Abrégé

A carbazole oxime ester photoinitiator, and a preparation method therefor and the use thereof. The carbazole oxime ester photoinitiator has a structure as represented by formula I. By means of simple modification of the carbazole parent, the solubility of the oxime ester photoinitiator can be improved without increasing the cost, the solubility of the oxime ester photoinitiator in an organic solvent can be improved, so as to improve the practical applicability thereof, and the oxime ester photoinitiator has high initiation efficiency and good stability, thereby meeting requirements with regard to the field of photocuring.

Classes IPC  ?

• C07D 209/86 - CarbazolesCarbazoles hydrogénés avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du système cyclique
• C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles

Abrégé

Provided are a pyrazoline sensitizer and a preparation method therefor, and a photosensitive resin composition comprising same and the use thereof. The pyrazoline sensitizer has a structure as represented by formula I. The pyrazoline sensitizer has a good sensitization effect and good compatibility with a resin, etc.; therefore, the photosensitive resin composition comprising the sensitizer is short in terms of curing time, has substantially improved ultraviolet curing efficiency, and is particularly suitable for an UV-LED photocuring system.

Classes IPC  ?

• C07D 231/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 2 ou diazole-1, 2 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles comportant une liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînon cyclique et chaînon non cyclique
• G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• C08F 265/04 - Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères d'acides monocarboxyliques non saturés ou de leurs dérivés tels que définis dans le groupe sur des polymères d'esters
• C08F 226/02 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par une liaison simple ou double à l'azote ou par un hétérocycle contenant de l'azote par une simple ou une double liaison à l'azote
• C08F 220/20 - Esters des alcools polyhydriques ou des phénols polyhydriques
• C08F 4/00 - Catalyseurs de polymérisation

Abrégé

Alkoxylated glycerol triacrylate, and the use thereof and a preparation method therefor. The alkoxylated glycerol triacrylate is represented by a structure as shown in formula (I). The preparation method for the alkoxylated glycerol triacrylate has a simple process and relatively low production cost; moreover, the prepared alkoxylated glycerol triacrylate has a moderate viscosity, and a formed photocuring composition containing same has relatively high curing sensitivity and good flexibility.

Classes IPC  ?

• C07C 67/08 - Préparation d'esters d'acides carboxyliques par réaction d'acides carboxyliques ou d'anhydrides symétriques avec le groupe hydroxyle ou O-métal de composés organiques
• C07C 69/54 - Esters d'acide acryliqueEsters d'acide méthacrylique

Abrégé

The present invention provides an oxime ester photoinitiator, a photocurable resin composition and an application. The oxime ester photoinitiator has a structure represented by formula (I), or a geometric isomer thereof. Compared with existing oxime ester photoinitiators, the parent structure having the structure shown in formula (I) provided by the present application is a thioxanthone structure, which ensures the stability of the main body; the introduction of an aromatic ring substitution structure increases the absorption wavelength of the initiator, and improves the sensitivity of the oxime ester photoinitiator; the introduction of the oxime ester structure ensures the photosensitive group of the initiator; due to the formation of a large conjugated structure, the photosensitivity of the product is improved, resulting in higher photoinitiation activity (particularly suitable for a photoinitiation system in 365 nm illumination conditions) and good solubility. When applied in a photocuring field, such as a paint, a coating, an ink, and a molding material, the product can not only prevent the generation of small molecular fragments, but also improve the curing effect of the photocurable resin composition.

Classes IPC  ?

• C07D 335/16 - Atomes d'oxygène, p. ex. thioxanthones
• C08L 63/00 - Compositions contenant des résines époxyCompositions contenant des dérivés des résines époxy
• C08F 2/46 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire

Abrégé

Provided in the present application are a thioxanthene sulfonium salt photoinitiator as well as a preparation method therefor and the use thereof. The thioxanthene sulfonium salt photoinitiator has a structure as shown in following formula I. The thioxanthene sulfonium salt photoinitiator provided by the present application has relatively low mobility, solving the problem of existing photoinitiators releasing toxic and unpleasant photolysis products.

Classes IPC  ?

• C07D 335/12 - Thioxanthènes
• C07C 381/12 - Composés sulfonium
• C07C 315/04 - Préparation de sulfonesPréparation de sulfoxydes par des réactions n'impliquant pas la formation de groupes sulfone ou sulfoxyde
• C07F 5/02 - Composés du bore
• C08F 4/00 - Catalyseurs de polymérisation
• C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
• C08G 59/00 - Polycondensats contenant plusieurs groupes époxyde par moléculeMacromolécules obtenues par réaction de polycondensats polyépoxydés avec des composés monofonctionnels à bas poids moléculaireMacromolécules obtenues par polymérisation de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde
• C08G 59/68 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde caractérisées par les catalyseurs utilisés
• C09K 3/00 - Substances non couvertes ailleurs

Abrégé

Provided are a thioxanthenium salt photoinitiator, and a preparation method therefor and the use thereof. The thioxanthenium salt photoinitiator has a structure as represented by formula I. The preparation method comprises the following steps: under the action of a catalyst, subjecting a reactant 1 and a reactant 2 to a Friedel-Crafts reaction, and after the reaction is finished, adding an organic salt or an inorganic salt thereto to perform an anion exchange reaction so as to obtain a thioxanthenium salt photoinitiator. The provided thioxanthenium salt photoinitiator has relatively low mobility, and solves the problem of an existing photoinitiator releasing toxic and unpleasant photolysis products.

Classes IPC  ?

• C07D 335/12 - Thioxanthènes
• C07D 335/16 - Atomes d'oxygène, p. ex. thioxanthones
• C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
• C08F 4/00 - Catalyseurs de polymérisation
• C08G 59/68 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde caractérisées par les catalyseurs utilisés
• C08K 5/36 - Composés contenant du soufre, du sélénium ou du tellure
• C09K 3/00 - Substances non couvertes ailleurs

Abrégé

The present application provides a coumarin sensitizer, a preparation method therefor, a photosensitive resin composition comprising the coumarin sensitizer, and a use. The coumarin sensitizer has the structure shown in formula I. The coumarin sensitizer of the present application has good yellowing resistance when applied in photocurable compositions, and can also significantly improve curing efficiency under the illumination of a UV-LED light source, having excellent application performance and facilitating the promotion and development of UV-LED light curing technology.

Classes IPC  ?

• C07D 311/16 - Benzo [b] pyrannes non hydrogénés dans le carbocycle avec des atomes d'oxygène ou de soufre liés directement en position 2 non hydrogénés dans l'hétérocycle substitués en position 7
• C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants

Abrégé

Disclosed in the present invention are an oxetane polymer, a preparation method therefor and an application thereof, and an energy curable composition. The low viscosity oxetane polymer has the structure as represented by formula (I), wherein R1 represents hydrogen or methyl. The weight average molecular weight of the polymer ranges from 250 to 1100. The oxetane polymer is simple to synthesize, the synthesis process does not use halogen-containing raw materials, no halogen residue exists, no other associated product is generated, and the atomic utilization rate is high. The oxetane polymer is low in cost and viscosity, and is convenient to use. Disclosed in the present invention are an oxetane polymer, a preparation method therefor and an application thereof, and an energy curable composition. The low viscosity oxetane polymer has the structure as represented by formula (I), wherein R1 represents hydrogen or methyl. The weight average molecular weight of the polymer ranges from 250 to 1100. The oxetane polymer is simple to synthesize, the synthesis process does not use halogen-containing raw materials, no halogen residue exists, no other associated product is generated, and the atomic utilization rate is high. The oxetane polymer is low in cost and viscosity, and is convenient to use.

Classes IPC  ?

• C08G 65/18 - Oxétanes

Abrégé

The present invention provides a photocurable composition, and a photocurable composition for 3D printing and a use thereof. The photocurable composition comprises: 3-20 parts of a cationically polymerizable compound; 10-70 parts of a free-radically polymerizable compound; and 0.2-20 parts of a photoinitiator. The cationically polymerizable compound comprises an oxetane polymer, and the oxetane polymer is formed by polymerizing compounds represented by formula (I) and formula (II). The photocurable composition of the present application has outstanding toughness, and maintains high heat resistance on this basis, and other mechanical properties can reach relatively good levels.

Classes IPC  ?

• C08L 71/02 - Oxydes des polyalkylènes

Abrégé

1211011021031021010 ether group, a halogen atom, and a halogenated hydrocarbyl. The modified diallyl phthalate resin compound not only has solvent resistance, water resistance and scratch resistance of diallyl phthalate resins, but also has relatively high reaction activity, can be cured under the action of various energies, and is particularly easy to photo- or thermal-cure and has a high curing rate.

Classes IPC  ?

• C08G 81/02 - Composés macromoléculaires obtenus par l'interréaction de polymères en l'absence de monomères, p. ex. polymères séquencés au moins un des polymères étant obtenu par des réactions ne faisant intervenir que des liaisons non saturées carbone-carbone

Abrégé

The present invention provides a sulfonate-based photoacid generator, a method for preparing same, a method for patterning same, a resist composition thereof, and use thereof. The sulfonate-based photoacid generator is represented by general formula (I), wherein R122522522522- may be optionally substituted with -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, or -COO-, C atoms may also be optionally substituted with an N atom, and the terminus of R121010 oxacyclic group; R212061818 aryl, camphoryl, camphorquinonyl, and nitrine naphthalenonyl. The sulfonate-based photoacid generator can reduce the diffusion of photoacid molecules and improve the firmness of photoetching patterns.

