. A pair of rollers advances the substrate through the gap in a first direction, as the deposition head rotates in the opposite direction at a precise rate. Each of the deposition head and deposition dram includes a plurality of separate fluid channels which enable gasses utilized in the deposition process to be delivered into and exhausted from the narrow gap, with the delivery of inert gas on both sides of the substrate effectively creating an air bearing.
C23C 16/54 - Appareillage spécialement adapté pour le revêtement en continu
C23C 16/00 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD]
C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
H01L 21/20 - Dépôt de matériaux semi-conducteurs sur un substrat, p. ex. croissance épitaxiale
An atomic layer deposition system for depositing thin layers of material onto a common substrate includes a deposition head shaped to define a conical interior cavity into which a conical deposition drum is disposed. Together, the deposition head and the deposition drum define a narrow gap adapted to receive the common substrate, the spacing of the narrow gap being adjustable through acute axial displacement of the deposition head relative to the deposition drum. A pair of rollers advances the substrate through the gap in a first direction, as the deposition head rotates in the opposite direction at a precise rate. Each of the deposition head and deposition drum includes a plurality of separate fluid channels which enable gasses utilized in the deposition process to be delivered into and exhausted from the narrow gap, with the delivery of inert gas on both sides of the substrate effectively creating an air bearing.
C23C 16/54 - Appareillage spécialement adapté pour le revêtement en continu
C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
A high-power light system includes a lamp for producing light within a designated wavelength range, a chiller for maintaining the lamp below a defined temperature threshold, and a control module for regulating operation of both the lamp and the chiller. The lamp includes a plurality of light emitting diodes (LEDs) arranged into independently-operable modules. In use, the control module selectively overdrives the LEDs to yield high-power light within the designated wavelength range. To prevent overheating within the lamp, the control module restricts the lamp to a pulse-based operational cycle, whereby each period of LED activation is of limited duration and is immediately followed by a period of deactivation at least three times as long in duration as the period of activation. Additionally, one or more temperature sensors are disposed within the lamp and enable the control module to temporarily suspend LED activation when measured temperature levels exceed the defined threshold.
A system for constructing a roller-type nanoimprint lithography (RNIL) master comprises a master fabrication tool positioned in relation to a metal sleeve which is axially mounted on a rotatable drum. As part of the manufacturing process, the metal sleeve is applied with a layer of photoresist. Then, a laser writing instrument for the master fabrication tool exposes the photoresist in a defined, controller-regulated pattern using highly-focused pulses of light. Using alignment fiducials on the metal sleeve for registration, the laser writing instrument sensitizes the photoresist in a designated pattern as the rotatable drum continuously moves both rotationally and linearly about its longitudinal axis. In connection with one manufacturing process, the photoresist is sensitized at variable depths by modifying the number, duration and intensity of light pulses emitted. Thereafter, light-sensitized photoresist is removed during a development step, with the remaining photoresist hardened and coated to yield a high-precision feature pattern.
A system for manufacturing a cylindrical, nanoimprint lithography master includes, in one embodiment, a flat master coated with a first layer of compliant photopolymer material, a cylindrical master with an outer sleeve formed from a second layer of compliant photopolymer material, and a light source. The cylindrical master is disposed in tangential contact against the flat master such that the first and second layers of compliant material exhibit 5%-20% compressive strain within the region of contact. Through such pressure, the feature pattern in the flat master is imprinted into the first layer of material. Light from the light source is acutely focused into a narrow curing zone within the contact region. Curing causes the first layer of photopolymer material to bond to the outer sleeve. Through geometric matching and synchronized movement between the flat and cylindrical masters, the cylindrical master can be patterned about its periphery without creating a seam.
B29C 33/38 - Moules ou noyauxLeurs détails ou accessoires caractérisés par la matière ou le procédé de fabrication
B29C 33/42 - Moules ou noyauxLeurs détails ou accessoires caractérisés par la forme de la surface de moulage, p. ex. par des nervures ou des rainures
B29C 59/04 - Façonnage de surface, p. ex. gaufrageAppareils à cet effet par des moyens mécaniques, p. ex. par pressage en utilisant des rouleaux ou des courroies sans fin
B29C 59/16 - Façonnage de surface, p. ex. gaufrageAppareils à cet effet par énergie ondulatoire ou rayonnement corpusculaire
B29C 35/08 - Chauffage ou durcissement, p. ex. réticulation ou vulcanisation utilisant l'énergie ondulatoire ou un rayonnement corpusculaire
A system for the fabrication of patterned miniature structures, such integrated circuits, includes a continuous, flexible substrate that is transported by rollers to a series of processing stations. To ensure proper alignment amongst the various stations, the substrate is provided with at least one fiducial that is raised above its top surface a height that maximizes optical contrast when viewed interferometrically. At least one processing station includes an optical device that is capable of both interferometrically identifying the fiducial for alignment purposes and subsequently illuminating the substrate with a modifiable light pattern as part of a photolithographic process. Fiducials can also be used to identify gross geometric variances in the substrate caused by external factors, such as heat and moisture. In turn, a web adjustment element can be used to apply selective heat or tension to the substrate in order to correct such geometric variances.
