Ovens, discharge nozzle plates for distribution of gas through an oven, and methods to operate an oven are disclosed. Example ovens include a heating system to heat gas, a substrate heating volume, and a plenum comprising a side wall having a plurality of passages formed therein, the plenum configured to direct heated gas into the substrate heating volume from the plurality of passages, each of the plurality of passages formed in the plenum having a respective tapered cross- sectional shape.
One embodiment is directed to an oven for heating fibers. The oven comprises a supply structure disposed within the oven between first and second ends of the oven. The supply structure comprises a plurality of plenums stacked one above each other with gaps therebetween. The plenums are in fluid communication with a heating system. At least one plenum comprises at least one side wall comprising a plurality of passages formed therein, said at least one plenum configured to direct at least a portion of the heated gas into an interior of the oven from the plurality of passages. Each of the plurality of passages formed in said at least one plenum has a respective tapered cross-sectional shape.
D02J 13/00 - Chauffage ou refroidissement de filaments, filés, fils câblés, cordes ou similaires ne correspondant spécifiquement à aucun des procédés prévus dans la présente sous-classe
F27B 9/28 - Fours dans lesquels la charge est déplacée mécaniquement, p. ex. du type tunnel Fours similaires dans lesquels la charge se déplace par gravité pour traiter des longueurs ininterrompues du matériau travaillé
F27D 7/00 - Production, entretien ou circulation d'une atmosphère dans les chambres de chauffage
F27D 7/02 - Alimentation en vapeur d'eau, en gaz ou en liquides
An oxidation oven with a heated chamber for treating fibers, the heated chamber having two opposing sides, each side with a plurality of gaps to allow the fibers to pass to and from the heated chamber. Embodiments of the invention provide capture ducts, which are configured to be under negative pressure, the capture ducts draw-in heated chamber air that would otherwise flow through the gaps. Embodiments of the invention provide supply ducts, which are configured to be under positive pressure and provide heated air near the gaps. Embodiments of the invention provide louvers positioned near the gaps, the louvers are configured to reduce the flow of heated chamber air that would otherwise pass through the gaps.
A thermal processing system for processing work pieces such as silicon wafers for photovoltaic cells. The system include a firing furnace comprised of upper and lower banks for microzones having infrared lamps in each microzone. The microzone are lined with or formed of a reflective insulative material. Some embodiments of the system of the invention can be used as or in a continuous infrared furnace of oven having a drying, burn-off and firing zone.
F27B 9/06 - Fours dans lesquels la charge est déplacée mécaniquement, p. ex. du type tunnel Fours similaires dans lesquels la charge se déplace par gravité chauffés sans contact entre gaz de combustion et la chargeFours dans lesquels la charge est déplacée mécaniquement, p. ex. du type tunnel Fours similaires dans lesquels la charge se déplace par gravité chauffés électriquement
F27B 17/00 - Fours d'un genre non couvert par l'un des groupes
H01L 21/677 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le transport, p. ex. entre différents postes de travail
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
5.
ENCLOSURE AND METHOD FOR TEMPERATURE-SENSITIVE COMPONENTS
Protective enclosure and method for protecting heat sensitive, data recording devices in high temperature environments. The protective enclosure is a housing having at least one compartment for containing a heat sensitive, data recording device, e.g., a temperature recording device, and a vented jacket configured to contain a liquid. The vented jacket surrounds the housing or the compartment. The at least one compartment may be sealed with an endcap. The recording device and a heat absorbing element are disposed within the same or within adjoining sub-compartments of the enclosure. In a method, the enclosure with heat absorbing element and temperature recording device is placed within a heated environment or environment to be heated, e.g., a furnace. The recording device is connected to a thermal couple.
A fiber treatment oven having slots for the fibers to pass through and adjustable gates located proximate the slots. The gates may be connected via a linkage that allows movement of many gates at once and may be connected so that individual gats may be adjusted as well.
D02J 13/00 - Chauffage ou refroidissement de filaments, filés, fils câblés, cordes ou similaires ne correspondant spécifiquement à aucun des procédés prévus dans la présente sous-classe
A radiant shield and a furnace employing a radiant shield for controlled heating and treatment of material using infrared radiation. The furnace is capable of improved temperature control where material treated by the furnace may interfere with the quality of a measured temperature signal and temperature control based on that signal.
F27B 9/06 - Fours dans lesquels la charge est déplacée mécaniquement, p. ex. du type tunnel Fours similaires dans lesquels la charge se déplace par gravité chauffés sans contact entre gaz de combustion et la chargeFours dans lesquels la charge est déplacée mécaniquement, p. ex. du type tunnel Fours similaires dans lesquels la charge se déplace par gravité chauffés électriquement
A continuous dopant coater with improved control of the coating environment and methods and systems relating to the coater. Embodiments of the dopant coater may include a containment chamber and a coating chamber and the use of an inerting media to control the environment within and around the coater.
C23C 16/00 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD]
A furnace of controlled heating and treatment of material using infrared radiation. The furnace is capable of continuous infrared treating of material with consistent radiation being applied to the material, ease of access to the furnace for maintenance cleaning and repair, excellent control of radiant cooling of the material to be treated, and ease of maintenance of a volatile component condenser.
F27B 9/24 - Fours dans lesquels la charge est déplacée mécaniquement, p. ex. du type tunnel Fours similaires dans lesquels la charge se déplace par gravité caractérisés par le trajet de la charge pendant le traitementFours dans lesquels la charge est déplacée mécaniquement, p. ex. du type tunnel Fours similaires dans lesquels la charge se déplace par gravité caractérisés par le procédé de déplacement de la charge pendant le traitement la charge se déplaçant sur un trajet sensiblement rectiligne sur un transporteur
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