Classes IPC  ?

• C07D 405/06 - Composés hétérocycliques contenant à la fois un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle et un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne carbonée contenant uniquement des atomes de carbone aliphatiques
• C07D 221/14 - Aza-phénalènes, p. ex. naphtalimide-1, 8
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet
• G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
• C08K 5/42 - Acides sulfoniquesLeurs dérivés
• G03F 7/025 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des triples liaisons carbone-carbone, p. ex. composés acétyléniques
• G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques

Abrégé

1212032062042032020 cycloaliphatic heterocyclic group; m is 1 or 0, n is 1 or 0, x is 1 or 0, y is 1 or 0, and z is 1 or 0. The oxime ester photoinitiator of the present application has a diketone oxime ester structure and asymmetric substituents, and has a delocalization structure. Compared with an existing similar photoinitiator, the oxime ester photoinitiator has significantly improved solubility, can take both high sensitivity and low yellowing into consideration when applied to a photocurable composition, and has good application prospects.

Classes IPC  ?

• C07D 209/86 - CarbazolesCarbazoles hydrogénés avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du système cyclique
• C07D 209/88 - CarbazolesCarbazoles hydrogénés avec des hétéro-atomes ou des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du système cyclique
• G02B 5/20 - Filtres
• G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
• G03F 7/028 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des substances accroissant la photosensibilité, p. ex. photo-initiateurs
• G03F 7/105 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des substances, p. ex. des indicateurs, pour obtenir des images visibles

Abrégé

The present application provides a negative photosensitive resin composition, a cured film and a preparation method therefor, an EL element, and a display apparatus. The negative photosensitive resin composition comprises (A) an alkali-soluble resin containing a polyimide structure; (B) a radical polymerizable compound; (C) at least one photopolymerization initiator having the structure as shown in the following formula (I); and optionally (D) a black dye and/or pigment. By applying the technical solution of the present application, a negative photosensitive composition provided by the present application has excellent heat resistance and light shielding performance; when the negative photosensitive composition is applied to a light-emitting device, no gas leakage can be detected in a high-temperature environment, no device pollution is caused, and the negative photosensitive composition has a wide application prospect.

Classes IPC  ?

• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
• G03F 7/037 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polyamides ou des polyimides

Abrégé

An ethoxy/propoxy modified pyrazoline organic matter, an application thereof, a photocurable composition, and a photoresist. The introduction of —CH2—CH2—O(EO) and/or —CH(CH3)—CH2—O(PO) enables an EO/PO modified pyrazoline organic matter to have excellent compatibility with other components in a photocuring system, and the organic matter is solid, and is easy to add and use. In addition, the ethoxy/propoxy modified pyrazoline organic matter has an absorption band of 360-400 nm, and is thus particularly suitable for use as a sensitizer in the photocuring system (such as a system containing a bisimidazole photoinitiator), thereby greatly improving the sensitivity of the photocuring system. On this basis, the EO/PO modified pyrazoline organic matter has high sensitivity enhancement, features low usage, is solid, and is easy to add and use. An ethoxy/propoxy modified pyrazoline organic matter, an application thereof, a photocurable composition, and a photoresist. The introduction of —CH2—CH2—O(EO) and/or —CH(CH3)—CH2—O(PO) enables an EO/PO modified pyrazoline organic matter to have excellent compatibility with other components in a photocuring system, and the organic matter is solid, and is easy to add and use. In addition, the ethoxy/propoxy modified pyrazoline organic matter has an absorption band of 360-400 nm, and is thus particularly suitable for use as a sensitizer in the photocuring system (such as a system containing a bisimidazole photoinitiator), thereby greatly improving the sensitivity of the photocuring system. On this basis, the EO/PO modified pyrazoline organic matter has high sensitivity enhancement, features low usage, is solid, and is easy to add and use.

Classes IPC  ?

• C07D 231/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 2 ou diazole-1, 2 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles comportant une liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînon cyclique et chaînon non cyclique
• G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles

Abrégé

A method is for synthesizing an oxetane compound by a microreactor. The synthesis method includes: introducing trimethylolpropane and carbonate into the microreactor in the presence of an alkaline catalyst, and synthesizing the oxetane compound by means of a micro-reaction continuous flow process under an inert solvent or a solvent-free condition. Compared with conventional reactors, the microreactor has the advantages of being high in heat transfer mass transfer coefficient, good in mixing performance, easy to control in temperature, safe and controllable in process. The three oxetane products are produced by utilizing the advantages of the microreactor, thereby greatly improving the mass transfer heat transfer performance of a reaction system, shortening the reaction time, improving the production efficiency, particularly avoiding the long-time high-temperature process in the pyrolysis process, reducing the production of high-boiling-point by-products, improving the yield, realizing continuity and automation of the process, and improving process safety.

Classes IPC  ?

• C07D 305/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à quatre chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes du cycle
• B01J 19/00 - Procédés chimiques, physiques ou physico-chimiques en généralAppareils appropriés
• B01J 23/04 - Métaux alcalins

Abrégé

The invention provides a synthesis method for synthesizing an oxetane derivative by a microreactor. The synthesis method comprises: delivering 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, a raw material Ha, a catalyst, and an alkali into a microreactor, and performing an etherification reaction so as to obtain an etherification product system, the raw material Ha having a general formula of R-(X)n, and X being a halogen; and separating the etherification product system so as to obtain the oxetane derivative. The microreactor is used for greatly improving the mass and heat transfer properties of the reaction system, reducing the reaction time, improving the production efficiency, increasing the yield of the product, achieving the continuity and automation of the process, and improving the safety of the process. In addition, the reaction device required by the described synthesis process requires has a small size, requires less manpower and has high safety.

Classes IPC  ?

• C07D 305/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à quatre chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes du cycle

Abrégé

An EO/PO modified 9-phenylacridine photosensitizer having the structure as shown in general formula (I). When the photosensitizer is applied to a photosensitive resin composition, the composition has characteristics of high photosensitivity, high resolution, high solubility, excellent dispersion stability, and excellent developing property, and has good hydrophilicity during development, the amount of sludges in a developer during recycling can be significantly reduced, so that the developer can be used repeatedly and effectively. An EO/PO modified 9-phenylacridine photosensitizer having the structure as shown in general formula (I). When the photosensitizer is applied to a photosensitive resin composition, the composition has characteristics of high photosensitivity, high resolution, high solubility, excellent dispersion stability, and excellent developing property, and has good hydrophilicity during development, the amount of sludges in a developer during recycling can be significantly reduced, so that the developer can be used repeatedly and effectively.

Classes IPC  ?

• G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles

Abrégé

11 represents fluoroalkyl, and the weight-average molecular weight of the polymer is between 300 and 4000. By means of structural design, the oxetane fluorine-containing polymer combines the advantages of an oxetane group and a fluorine-containing oligomer, and can provide excellent comprehensive performance to a cured film when used as an active diluent. The oxetane fluorine-containing polymer is simple in synthesis process, controllable in molecular weight, low in cost and convenient to use.

Classes IPC  ?

• C08G 65/18 - Oxétanes
• C08G 59/18 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde
• C08G 18/50 - Polyéthers contenant des hétéro-atomes autres que l'oxygène
• C07C 41/02 - Préparation d'éthers à partir d'oxiranes

Abrégé

1211203203811012038620156204201562020 heteroaryl. The oxime ester photoinitiator of the chalcone structure has a large conjugated structure and excellent sensitivity, is difficult to migrate after curing, and has excellent yellowing resistance. In addition, the photoinitiator also has the characteristics of simple synthesis, no need of expensive catalyst in the synthesis process, excellent curing speed and the like, and can be widely applied to the field of photocuring.

Classes IPC  ?

• C07C 259/06 - Composés contenant des groupes carboxyle, un atome d'oxygène d'un groupe carboxyle étant remplacé par un atome d'azote, cet atome d'azote étant lié de plus à un atome d'oxygène et ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso sans remplacement de l'autre atome d'oxygène du groupe carboxyle, p. ex. acides hydroxamiques ayant des atomes de carbone de groupes hydroxamique liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone acycliques
• C07C 323/47 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant au moins un des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, lié de plus à d'autres hétéro-atomes à des atomes d'oxygène
• C07C 319/20 - Préparation de thiols, de sulfures, d'hydropolysulfures ou de polysulfures de sulfures par des réactions n'impliquant pas la formation de groupes sulfure
• C07D 513/04 - Systèmes condensés en ortho
• C07D 513/14 - Systèmes condensés en ortho
• C07D 213/80 - AcidesEsters en position 3
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles

Abrégé

11 represents hydrogen or methyl. The weight average molecular weight of the polymer ranges from 250 to 1100. The oxetane polymer is simple to synthesize, the synthesis process does not use halogen-containing raw materials, no halogen residue exists, no other associated product is generated, and the atomic utilization rate is high. The oxetane polymer is low in cost and viscosity, and is convenient to use.

Classes IPC  ?

• C08G 65/28 - Éthers cycliques et composés hydroxylés
• C08L 71/02 - Oxydes des polyalkylènes

Abrégé

123123441235612032020 branched alkylene, with n being 1, 2 or 3. When the compound of structural general formula (I) is applied to the curing composition, the hardness and flexibility of the cured product of the curing composition can be improved, and the advantage of the excellent adhesion of oxetane compounds can be maintained.

Classes IPC  ?