G01B 11/02 - Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de techniques optiques pour mesurer la longueur, la largeur ou l'épaisseur
G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
8.
System for maintaining a pollutant controlled workspace
A system for maintaining a pollutant controlled workspace includes an airtight enclosure with a front access window. A set of impermeable exterior panels and a set of permeable interior panels are slidably mounted within the access window in a spaced apart relationship. Regulated either through a manual control panel or programmable controller, a fan filter unit treats a supply of source air and delivers the filtered air down into a narrow vertical airflow channel located between the exterior and interior panels. Once a suitable amount of pressure accumulates, the treated air penetrates into the workspace as a horizontal laminar flow. Any particulates present in the workspace are drawn rearward by the laminar flow and are trapped behind a multi-apertured back board. The contaminant air is then drawn from a low pressure return located behind the back board and into the fan filter unit for recirculation within the enclosure.
B08B 15/02 - Précautions prises pour empêcher les crasses ou les fumées de s'échapper de la zone où elles sont produitesRamassage ou enlèvement des crasses ou des fumées de cette zone par utilisation de chambres ou de hottes recouvrant cette zone
F24F 3/16 - Systèmes de conditionnement d'air dans lesquels l'air conditionné primaire est fourni par une ou plusieurs stations centrales aux blocs de distribution situés dans les pièces ou enceintes, blocs dans lesquels il peut subir un traitement secondaireAppareillage spécialement conçu pour de tels systèmes caractérisés par le traitement de l'air autrement que par chauffage et refroidissement par purification, p. ex. par filtrageSystèmes de conditionnement d'air dans lesquels l'air conditionné primaire est fourni par une ou plusieurs stations centrales aux blocs de distribution situés dans les pièces ou enceintes, blocs dans lesquels il peut subir un traitement secondaireAppareillage spécialement conçu pour de tels systèmes caractérisés par le traitement de l'air autrement que par chauffage et refroidissement par stérilisationSystèmes de conditionnement d'air dans lesquels l'air conditionné primaire est fourni par une ou plusieurs stations centrales aux blocs de distribution situés dans les pièces ou enceintes, blocs dans lesquels il peut subir un traitement secondaireAppareillage spécialement conçu pour de tels systèmes caractérisés par le traitement de l'air autrement que par chauffage et refroidissement par ozonisation
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
A system for the fabrication of patterned miniature structures, such integrated circuits, includes a continuous, flexible substrate that is transported by rollers to a series of processing stations. To ensure proper alignment amongst the various stations, the substrate is provided with at least one fiducial that is raised above its top surface a height that maximizes optical contrast when viewed interferometrically. At least one processing station includes an optical device that is capable of both interferometrically identifying the fiducial for alignment purposes and subsequently illuminating the substrate with a modifiable light pattern as part of a photolithographic process. Fiducials can also be used to identify gross geometric variances in the substrate caused by external factors, such as heat and moisture. In turn, a web adjustment element can be used to apply selective heat or tension to the substrate in order to correct such geometric variances.
G01B 11/02 - Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de techniques optiques pour mesurer la longueur, la largeur ou l'épaisseur
G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
10.
SYSTEM AND METHOD FOR FABRICATING MINIATURE STRUCTURES ON A FLEXIBLE SUBSTRATE
A system for the fabrication of patterned miniature structures, such integrated circuits, includes a continuous, flexible substrate that is transported by rollers to a series of processing stations. To ensure proper alignment amongst the various stations, the substrate is provided with at least one fiducial that is raised above its top surface a height that maximizes optical contrast when viewed interferometrically. At least one processing station includes an optical device that is capable of both interferometrically identifying the fiducial for alignment purposes and subsequently illuminating the substrate with a modifiable light pattern as part of a photolithographic process. Fiducials can also be used to identify gross geometric variances in the substrate caused by external factors, such as heat and moisture. In turn, a web adjustment element can be used to apply selective heat or tension to the substrate in order to correct such geometric variances.
A vacuum roller for a web handling system comprises a hollow, cylindrical, rotably driven drum and an end cap threadingly mounted onto the rear end of the drum. Together, the drum and the end cap define a plurality of individual, externally communicable vacuum paths. A spherical, metal movable element is internally disposed within each vacuum path and regulates the passage of air therethrough. A plurality of magnetic elements is fixedly mounted on a stationary annular holder. In use, each magnetic element selectively displaces each movable element when disposed in close proximity thereto to the extent necessary so as to permit the passage of air through its corresponding vacuum path. As such, the vacuum roller is provided with a predefined range of suction, or vacuum zone, about the outer surface of its rotating drum that directly corresponds to the angular arrangement of the plurality of stationary magnetic elements.