• C07D 405/14 - Composés hétérocycliques contenant à la fois un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle et un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
• C08K 5/3477 - Cycles à six chaînons
• C08L 101/00 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés
• C08G 65/02 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant une liaison éther dans la chaîne principale de la macromolécule à partir d'éthers cycliques par ouverture d'un hétérocycle

Abrégé

Provided are an oxetane-modified isocyanurate, a preparation method therefor, an energy curable composition and the use thereof. The preparation method comprises: carrying out a first polymerization reaction on raw materials a and b to obtain a first polymerization product system; carrying out a second polymerization reaction on the first polymerization product system and a raw material c to obtain oxetane-modified isocyanurate. Since the rings in the above-mentioned oxetane compounds have a similar ring strain and higher alkalinity, and exhibit a longer induction period and a low degree of bulk polymerization, same also have the characteristics of a low shrinkage percentage during curing and excellent mechanical properties, heat resistance, weather resistance and transparency. The modification of isocyanurate by using oxetane compounds with the above-mentioned structure is beneficial for improving the curing properties, hardness, heat resistance and weather resistance of isocyanurate. In addition, the modified isocyanurate has better adhesion to the substrate after curing due to the introduction of heteroatoms.

Classes IPC  ?

• C07D 405/14 - Composés hétérocycliques contenant à la fois un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle et un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
• C08G 65/22 - Éthers cycliques possédant en dehors du cycle au moins un atome autre que le carbone et l'hydrogène

Abrégé

1231444120220320420420440440620420512020. Cured products comprising the isocyanurate compound of the present application have excellent curing properties.

Classes IPC  ?

• C07D 405/12 - Composés hétérocycliques contenant à la fois un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle et un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
• C07D 405/14 - Composés hétérocycliques contenant à la fois un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle et un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
• C08G 65/22 - Éthers cycliques possédant en dehors du cycle au moins un atome autre que le carbone et l'hydrogène

Abrégé

115214034024040 substituted or unsubstituted alkenyl; and carbon or hydrogen in the linear alkyl, branched alkyl, and alkenyl may be substituted with one or more ether bonds, carbon base, phenyl, substituted phenyl, or (II), and the oligomer contains hydroxyl. The present application avoids the escape of gas due to volatilization of an oxetane monomer in a curing process, thereby solving the problem of short service life of a packaging material.

Classes IPC  ?

• C08G 65/18 - Oxétanes
• C09J 163/00 - Adhésifs à base de résines époxyAdhésifs à base de dérivés des résines époxy
• C08L 63/00 - Compositions contenant des résines époxyCompositions contenant des dérivés des résines époxy
• G02B 5/30 - Éléments polarisants

Abrégé

115214034063031010 substituted or unsubstituted heteroaryl groups. The application of the photocurable composition containing an oxetane compound to the manufacturing of an optical film has the advantages of easy demolding and high yield.

Classes IPC  ?

• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• G02B 3/08 - Lentilles simples ou composées à surfaces non sphériques à surfaces discontinues, p. ex. lentille de Fresnel
• G02B 5/18 - Grilles de diffraction
• G02B 5/04 - Prismes

Abrégé

11521403 40 14040 alkenyl, and the carbon or hydrogen in the linear alkyl, branched alkyl, and alkenyl groups may be substituted with one or more ether bonds, carbon groups, phenyl groups, substituted phenyl groups, or (bb). By using the characteristics of the oxetane monomer that can be photoinitiated for ring opening and has a low activity compared with ternary epoxy, the stability of the system after photo-initiation is effectively ensured, a low viscosity and an excellent wettability can be kept during injection, and the curing time can be shortened during molding.

Classes IPC  ?

• C08L 63/02 - Éthers polyglycidyliques des bis-phénols
• C09D 7/00 - Caractéristiques de compositions de revêtement non prévues dans le groupe Procédés pour l’incorporation d’ingrédients dans des compositions de revêtement
• C08J 5/24 - Imprégnation de matériaux avec des prépolymères pouvant être polymérisés en place, p. ex. fabrication des "prepregs"

Abrégé

Disclosed are a thiophene structure-containing oxime ester photoinitiator, a preparation method therefor, and a photosensitive resin composition containing the photoinitiator and capable of serving as an alkaline photographic developer. The photoinitiator has the structure as represented by formula A, B, C, D, or E. The photosensitive resin composition is free of gas outflow when exposed to light and has excellent film-forming properties such as line width, edge line neatness, and development process tolerance.

Classes IPC  ?

• C07D 333/76 - Dibenzothiophènes
• C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
• G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques

Abrégé

12312011011012020 alkylamino, wherein the methylene group in each group may be optionally substituted with oxygen, sulfur or an imino group; and a represents any integer of 0-4, b represents any integer of 0-3, and C represents any integer of 0-5. The pyrazoline compound has an absorption waveband of 380-410 nm, is suitable for use as a sensitizer, and can improve the sensitivity of a photocuring system. The pyrazoline compound may enable a composition to have characteristics of a high sensitivity, a high resolution, and high adhesion.

Classes IPC  ?

• C07D 231/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 2 ou diazole-1, 2 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles comportant une liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînon cyclique et chaînon non cyclique
• C08F 220/00 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles

Abrégé

2 represents an amplification group. Said compound shows significantly enhanced solubility and photosensitivity compared with unsubstituted triphenylsulfonium salts, and has significantly advantageous performance compared with prior art improved substitutes.

Classes IPC  ?

• C07C 381/12 - Composés sulfonium
• C07D 209/88 - CarbazolesCarbazoles hydrogénés avec des hétéro-atomes ou des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du système cyclique
• C07D 307/91 - DibenzofurannesDibenzofurannes hydrogénés
• C07D 333/76 - Dibenzothiophènes
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles

Abrégé

The present invention provides a sulfonium salt photoinitiator, a preparation method therefor, a photocurable composition comprising sulfonium salt photoinitiator, and use thereof. The sulfonium salt photoinitiator has a structure represented by formula (I). By modifying the structure of an existing sulfonium salt photoinitiator, a sulfonium salt photoinitiator having a new structure is obtained, which can exhibits a higher photosensitivity and an excellent as well as characteristics of low odor and low toxicity, when being used in a photocurable composition. This is significantly superior to existing similar photoinitiators.

Classes IPC  ?

• C07C 381/12 - Composés sulfonium
• C07C 303/40 - Préparation d'esters ou d'amides d'acides sulfuriquesPréparation d'acides sulfoniques ou de leurs esters, halogénures, anhydrides ou amides d'amides d'acides sulfoniques par des réactions n'impliquant pas la formation de groupes sulfonamide
• C07C 309/06 - Acides sulfoniques ayant des groupes sulfo liés à des atomes de carbone acycliques d'un squelette carboné acyclique saturé contenant des atomes d'halogène ou des groupes nitro ou nitroso liés au squelette carboné
• C07C 315/04 - Préparation de sulfonesPréparation de sulfoxydes par des réactions n'impliquant pas la formation de groupes sulfone ou sulfoxyde
• C07C 317/04 - SulfonesSulfoxydes ayant des groupes sulfone ou sulfoxyde liés à des atomes de carbone acycliques d'un squelette carboné acyclique saturé
• C07F 5/02 - Composés du bore
• C07F 9/52 - Halogénophosphines
• C07C 303/32 - Préparation d'esters ou d'amides d'acides sulfuriquesPréparation d'acides sulfoniques ou de leurs esters, halogénures, anhydrides ou amides de sels d'acides sulfoniques
• C07C 311/48 - Amides d'acides sulfoniques, c.-à-d. composés comportant des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, de groupes sulfoniques remplacés par des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso ayant des atomes d'azote de groupes sulfonamide liés de plus à un autre hétéro-atome

Abrégé

22322-O(PO) enables an EO/PO modified pyrazoline organic matter to have excellent compatibility with other components in a photocuring system, and the organic matter is solid, and is easy to add and use. In addition, the ethoxy/propoxy modified pyrazoline organic matter has an absorption band of 360-400 nm, and is thus particularly suitable for use as a sensitizer in the photocuring system (such as a system containing a bisimidazole photoinitiator), thereby greatly improving the sensitivity of the photocuring system. On this basis, the EO/PO modified pyrazoline organic matter has high sensitivity enhancement, features low usage, is solid, and is easy to add and use.

Classes IPC  ?

• C07D 231/04 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 2 ou diazole-1, 2 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles

Abrégé

nn, and X being a halogen; and separating the etherification product system so as to obtain the oxetane derivative. The microreactor is used for greatly improving the mass transfer and heat transfer properties of the reaction system, reducing the reaction time, improving the production efficiency, increasing the yield of the product, achieving the continuity and automation of the process, and improving the safety of the process. In addition, the reaction device required by the described synthesis process has a small size, requires less manpower, and has high safety.

Classes IPC  ?

• C07D 305/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à quatre chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes du cycle

Abrégé

The present invention provides a method for synthesizing an oxetane compound by a microreactor. The synthesis method comprises: introducing trimethylolpropane and carbonate into the microreactor in the presence of an alkaline catalyst, and synthesizing the oxetane compound by means of a micro-reaction continuous flow process under an inert solvent or a solvent-free condition. Compared with conventional reactors, the microreactor has the advantages of being high in heat transfer mass transfer coefficient, good in mixing performance, easy to control in temperature, safe and controllable in process and the like. The three oxetane products are produced by utilizing the advantages of the microreactor, thereby greatly improving the mass transfer heat transfer performance of a reaction system, shortening the reaction time, improving the production efficiency, particularly avoiding the long-time high-temperature process in the pyrolysis process, reducing the production of high-boiling-point by-products, improving the yield, realizing continuity and automation of the process, and improving process safety. The reaction device required in the synthesis process is small in size and high in safety, and occupies a small area in a production site.

Classes IPC  ?

• C07D 305/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à quatre chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes du cycle

Abrégé

Disclosed in the present invention are a photoinitiator, a preparation method therefor and an application thereof, and a photocurable composition. The photoinitiator has the structure represented by formula (I). The photoinitiator of the present invention, the compound having structural formula I, has the features of high sensitivity, high molecular weight (MW>800), low odor, low migration, easy preparation, and low costs, and has strong absorption in the long-wavelength UV range of 365-405 nm, so that the photoinitiator can be well matched with a UV-LED light source. When the photoinitiator is applied to a photocurable composition, the advantages of low migration and long-wavelength initiation of the photoinitiator can be exerted. Therefore, the resulting photocurable ink product can be safely used in packaging materials of food, medicine, etc.

Classes IPC  ?

• C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
• C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
• C09D 11/101 - Encres spécialement adaptées aux procédés d’imprimerie mettant en œuvre la réticulation par énergie ondulatoire ou par radiation de particules, p. ex. réticulation par UV qui suit l’impression
• G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
• C07C 50/18 - Anthraquinones, c.-à-d. C14H8O2
• C07C 13/567 - FluorènesFluorènes complètement ou partiellement hydrogénés

Abrégé

1620620234511032062067819271101158110115911010 alkyl. When the above photo-curing resin is used in combination with an alkali-soluble resin, a film layer structure having a high substrate adhesion, a good resistance to alkali dissolution and a good heat resistance can be formed.

Classes IPC  ?

• C08F 220/14 - Esters méthyliques
• C08F 230/08 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et contenant du phosphore, du sélénium, du tellure ou un métal contenant un métal contenant du silicium
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• G03F 7/075 - Composés contenant du silicium

Abrégé

A sulfimide photo acid generator capable of efficiently generating an acid at an I-ray, a photosensitive composition and a preparation method therefor, a pattern forming method, and applications of a sulfimide photo acid generator and a photosensitive composition. The sulfimide photo acid generator has a structure shown in the following general formula (A). The photo acid generator has high sensitivity, high solubility, and excellent heat resistance to an active energy ray having the wavelength of 300-450 nm, particularly 365 nm. The photosensitive composition comprises the following raw materials: a resin component and a sulfonate photo acid generator. A positive photosensitive composition can be used for the dissolution and exposure of an alkali developing liquid, and a pattern having an excellent resolution ratio, excellent sensitivity, and a good contrast ratio is formed.

Classes IPC  ?

• G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet

Abrégé

Disclosed are a sulfimide photo-acid generator, a photosensitive resin composition, a patterning method, and a use of the photosensitive resin composition. The photosensitive resin composition comprises a resin component and an acid generator, wherein the acid generator is a sulfimide photo-acid generator, which has a structure as represented by general formula (A), which formula is as follows. Molecules of the sulfimide photo-acid generator of general formula (A) contain a sulfonate group, which group is directly linked with an imide structure. The structure has photosensitive cracking characteristics, and can be photolyzed under the irradiation of an active energy ray to produce stronger sulfonic acid. When the the photosensitive resin composition is applied to an alkali developing solution to dissolve an exposed positive-type photosensitive composition, a pattern with an excellent sensitivity and a good contrast ratio can be formed due to the increase in the photosensibility of the sulfimide photo-acid generator; even though a fine pattern is formed, same can also have a sufficiently high sensitivity.

Classes IPC  ?

• C07D 401/04 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote contenant deux hétérocycles liés par une liaison directe de chaînon cyclique à chaînon cyclique
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• C09D 11/03 - Encres d’imprimerie caractérisées par des particularités autres que la nature chimique du liant
• C09D 11/38 - Encres pour l'impression à jet d'encre caractérisées par des additifs non macromoléculaires autres que les solvants, les pigments ou les colorants
• C09D 7/63 - Adjuvants non macromoléculaires organiques

Abrégé

A group of polyfunctional oxetane-based compounds having a structure as represented by general formula (I) or a product obtained by a reaction between a compound of general formula (I) and epichlorohydrin, an ester compound, or an isocyanate compound. When these polyfunctional oxetane-based compounds are used as cation polymerizable monomers in combination with an epoxy compound, the curing speed is high, and the cured product has highly excellent hardness, flexibility, adherence, and heat resistance.

Classes IPC  ?

• C07D 305/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à quatre chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes du cycle
• C08G 59/18 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde
• C08G 65/18 - Oxétanes
• C07D 407/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
• C07D 407/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant au moins trois hétérocycles
• C08G 65/08 - Oxiranes saturés

Abrégé

33 can increase the number of free radicals produced by the photoinitiator per unit mass, thereby facilitating the improvement of sensitivity of the photoinitiator. Moreover, because the photoinitiator has a larger molecular weight and a lighter color, the photoinitiator further has the characteristics of less liability to migration and excellent yellow resistance, and therefore, the photoinitiator has the advantages of almost no VOC emission, low odor and excellent yellow resistance.

Classes IPC  ?

• C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
• C07D 295/108 - Composés hétérocycliques contenant des cycles polyméthylène imine d'au moins cinq chaînons, des cycles aza-3 bicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine ou thiomorpholine, ne comportant que des atomes d'hydrogène liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes d'azote du cycle substitués par des atomes d'oxygène ou de soufre liés par des liaisons doubles avec les atomes d'azote du cycle, ainsi que les atomes d'oxygène ou de soufre liés par des liaisons doubles, liés à la même chaîne carbonée, qui n'est pas interrompue par des carbocycles à une chaîne acyclique saturée
• C07D 295/112 - Composés hétérocycliques contenant des cycles polyméthylène imine d'au moins cinq chaînons, des cycles aza-3 bicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine ou thiomorpholine, ne comportant que des atomes d'hydrogène liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes d'azote du cycle substitués par des atomes d'oxygène ou de soufre liés par des liaisons doubles avec les atomes d'azote du cycle et les atomes d'oxygène ou de soufre liés par des liaisons doubles séparés par des carbocycles ou par des chaînes carbonées interrompues par des carbocycles
• C07D 333/10 - Thiophène
• C07D 307/34 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à cinq chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles comportant deux ou trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
• C07D 213/04 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons, non condensés avec d'autres cycles, ne comportant qu'un atome d'azote comme unique hétéro-atome du cycle et avec au moins trois doubles liaisons entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques comportant trois liaisons doubles ne comportant pas de liaison entre l'atome d'azote du cycle et un chaînon non cyclique ou ne comportant que des atomes d'hydrogène ou de carbone liés directement à l'atome d'azote du cycle
• C07C 319/14 - Préparation de thiols, de sulfures, d'hydropolysulfures ou de polysulfures de sulfures
• C07C 49/83 - Cétones comportant un groupe cétone lié à un cycle aromatique à six chaînons contenant des groupes hydroxyle polycycliques
• C07C 205/45 - Composés contenant des groupes nitro liés à un squelette carboné le squelette carboné étant substitué de plus par au moins un atome d'oxygène lié par une liaison double, ne faisant pas partie d'un groupe —CHO
• C07C 45/64 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogènePréparation des chélates de ces composés par des réactions ne créant pas de groupe C=O par introduction de groupes fonctionnels contenant de l'oxygène lié uniquement par liaison simple
• C07C 201/12 - Préparation de composés nitrés par des réactions ne créant pas de groupes nitro

Abrégé

Provided are a photocurable adhesive composition, a photocurable adhesive, a polarizer and an optical device. The photocurable adhesive composition comprises a component A: an oxetane compound (aa) containing the following structure, in which R represents phenyl, biphenyl, or naphthyl, and 0 ≤ n ≤ 4; a component B: a compound having an epoxy group; and a component C: a cationic polymerization photoinitiator. By selecting and using the specific oxetane compound, the compound having an epoxy group, and the cationic polymerization photoinitiator, the adhesive force, curability and adhesion of the formed photocurable adhesive to the polarizer and protective film are improved.

Classes IPC  ?

• C09J 133/12 - Homopolymères ou copolymères du méthacrylate de méthyle
• C09J 4/02 - Monomères acryliques
• C09J 4/06 - Adhésifs à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
• G02B 5/30 - Éléments polarisants
• G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
• B32B 27/08 - Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique comme seul composant ou composant principal d'une couche adjacente à une autre couche d'une substance spécifique d'une résine synthétique d'une sorte différente
• C09J 11/06 - Additifs non macromoléculaires organiques

Abrégé

This invention discloses a fluorene polyfunctional photoinitiator as represented by general formula (I), a photosensitive resin composition containing the same, the preparation of the same, and uses of the two. This compound has the advantages of simple synthesis, low cost, and good solubility, and has good application effects in photocurable compositions. Compared with conventional small molecule photoinitiators, it is not only excellent in photoinitiation activity, but also has the advantages such as low mobility, low odor, and yellowing resistance. The composition has high photosensitivity and good developability, high resolution, and excellent adaptation to a substrate, and is very suitable for producing a black matrix having high light-shielding property, a high-precision and high quality color filter and a liquid crystal display device, and can also be used in optical spacers and ribs, photoresist, wet film, dry film and so on.

Classes IPC  ?

• G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
• C07C 45/46 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogènePréparation des chélates de ces composés par condensation par réactions de Friedel-Crafts
• C07C 49/215 - Composés non saturés comportant des groupes cétone liés à des atomes de carbone acycliques contenant des cycles aromatiques à six chaînons polycycliques
• G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
• G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
• G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p. ex. émaillage

Abrégé

122 represents an amplification group. Said compound shows significantly enhanced solubility and photosensitivity compared with unsubstituted triphenylphosphonium salts, and has significantly advantageous performance compared with prior art improved substitutes.

Classes IPC  ?

• C07C 381/12 - Composés sulfonium
• G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet

Abrégé

Provided are an epoxy modified acrylic resin and a preparation method therefor, and an energy-curable composition containing epoxy modified acrylic resin and application. A branched chain of at least one repeat unit in the acrylic resin is grafted with one or more oxetane groups, and each oxetane group separately has the structure as represented by general formula (I), (II), or (III). After the branched chain of the acrylic resin is covalently grafted with the oxetane group, the epoxy modified acrylic resin is obtained. A coating prepared by using the composition containing the epoxy modified acrylic resin has good flexibility, as well as high adhesion and a great curing film forming speed for a coated substrate. The covalent grafting reaction does not affect the main chain structure of an original acrylic resin, and thus during downstream application, it is not necessary to change original devices and production processes, so that the investment costs are low.

Classes IPC  ?

• C07D 305/00 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à quatre chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle
• C08G 59/02 - Polycondensats contenant plusieurs groupes époxyde par molécule
• C07D 305/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à quatre chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes du cycle
• C08L 33/08 - Homopolymères ou copolymères des esters de l'acide acrylique

Abrégé

A fluorenylaminoketone photoinitiator, a preparation method thereof, and a UV photocurable composition containing same. The photoinitiator has a compound having a structure as shown in general formula (I) or a derivative compound thereof. The fluorenylaminoketone photoinitiator may effectively improve the solubility of traditional photoinitiators and reduce the use of micromolecular active diluents, and may also have high sensitivity and good deep-layer curing. It has very good promotion effect on popularization and application of photocurable compositions, particularly colored ink systems, in the field of photocuring. A UV photocurable composition containing such a fluorenylaminoketone photoinitiator can have an advantage in terms of high sensitivity, no residue after development, good pattern integrity, no or little odor of coating layers after curing, or excellent yellowing resistance.

Classes IPC  ?

• C08F 2/46 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire
• C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
• C08G 61/04 - Composés macromoléculaires contenant uniquement des atomes de carbone dans la chaîne principale de la molécule, p. ex. polyxylylènes uniquement des atomes de carbone aliphatiques
• C09D 4/00 - Compositions de revêtement, p. ex. peintures, vernis ou vernis-laques, à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable
• C07C 45/41 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogènePréparation des chélates de ces composés par hydrogénolyse ou par réduction de groupes carboxyle ou de leurs dérivés fonctionnels
• C07C 45/63 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogènePréparation des chélates de ces composés par des réactions ne créant pas de groupe C=O par introduction d'atomes d'halogènePréparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogènePréparation des chélates de ces composés par des réactions ne créant pas de groupe C=O par substitution d'atomes d'halogène par des atomes d'autres halogènes
• C07C 221/00 - Préparation de composés contenant des groupes amino et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons doubles, liés au même squelette carboné
• C07C 225/18 - Composés contenant des groupes amino et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons doubles, liés au même squelette carboné, au moins un des atomes d'oxygène, liés par des liaisons doubles, ne faisant pas partie d'un groupe —CHO, p. ex. aminocétones ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone acycliques du squelette carboné le squelette carboné étant non saturé et contenant des cycles aromatiques à six chaînons le squelette carboné contenant aussi des cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
• C07D 265/30 - Oxazines-1, 4Oxazines-1, 4 hydrogénées non condensées avec d'autres cycles
• C07D 295/135 - Composés hétérocycliques contenant des cycles polyméthylène imine d'au moins cinq chaînons, des cycles aza-3 bicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine ou thiomorpholine, ne comportant que des atomes d'hydrogène liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes d'azote du cycle substitués par des atomes d'azote liés par des liaisons simples ou doubles avec les atomes d'azote du cycle et les atomes d'azote substituants séparés par des carbocycles ou par des chaînes carbonées interrompues par des carbocycles
• C09D 11/037 - Encres d’imprimerie caractérisées par des particularités autres que la nature chimique du liant caractérisées par le pigment
• C09D 11/101 - Encres spécialement adaptées aux procédés d’imprimerie mettant en œuvre la réticulation par énergie ondulatoire ou par radiation de particules, p. ex. réticulation par UV qui suit l’impression
• C09D 11/107 - Encres d’imprimerie à base de résines artificielles contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone à partir d'acides non saturés ou de leurs dérivés
• G03F 7/029 - Composés inorganiquesComposés d'oniumComposés organiques contenant des hétéro-atomes autres que l'oxygène, l'azote ou le soufre
• C08K 5/17 - AminesComposés d'ammonium quaternaire
• C08K 5/3435 - Pipéridines
• C08K 5/357 - Cycles à six chaînons

Abrégé

A hybrid photosensitive resin having a structure represented by general formula (I) and contains an oxetanyl functional group and a (meth)acryloxy functional group. The functional groups are coordinated with each other and the functionality is adjustable and controllable. The hybrid photosensitive resin is highly suitable for radical-cation photocuring systems, there is no problem of polymerization inhibition by oxygen, and its cured film has high hardness, good flexibility, excellent adherence, and excellent heat resistance.

Classes IPC  ?

• G03F 7/029 - Composés inorganiquesComposés d'oniumComposés organiques contenant des hétéro-atomes autres que l'oxygène, l'azote ou le soufre
• C09D 133/14 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters contenant des atomes d'halogène, d'azote, de soufre ou d'oxygène en plus de l'oxygène du radical carboxyle
• C07D 305/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à quatre chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes du cycle
• C08F 20/68 - Esters
• C08F 22/20 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
• C09D 135/02 - Homopolymères ou copolymères d'esters

Abrégé

This invention discloses a novel cationic photoinitiator and a preparation method and use thereof. The cationic photoinitiator has a structure as represented by general formula (I) below. It can match a longer absorption wavelength in the process of application and has an outstanding photosensitive property, and has characteristics of no proneness to migration and good yellowing resistance.

Classes IPC  ?

• C08K 5/36 - Composés contenant du soufre, du sélénium ou du tellure
• C07D 335/16 - Atomes d'oxygène, p. ex. thioxanthones
• C07D 333/76 - Dibenzothiophènes
• C07C 381/12 - Composés sulfonium
• C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• C08G 59/68 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde caractérisées par les catalyseurs utilisés
• C09K 3/00 - Substances non couvertes ailleurs
• C07D 327/08 - Cycles à six chaînons condensés en [b, e] avec deux carbocycles à six chaînons

Abrégé

The present invention provides a photoinitiator containing fluorine fluorene oxime esters, a photocurable composition comprising the photoinitiator, and application of the photoinitiator. The photoinitiator has a structure represented by general formula (I) or (II). In the photoinitiator containing fluorine fluorene oxime esters represented by general formula (I) or (II) provided by the present application, the photoinitiator has high initiation efficiency due to the introduction of fluorine-containing groups. Moreover, due to the structural particularity, the photoinitiator further has good surface drying performance, good surface curing effect, non-susceptibility to migration, etc. On this basis, the photoinitiator has non-susceptibility to migration, high initiation efficiency, good surface drying performance, and good surface curing effect, and thus has a wide application prospect.

Classes IPC  ?

• C07C 17/25 - Préparation d'hydrocarbures halogénés par élimination d'halogénures d'hydrogène à partir d'hydrocarbures halogénés
• C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible

Abrégé

4 is a hydroxy group or a N-morpholinyl group. In some embodiments, the fluorene-based photoinitiator comprises a structure represented by Formula II.

Classes IPC  ?

• C07C 49/21 - Composés non saturés comportant des groupes cétone liés à des atomes de carbone acycliques contenant des cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
• C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
• G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
• C07C 225/22 - Composés contenant des groupes amino et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons doubles, liés au même squelette carboné, au moins un des atomes d'oxygène, liés par des liaisons doubles, ne faisant pas partie d'un groupe —CHO, p. ex. aminocétones ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons du squelette carboné
• C07D 295/104 - Composés hétérocycliques contenant des cycles polyméthylène imine d'au moins cinq chaînons, des cycles aza-3 bicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine ou thiomorpholine, ne comportant que des atomes d'hydrogène liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes d'azote du cycle substitués par des atomes d'oxygène ou de soufre liés par des liaisons doubles avec les atomes d'azote du cycle, ainsi que les atomes d'oxygène ou de soufre liés par des liaisons doubles, liés à la même chaîne carbonée, qui n'est pas interrompue par des carbocycles
• C07C 45/63 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogènePréparation des chélates de ces composés par des réactions ne créant pas de groupe C=O par introduction d'atomes d'halogènePréparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogènePréparation des chélates de ces composés par des réactions ne créant pas de groupe C=O par substitution d'atomes d'halogène par des atomes d'autres halogènes
• C07C 323/22 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons doubles, liés au même squelette carboné
• C07C 69/738 - Esters d'acides céto-carboxyliques
• C09D 11/101 - Encres spécialement adaptées aux procédés d’imprimerie mettant en œuvre la réticulation par énergie ondulatoire ou par radiation de particules, p. ex. réticulation par UV qui suit l’impression
• C07C 45/46 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogènePréparation des chélates de ces composés par condensation par réactions de Friedel-Crafts
• C07C 45/64 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogènePréparation des chélates de ces composés par des réactions ne créant pas de groupe C=O par introduction de groupes fonctionnels contenant de l'oxygène lié uniquement par liaison simple
• C07C 67/03 - Préparation d'esters d'acides carboxyliques par réaction d'un groupe ester avec un groupe hydroxyle
• C09D 175/16 - Polyuréthanes comportant des liaisons non saturées carbone-carbone comportant des liaisons non saturées carbone-carbone terminales
• C07C 49/84 - Cétones comportant un groupe cétone lié à un cycle aromatique à six chaînons contenant des groupes éther, des groupes , des groupes ou des groupes
• C08F 290/06 - Polymères prévus par la sous-classe
• C07C 67/343 - Préparation d'esters d'acides carboxyliques par modification de la partie acide de l'ester sans introduction d'un groupe ester par isomérisationPréparation d'esters d'acides carboxyliques par modification de la partie acide de l'ester sans introduction d'un groupe ester par modification de la taille du squelette carboné par augmentation du nombre d'atomes de carbone
• C07C 49/215 - Composés non saturés comportant des groupes cétone liés à des atomes de carbone acycliques contenant des cycles aromatiques à six chaînons polycycliques
• C08F 2/46 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire
• C09D 11/322 - Encres à pigments
• C09D 11/38 - Encres pour l'impression à jet d'encre caractérisées par des additifs non macromoléculaires autres que les solvants, les pigments ou les colorants
• C09D 133/08 - Homopolymères ou copolymères d'esters de l'acide acrylique
• C08F 20/00 - Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
• C09D 167/00 - Compositions de revêtement à base de polyesters obtenus par des réactions créant une liaison ester carboxylique dans la chaîne principaleCompositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
• C09D 175/04 - Polyuréthanes

Abrégé

A group of polyfunctional oxetane-based compounds having a structure as represented by general formula (I) or a product obtained by a reaction between a compound of general formula (I) and epichlorohydrin, an ester compound, or an isocyanate compound. When these polyfunctional oxetane-based compounds are used as cation polymerizable monomers in combination with an epoxy compound, the curing speed is high, and the cured product has highly excellent hardness, flexibility, adherence, and heat resistance.

Classes IPC  ?

• C07D 305/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à quatre chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes du cycle
• C08G 59/18 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde
• C08G 65/18 - Oxétanes
• C07D 407/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
• C07D 407/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant au moins trois hétérocycles
• C08G 65/08 - Oxiranes saturés

Abrégé

Provided are a sulfonium salt photoinitiator, a preparation method therefor, a photocurable composition containing the sulfonium salt photoinitiator, and the use thereof. The sulfonium salt photoinitiator has a structure as represented by formula (I). By modifying the structure of an existing sulfonium salt photoinitiator, a sulfonium salt photoinitiator with a novel structure is obtained. The sulfonium salt photoinitiator can exhibit a higher sensitivity when applied to a photocurable composition, is excellent in terms of solubility, and has the characteristics of a low odor and a low toxicity, and is obviously superior to existing photoinitiators of the same type.

Classes IPC  ?

• C07C 381/12 - Composés sulfonium
• C09D 163/10 - Résines époxy modifiées par des composés non saturés

Abrégé

Disclosed is an oxetane compound used in a cation photocurable system. The oxetane compound is formed by a nucleophilic substitution reaction of a compound containing at least one hydroxyl and at least one oxetane group with a halohydrocarbon, and same is not sensitive to humidity, and has advantages such as a high reactive activity, low odor and viscosity, and strong adhesion.

Classes IPC  ?

• C07D 305/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à quatre chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes du cycle
• C07D 305/00 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à quatre chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle
• C08G 59/02 - Polycondensats contenant plusieurs groupes époxyde par molécule

Abrégé

Disclosed is a new oxetane monomer compound, which has a structure as shown in general formula (I) or is an ester of a compound of general formula (I). The monomer compound has a high reaction activity. After being applied to a cationic photocurable system, the cured product has excellent hardness, flexibility and adhesion performance. Thus, the monomer compound has better overall application performance compared to existing similar products.

Classes IPC  ?

• C07D 305/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à quatre chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes du cycle
• C08G 65/18 - Oxétanes

Abrégé

Disclosed are a fluorene oxime ester photoinitiator containing a polymerizable group, a preparation method and the use thereof, the fluorene oxime ester photoinitiator has the structure as shown in general formula (I), wherein R2 represents a polymerizable group. Also disclosed are a light curable composition and the use thereof, the light curable composition comprises the photoinitiator containing a fluorene oxime ester and a polymer monomer.

Classes IPC  ?

• C07C 13/567 - FluorènesFluorènes complètement ou partiellement hydrogénés
• C07C 251/66 - Oximes ayant des atomes d'oxygène de groupes oxyimino estérifiés par des acides carboxyliques avec les groupes carboxyle estérifiants liés à des atomes d'hydrogène, à des atomes de carbone acycliques ou à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
• G02B 5/20 - Filtres

Abrégé

Disclosed are a fluorenylaminoketone photoinitiator, a preparation method thereof and a UV photocurable composition containing same. The photoinitiator comprises a compound having a structure as shown in general formula (I) or a derivative compound thereof (I). The fluorenylaminoketone photoinitiator provided in the present invention may effectively improve the solubility of traditional photoinitiators and reduce the use of small-molecular activated diluents, and has a high sensitivity, a good deep-curing effect, and a good promotion effect for the extended application of the photocurable compositions, especially for coloured ink systems in the field of photocuring. The UV photocurable composition containing the fluorenylaminoketone photoinitiator of the present invention has a high sensitivity, no residue after development and a good pattern integrity, and the coating after curing has either no odour or little odour, and also has an excellent yellowing resistance.

Classes IPC  ?

• C07D 265/30 - Oxazines-1, 4Oxazines-1, 4 hydrogénées non condensées avec d'autres cycles
• C07D 211/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles pyridiques hydrogénés, non condensés avec d'autres cycles avec uniquement des atomes d'hydrogène et de carbone liés directement à l'atome d'azote du cycle ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
• C07C 45/46 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogènePréparation des chélates de ces composés par condensation par réactions de Friedel-Crafts
• C07C 45/63 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogènePréparation des chélates de ces composés par des réactions ne créant pas de groupe C=O par introduction d'atomes d'halogènePréparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogènePréparation des chélates de ces composés par des réactions ne créant pas de groupe C=O par substitution d'atomes d'halogène par des atomes d'autres halogènes
• C07C 45/61 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogènePréparation des chélates de ces composés par des réactions ne créant pas de groupe C=O
• C07C 45/78 - SéparationPurificationStabilisationEmploi d'additifs
• C07C 45/81 - SéparationPurificationStabilisationEmploi d'additifs par modification de l'état physique, p. ex. par cristallisation
• C07C 49/788 - Cétones comportant un groupe cétone lié à un cycle aromatique à six chaînons polycycliques des groupes cétone étant liés à un système cyclique condensé
• C07D 401/10 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote contenant deux hétérocycles liés par une chaîne carbonée contenant des cycles aromatiques
• C07D 413/10 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'azote et d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne carbonée contenant des cycles aromatiques
• C09D 11/101 - Encres spécialement adaptées aux procédés d’imprimerie mettant en œuvre la réticulation par énergie ondulatoire ou par radiation de particules, p. ex. réticulation par UV qui suit l’impression

Abrégé

Provided are a fluorene photoinitiator, a preparation method therefor, a photocurable composition having same, and the use of same in the photocuring field. The fluorene photoinitiator has a structure shown by formula (I), wherein X is -A-(X')n; A is selected from heteroatoms selected from O, N or S; X' is selected from a C1-C20 linear or branched alkyl, a C3-C8 cycloalkyl, and a C1-C10 alkyl substituted with a C3-C8 cycloalkyl, or one or more of the carbon atoms in X is replaced with a heteroatom; n is 1 or 2; and R4 is a hydroxy or N-morpholinyl; or, the fluorene photoinitiator includes a structure shown by formula (II). The introduction of a new group on an existing fluorene structure not only increases the molecular weight of the photoinitiator, but also improves the relevant performances, such as initiation efficiency, of the photoinitiator.

Classes IPC  ?

• C07C 49/788 - Cétones comportant un groupe cétone lié à un cycle aromatique à six chaînons polycycliques des groupes cétone étant liés à un système cyclique condensé
• C07C 45/46 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogènePréparation des chélates de ces composés par condensation par réactions de Friedel-Crafts
• G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe

Abrégé

Disclosed are a 9-phenylacridine macromolecule photosensitizer, and a preparing method and use thereof. The 9-phenylacridine macromolecule photosensitizer comprises at least one of the compounds having a structure as shown in formula (I), in which R1 is a linear or branched C1-C60 alkyl group with a valency of m + n, wherein a -CH2- thereof may be optionally substituted by oxygen, sulphur or 1,4-phenylene; each A independently represents -[(CHR4)x-O]y-, wherein each R4 independently represents hydrogen, a methyl group, or an ethyl group, x is an integer of 1-10, and y is an integer of 1-20; R2 represents a linear or branched C1-C20 alkylene group, wherein a -CH2- thereof may be optionally substituted by oxygen, sulphur or a phenylene; R3 represents hydrogen or a substituent group; m represents an integer of 0-20, and n represents an integer of 1-20. When used in a photocuring system, the photosensitizer has good compatibility and good photosensitivity improving effect, and a film prepared therefrom has excellent resolution, adhesion, and high solubility in water.

Classes IPC  ?

• C07D 219/02 - Composés hétérocycliques contenant les systèmes cycliques de l'acridine ou de l'acridine hydrogénée avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du système cyclique
• C07D 219/00 - Composés hétérocycliques contenant les systèmes cycliques de l'acridine ou de l'acridine hydrogénée
• C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
• C08F 2/46 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire

Abrégé

Disclosed are a novel cationic photoinitiator, and a preparation method therefor and applications thereof. The cationic photoinitiator has a structure represented by formula (I), can match a longer absorption wavelength in the application, has an outstanding photosensitive property and has the characteristics of not proneness to migration and yellowing resistance.

Classes IPC  ?

• C07C 381/12 - Composés sulfonium
• C07D 333/76 - Dibenzothiophènes
• C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
• C08G 59/68 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde caractérisées par les catalyseurs utilisés
• C08K 5/36 - Composés contenant du soufre, du sélénium ou du tellure
• C09K 3/00 - Substances non couvertes ailleurs
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles

Abrégé

A group of polyfunctional oxetane compounds and a preparation method therefor. The compound is a compound in a structure as shown in general formula (I) or a product obtained by reacting the compound as shown in general formula (I) with epichlorohydrin, an ester compound or an isocyanate compound. When said polyfunctional oxetane compounds are used as cationic polymeric monomers coordinating with an epoxy compound, solidification is fast and the hardness, flexibility, adhesiveness and heat resistance are excellent.

Classes IPC  ?

• C07D 305/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à quatre chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes du cycle
• C08G 65/18 - Oxétanes
• C08G 59/18 - Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde

Abrégé

A mixed-type photosensitive resin and a preparation method therefor. The mixed-type photosensitive resin comprises an oxetane functional group and a (methyl)acryloyloxy functional group, the functional groups supporting each other and being adjustable and controllable in terms of functionality, is highly suitable in a radical-cationic light curing system, has a fast curing rate, is free from the problem of oxygen-resistant polymerization, and provides a cured film with high hardness, great flexibility, and excellent adhesiveness and heat resistance.

Classes IPC  ?

• G03F 7/028 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des substances accroissant la photosensibilité, p. ex. photo-initiateurs
• C09J 133/08 - Homopolymères ou copolymères d'esters de l'acide acrylique

Abrégé

Provided is a free radical-cation hybrid photocuring composition. The composition comprises: an anthraquinone sensitizer, selected from a compound having a structure represented by formula (I) and/or a macromolecular compound using the compound represented by formula (I) as a main structure; a cation reaction compound and a free radical reaction compound, comprising at least one unsaturated-double-bond-containing compound and at least one epoxy-group-containing compound; a cationic photoinitiator; and optionally, a free radical photoinitiator. By means of component optimization, the composition can combine advantages of a free radical photocuring system and a cation photocuring system, and has excellent response to light sources having a wavelength ranging from 200 nm to 500 nm, a high curing speed, a small shrinkage, a good development property and good pattern integrity, allows a cured film to have a high hardness and has a strong adhesive force on a substrate.

Classes IPC  ?

• G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles

Abrégé

A free radical photocuring composition comprises: an anthraquinone sensitizer, selected from a compound having a structure represented by formula (I) and/or a macromolecular compound using the compound represented by formula (I) as a main structure; a free radical reaction compound; and a free radical initiator. The composition has low costs, has excellent response to light sources having a wavelength ranging from 200 nm to 500 nm, a high curing speed, a good development property and good pattern integrity, allows a cured film to have a high hardness and has a strong adhesive force on a substrate, and can be used in paints, coatings, ink, molding materials and other aspects.

Classes IPC  ?

• G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
• C07C 67/08 - Préparation d'esters d'acides carboxyliques par réaction d'acides carboxyliques ou d'anhydrides symétriques avec le groupe hydroxyle ou O-métal de composés organiques
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles

Abrégé

A cation photocuring composition comprises: an anthraquinone sensitizer, selected from a compound having a structure represented by formula (I) and/or a macromolecular compound using the compound represented by formula (I) as a main structure; a cation reaction compound; and a cationic photoinitiator. Compared with a conventional cation photocuring system, the composition has low costs, has excellent response to light sources having a wavelength ranging from 200 nm to 500 nm, a high curing speed, a good development property and good pattern integrity, allows a cured film to have a high hardness and has a strong adhesive force on a substrate, and can be used in paints, coatings, ink, molding materials and other aspects.

Classes IPC  ?

• G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
• C08L 63/00 - Compositions contenant des résines époxyCompositions contenant des dérivés des résines époxy
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles

Abrégé

Provided is a photosensitive composition containing an oxime-ester photoinitiator. The oxime-ester photoinitiator is a compound as shown in formula (I). The composition has the advantages of high curing speed, small exposure dose, less pollution, energy saving, almost no residue defect, etc., and the thickness, clarity and pattern integrity of a cured film thereof are all excellent.

Classes IPC  ?

• G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
• G02B 5/20 - Filtres
• C08F 265/06 - Polymérisation d'esters acryliques ou méthacryliques sur des polymères de ces esters
• C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
• G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
• G02B 5/22 - Filtres absorbants
• G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
• G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
• G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
• G03F 7/16 - Procédés de couchageAppareillages à cet effet
• G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet
• G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p. ex. développateurs
• G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p. ex. préchauffage
• C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
• C09D 4/06 - Compositions de revêtement, p. ex. peintures, vernis ou vernis-laques, à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
• C08F 265/04 - Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères d'acides monocarboxyliques non saturés ou de leurs dérivés tels que définis dans le groupe sur des polymères d'esters
• G03F 7/033 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p. ex. polymères vinyliques

Abrégé

Disclosed are a fluorene multifunctional photoinitiator as represented by general formula (I), a photosensitive resin composition containing same, and the preparation thereof and uses of the two. The compound has the advantages of simple synthesis, low cost, good solubility, and good application effects in a photocurable composition. Compared with conventional small molecular photoinitiators, it is not only excellent in photo-initiation activity, but also has advantages such as low mobility, low odour, and yellowing resistance. The composition has high photosensitivity and good developability, high resolution and excellent adaptation to a substrate, and is very suitable for preparing a black matrix having a high light-shielding property, a high-precision and high-quality colour filter and a liquid crystal display device, and can also be used in optical spacers and ribs, photoresist, wet film, dry film and so on.

Classes IPC  ?

• C07C 49/76 - Cétones comportant un groupe cétone lié à un cycle aromatique à six chaînons
• C07C 49/82 - Cétones comportant un groupe cétone lié à un cycle aromatique à six chaînons contenant des groupes hydroxyle
• C07D 273/01 - Composés hétérocycliques contenant des cycles comportant des atomes d'azote et d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par les groupes comportant un atome d'azote
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• C07C 29/124 - Préparation de composés comportant des groupes hydroxyle ou O-métal liés à un atome de carbone ne faisant pas partie d'un cycle aromatique à six chaînons par hydrolyse d'esters d'acides minéraux d'halogénures

Abrégé

Disclosed are a photoinitiator containing a fluorene oxime ester, as shown by the following formula (I), synthesis therefor, a photosensitive resin composition containing same, and a use thereof. The compound is simple in synthesis and low in cost, and has a good solubility when applied to the photocuring field, has an excellent storage stability and film-forming performance, low exposure demand, and excellent developing property and pattern integrality. The photosensitive resin composition contains an ultraviolet photosensitive prepolymer resin, an active diluent monomer, the photoinitiator containing a fluorene oxime ester of the present application, and optionally, a colorant and an alkali-soluble resin. The composition has a high sensitivity and a good developing property, a high resolution and excellent adhesiveness to a substrate; it is very suitable for preparing a black matrix with a high light-shielding property, and a color filter and a liquid crystal display device with a high fineness and a high quality; and can also be applied in aspects such as in a light spacer and a rib grid, a photoresist, a wet film and a dry film.

Classes IPC  ?

• C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
• C07C 251/66 - Oximes ayant des atomes d'oxygène de groupes oxyimino estérifiés par des acides carboxyliques avec les groupes carboxyle estérifiants liés à des atomes d'hydrogène, à des atomes de carbone acycliques ou à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles

Abrégé

This present invention discloses a nitro-containing bisoxime ester photoinitiator having a structure represented by general formula (I). This photoinitiator has excellent application performances in terms of storage stability, photosensitivity, developability, pattern integrity, etc., and it has good adaptability to single-wavelength UV-LED light sources and exhibits a photosensitive property, which is obviously superior to those of existing photoinitiators, under the irradiation of UV-LEDs.

Classes IPC  ?

• C07C 251/66 - Oximes ayant des atomes d'oxygène de groupes oxyimino estérifiés par des acides carboxyliques avec les groupes carboxyle estérifiants liés à des atomes d'hydrogène, à des atomes de carbone acycliques ou à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
• C07C 319/20 - Préparation de thiols, de sulfures, d'hydropolysulfures ou de polysulfures de sulfures par des réactions n'impliquant pas la formation de groupes sulfure
• C07D 335/12 - Thioxanthènes
• C07D 409/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
• C07C 249/04 - Préparation de composés contenant des atomes d'azote, liés par des liaisons doubles à un squelette carboné d'oximes
• C07D 311/82 - Xanthènes
• C07D 307/91 - DibenzofurannesDibenzofurannes hydrogénés
• C07C 323/63 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des groupes carboxyle liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné le squelette carboné étant substitué de plus par des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso
• C07D 333/76 - Dibenzothiophènes
• C07C 323/47 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant au moins un des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, lié de plus à d'autres hétéro-atomes à des atomes d'oxygène
• C07D 209/88 - CarbazolesCarbazoles hydrogénés avec des hétéro-atomes ou des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du système cyclique
• C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
• C08F 265/06 - Polymérisation d'esters acryliques ou méthacryliques sur des polymères de ces esters
• G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe

Abrégé

A bisoxime ester photoinitiator as represented by general formula (I). By introducing a bisoxime ester group and a cycloalkylalkyl group into the chemical structure, this photoinitiator not only has excellent performance in aspects of storage stability, photosensitivity, developability, pattern integrity, and the like, but also exhibits obviously improved photosensitivity and thermal stability compared to similar photoinitiators.

Classes IPC  ?

• C07C 251/66 - Oximes ayant des atomes d'oxygène de groupes oxyimino estérifiés par des acides carboxyliques avec les groupes carboxyle estérifiants liés à des atomes d'hydrogène, à des atomes de carbone acycliques ou à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
• C07C 319/20 - Préparation de thiols, de sulfures, d'hydropolysulfures ou de polysulfures de sulfures par des réactions n'impliquant pas la formation de groupes sulfure
• C07D 335/12 - Thioxanthènes
• C07D 409/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
• C07C 249/04 - Préparation de composés contenant des atomes d'azote, liés par des liaisons doubles à un squelette carboné d'oximes
• C07D 311/82 - Xanthènes
• C07D 307/91 - DibenzofurannesDibenzofurannes hydrogénés
• C07C 323/63 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des groupes carboxyle liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné le squelette carboné étant substitué de plus par des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso
• C07D 333/76 - Dibenzothiophènes
• C07D 409/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
• C07D 209/86 - CarbazolesCarbazoles hydrogénés avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du système cyclique
• C07C 323/47 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant au moins un des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, lié de plus à d'autres hétéro-atomes à des atomes d'oxygène

Abrégé

Disclosed are a pyrazoline sensitizer and a preparation method and use thereof. The pyrazoline sensitizer has the structure as shown in formula (I) or formula (II) and absorption bands of between 350-440 nm, and is suitable for using in a light-cured system, in particular a system containing a biimidazole photoinitiator, and formula (I) and formula (II) are successive.

Classes IPC  ?

• C07D 231/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 2 ou diazole-1, 2 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles comportant une liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînon cyclique et chaînon non cyclique
• G03F 7/028 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des substances accroissant la photosensibilité, p. ex. photo-initiateurs
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• C08F 4/00 - Catalyseurs de polymérisation
• C08F 226/00 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par une liaison simple ou double à l'azote ou par un hétérocycle contenant de l'azote

Abrégé

A photosensitive resin composition, containing ultraviolet photosensitive prepolymer resin, an active diluting monomer, an oxime ester photoinitiator represented by formula (I), and a colorant. The composition has good exposure sensibility and developing property. When a system is low in opacifier content or low in exposure dose, a cured pattern is complete, clear to develop and high in resolution ratio, and the adaptation between the cured pattern and a substrate is excellent. The photosensitive resin composition has a great application prospect in terms of optical color filters, light spacers, rib barriers and the like.

Classes IPC  ?

• C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
• C07D 333/76 - Dibenzothiophènes
• C07D 307/91 - DibenzofurannesDibenzofurannes hydrogénés
• C07D 209/82 - CarbazolesCarbazoles hydrogénés
• C07C 13/567 - FluorènesFluorènes complètement ou partiellement hydrogénés
• C07C 251/66 - Oximes ayant des atomes d'oxygène de groupes oxyimino estérifiés par des acides carboxyliques avec les groupes carboxyle estérifiants liés à des atomes d'hydrogène, à des atomes de carbone acycliques ou à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
• G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• G02B 5/20 - Filtres
• G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
• G02F 1/1339 - JointsÉléments d'espacementScellement des cellules

Abrégé

Disclosed is an ester compound containing an oxetane group. The compound has polyfunctionality, high stability and high cationic reaction activity, and is simple and convenient to prepare in a high yield. The ester compound can exhibit very excellent photo-curing performance when used in a cationic photo-curing formulation, has an extremely short curing time, and is obviously superior to the existing similar compounds, and the product has an excellent toughness and hardness.

Classes IPC  ?

• C07D 305/06 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à quatre chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes du cycle
• C08G 65/22 - Éthers cycliques possédant en dehors du cycle au moins un atome autre que le carbone et l'hydrogène

Abrégé

A photocurable acrylate composition, containing a compound of formula (I) as a photoinitiator and the components adapted to the photoinitiator. The photocurable composition has very good storage stability and very high light sensitivity, can be cross-linked and cured at a very low exposure dose, and has a very good curing effect; a film made from the composition has a smooth edge, no defect and scum, and good integrity throughout the whole pattern, and is a high-hardness resist film, and an optical filter made therefrom has high optical transparency and no light leakage.

Classes IPC  ?

• C08F 2/46 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire
• C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
• C08G 61/04 - Composés macromoléculaires contenant uniquement des atomes de carbone dans la chaîne principale de la molécule, p. ex. polyxylylènes uniquement des atomes de carbone aliphatiques
• G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques
• G02B 1/10 - Revêtements optiques obtenus par application sur les éléments optiques ou par traitement de la surface de ceux-ci
• G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
• G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
• G03F 7/033 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p. ex. polymères vinyliques
• G02F 1/1339 - JointsÉléments d'espacementScellement des cellules
• G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs

Abrégé

Provided is a photosensitive composition containing an oxime-ester photoinitiator. The oxime-ester photoinitiator is a compound as shown in formula (I). The composition has the advantages of high curing speed, small exposure dose, less pollution, energy saving, almost no residue defect, etc., and the thickness, clarity and pattern integrity of a cured film thereof are all excellent.

Classes IPC  ?

• G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
• C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible

Abrégé

A carbazolyl ketoxime ester type photoinitiator having a structure represented by the formula (I) is disclosed. This photoinitiator has excellent application performance and extremely high photosensitive property, and in particular under exposure lamp sources such as LED, LDI, etc., and it exhibits very high photosensing activity, which is obviously superior to the current products.

Classes IPC  ?

• C07D 209/86 - CarbazolesCarbazoles hydrogénés avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du système cyclique
• C07D 409/06 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne carbonée contenant uniquement des atomes de carbone aliphatiques
• C07D 405/06 - Composés hétérocycliques contenant à la fois un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle et un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne carbonée contenant uniquement des atomes de carbone aliphatiques
• C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
• C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible

Abrégé

A dual oxime esters photoinitiator as represented by general formula (I). By introducing a dual oxime esters group and a cycloalkylalkyl group in the chemical structure, the photoinitiator not only has excellent performance in aspects of storage stability, photosensitivity, developing effect, pattern integrity and the like, but also exhibits obviously improved photosensitivity and thermostability compared to similar photoinitiator products.

Classes IPC  ?

• C07D 333/34 - Atomes de soufre
• C07D 409/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons

Abrégé

Disclosed is a dual oxime esters photoinitiator containing nitro, having a structure as represented by general formula (I). The photoinitiator has excellent application performance in aspects of storage stability, photosensitivity, developing property, pattern integrity and the like, has good adaptability to the UV-LED light source in single wavelength, and exhibits photosensitive property obviously superior to existing photoinitiators under UV-LED irradiation.

Classes IPC  ?

• C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
• C07D 209/88 - CarbazolesCarbazoles hydrogénés avec des hétéro-atomes ou des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du système cyclique
• C07C 323/47 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant au moins un des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, lié de plus à d'autres hétéro-atomes à des atomes d'oxygène

Abrégé

An acrylic photocurable composition, containing a compound of formula (I) as a photoinitiator and a component adapted to the photoinitiator. The photocurable composition has very good storage stability and very high light sensitivity, can be cross-linked and cured at a very low exposure dose, and has a very good curing effect. A film made from the composition has a smooth edge without defects and dross, good integrity throughout the whole pattern, and is a high-hardness etch resist film, and an optical filter made from the composition has high optical transparency and no light leakage.

Classes IPC  ?

• G03F 7/027 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques
• G02F 1/1339 - JointsÉléments d'espacementScellement des cellules
• G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
• G02B 5/20 - Filtres
• G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques

Abrégé

A carbazole oxime ester-type photoinitiator represented by the following structural formula (I) is disclosed. The photoinitiator has excellent properties in application, especially high photosensibility. The photoinitiator can greatly improve the photocuring properties of photopolymers when applying on them, thus can significantly increase the productivity of photosensitive compositions in application fields such as preparing color filter. The preparation method of the carbazole oxime ester-type photoinitiator and its use in photosensitive composition are also disclosed.

Classes IPC  ?

• C08F 2/48 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible
• C07D 409/06 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne carbonée contenant uniquement des atomes de carbone aliphatiques
• C07D 405/06 - Composés hétérocycliques contenant à la fois un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle et un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne carbonée contenant uniquement des atomes de carbone aliphatiques
• C07D 209/86 - CarbazolesCarbazoles hydrogénés avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du système cyclique
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles