Abrégé

A physically unclonable function (PUF) code generating method includes the following steps. In a step (a), M×N memory cells in a memory cell array of a non-volatile memory are controlled to have an identical storage state, wherein M and N are positive integers, and M×N is greater than 1. In a step (b), X memory cells are selected from the memory cell array multiple times, and a virtual array is established, wherein the virtual array contains plural electrical characteristic combinations, and X is a positive integer smaller than M×N. In a step (c), the plural electrical characteristic combinations are selected from the virtual array multiple times, and a multi-bit PUF code is generated.

Classes IPC  ?

• G06F 21/75 - Protection de composants spécifiques internes ou périphériques, où la protection d'un composant mène à la protection de tout le calculateur pour assurer la sécurité du calcul ou du traitement de l’information par inhibition de l’analyse de circuit ou du fonctionnement, p. ex. pour empêcher l'ingénierie inverse
• H03K 19/003 - Modifications pour accroître la fiabilité

Abrégé

The present disclosure provides a method and a trim code reloading system. The method is for retrieving a preset trim code, wherein the preset trim code is for trimming a bandgap reference circuit and is stored in a memory block. The method includes: setting a first input trim code for the bandgap reference circuit, wherein a read bias voltage is generated according to the first input trim code; reading the memory block biased by the read bias voltage, to obtain an output trim code; determining if the output trim code is the same as the first input trim code; and using the first input trim code or the output trim code as a retrieved preset trim code when the output trim code is the same as the first input trim code.

Classes IPC  ?

• G11C 7/10 - Dispositions d'interface d'entrée/sortie [E/S, I/O] de données, p. ex. circuits de commande E/S de données, mémoires tampon de données E/S
• G11C 17/18 - Circuits auxiliaires, p. ex. pour l'écriture dans la mémoire

Abrégé

A non-volatile memory device including a substrate and a memory cell. The memory cell includes a select transistor, a floating gate transistor, and a metal conductor. The select transistor includes a select gate structure over the substrate, a first source/drain region on a first side of the select gate structure, and a second source/drain region on a second side of the select gate structure opposite the first side. The floating gate transistor includes a floating gate structure over the substrate, the second source/drain region on a third side of the floating gate structure, and a third source/drain region on a fourth side of the floating gate structure opposite the third side. The metal conductor is over and electrically isolated from the floating gate structure. The floating gate transistor further includes a first low-voltage lightly doped drain between the floating gate structure and the third source/drain region.

Classes IPC  ?

• H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante

Abrégé

A memory device and a method for controlling a verification voltage of a memory device are provided. The method includes: determining a bit count of data bits verified in one verification cycle to be K according to electrical characteristics of a memory sector of the memory device, wherein K is a positive integer; controlling a charge pump circuit of the memory device to start detecting the verification voltage and start pulling up the verification voltage at a beginning time point of a present verification cycle of the memory sector; controlling the charge pump circuit to stop pulling up the verification voltage at a verification time point of the present verification cycle in response to the verification voltage reaching a predetermined level; and after the verification time point of the present verification cycle, using the verification voltage to verify K data bits written into the first memory sector.

Classes IPC  ?

• G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation

Abrégé

An erasable programmable single-poly non-volatile memory cell is provided. In the memory cell, plural doped regions are formed through different fabricating procedures. The memory cell includes a select transistor and a floating gate transistor. The channel length of the floating gate transistor is smaller than the channel length of the select transistor. The doping step in the manufacturing method is modified. Consequently, plural doped regions have different parameters and characteristics, and the channel resistance value of the floating gate transistor will be greater than that of the select transistor.

Classes IPC  ?

• H10B 41/60 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes la grille de commande étant une région dopée, p. ex. cellules de mémoire en couche unique de polysilicium
• H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET

Abrégé

A power supplying circuit and an associated switch controller for a non-volatile memory are provided. When the sector erase is performed, the voltage stress withstood by the switching transistors in the power supplying circuit is lower than the maximum voltage stress. In addition, the voltage stress withstood by all transistors in the switch controller is lower than the maximum voltage stress. In other words, when the sector erase is performed, all switch controllers and all switching transistors in the power supplying circuit can be operated normally. In addition, an erase voltage is provided to a specified sector of the array structure, so that all memory cells in the specified sector are erased into the erase state.

Classes IPC  ?

• G11C 16/16 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement pour effacer des blocs, p. ex. des réseaux, des mots, des groupes
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation

Abrégé

A level shifter includes a first load circuit, a second load circuit, a BJT transistor, a first MOSFET transistor and a NOT gate. A first terminal of the first load circuit receives the second supply voltage. A first terminal of the second load circuit receives the input signal. A collector of the BJT transistor is connected with a second terminal of the first load circuit. A base of the BJT transistor is connected with a second terminal of the second load circuit. A drain terminal of the first MOSFET transistor is connected with an emitter of the BJT transistor. A source terminal of the first MOSFET transistor receives a ground voltage. A gate terminal of the first MOSFET transistor receives the input signal. An input terminal of the NOT gate is connected with the first load circuit. An output terminal of the NOT gate generates an output signal.

Classes IPC  ?

• H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ

Abrégé

A sensing apparatus for a non-volatile memory includes two current mirrors, three switches, a voltage control circuit and a judging circuit. The input terminal of the first current mirror receives a reference current. A mirroring terminal of the first current mirror is connected with a data line. The first switch is connected between the data line and the voltage control circuit. The second switch is connected between the data line and a ground voltage. The third switch is connected between the voltage control circuit and a supply voltage. The input terminal of the second current mirror receives a bias current. The mirroring terminal of the second current mirror is connected with the judging node. The voltage control circuit and the judging circuit are connected with the judging node.

Classes IPC  ?

• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• G11C 16/20 - InitialisationPrésélection de donnéesIdentification de puces
• G11C 16/32 - Circuits de synchronisation

Abrégé

A voltage level shifter is provided. The voltage level shifter includes a main level shifter, a first bias level shifter and a second bias level shifter. The main level shifter includes a first N-type transistor and a second N-type transistor cross-coupled to each other, a third N-type transistor and a fourth N-type transistor controlled by a first bias voltage, a fifth N-type transistor and a sixth N-type transistor respectively controlled by a second bias voltage and a third bias voltage, and a first P-type transistor and a second P-type transistor configured to respectively receive an input signal and an inverted input signal which have opposite voltage values. The first bias level shifter generates the first bias voltage according to an enable signal. The second bias level shifter generates the second bias voltage and the third bias voltage according to the first bias voltage and the input signal.

Classes IPC  ?

• H03K 3/356 - Circuits bistables
• H03K 17/10 - Modifications pour augmenter la tension commutée maximale admissible
• H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
• H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ

Abrégé

A nonvolatile memory cell includes an N-well region, an IO gate dielectric layer, a floating gate dielectric layer, a floating gate layer, a first gate layer, a second gate layer and two p-doped regions. The floating gate dielectric layer is contacted with the surface of the N-well region. The floating gate layer covers the floating gate dielectric layer. The IO gate dielectric layer covers the surface of the N-well region and the floating gate layer. The first gate layer is contacted with IO gate dielectric layer located on the sidewall and the top surface of the floating gate layer. The second gate layer is contacted with the IO gate dielectric layer located on the sidewall of the floating gate layer. The first gate layer, the second gate layer and the floating gate layer are located over the surface of the N-well region between the two p-doped regions.

Classes IPC  ?

• H10B 41/42 - Fabrication simultanée de périphérie et de cellules de mémoire
• H10B 41/30 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire

Abrégé

A one-time-programmable (OTP) memory device includes an active region and a gate electrode layer. The active region includes a channel region having a channel layer and source/drain regions disposed on opposite sides of the channel region in a Y-direction. The gate electrode layer extends in an X-direction and wraps around the channel layer. A first thickness of the gate electrode layer from a first edge of a first end of the gate electrode layer to the channel layer in the X-direction is equal to a second thickness of the gate electrode layer from a second edge of a second end of the gate electrode layer to the channel layer in the X-direction. After the first end is connected to a first voltage and the second end is connected to a second voltage different to the first voltage, the first thickness is different to the second thickness.

Classes IPC  ?

• H10B 20/25 - Dispositifs ROM programmable une seule fois, p. ex. utilisant des jonctions électriquement fusibles

Abrégé

A level shifter which includes an inverter, first/second/third/fourth N-type transistors, first/second P-type transistors and a buffer is provided. The inverter inverts an input voltage to generate an inverted input voltage based on a first reference voltage. The first N-type transistor has a gate receiving the input voltage. The second N-type transistor has a gate receiving the inverted input voltage. The third N-type transistor has a source coupled to a drain of the first N-type transistor. The fourth N-type transistor has a source coupled to a drain of the second N-type transistor. Gates of the first/second P-type transistors are coupled to the drains of the second/first N-type transistors, respectively, and sources of the first/second P-type transistors receive a second reference voltage. The level shifter generates an output voltage according to a shifted voltage on the drain terminal of the third N-type transistor or the drain terminal of the fourth N-type transistor.

Classes IPC  ?

• H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ
• H03K 3/356 - Circuits bistables
• H03K 19/00 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion

Abrégé

An antifuse-type one time programming memory includes a first memory cell. The first memory cell includes an antifuse transistor. The antifuse transistor includes a first nanowire, a first gate structure, a first drain/source structure and a second drain/source structure. The first nanowire is surrounded by the first gate structure. The first gate structure includes a first spacer, a second spacer, a first gate dielectric layer and a first gate layer. The first drain/source structure is electrically contacted with the first terminal of the first nanowire. The second drain/source structure is electrically contacted with the second terminal of the first nanowire.

Classes IPC  ?

• H10B 20/25 - Dispositifs ROM programmable une seule fois, p. ex. utilisant des jonctions électriquement fusibles

Abrégé

A power control apparatus for a non-volatile memory includes a reference voltage generator, an adjusting circuit and a switching circuit. The adjusting circuit receives a deep standby signal and an operation signal. The adjusting circuit generates a mode indicating signal and a control signal. The switching circuit is connected with a first node. A voltage at the first node is an operation voltage. In a deep standby mode, the ground voltage is connected with the first node through the switching circuit. In a normal operation mode, a supply voltage is connected with the first node through the switching circuit. In a standby mode, an adjustable resistance path is connected between the supply voltage and the first node. The resistance value of the adjustable resistance path is adjusted according to the control signal until the operation voltage is equal to the reference voltage.

Classes IPC  ?

• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation
• G11C 5/14 - Dispositions pour l'alimentation
• G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots

Abrégé

A control gate voltage generating circuit for a non-volatile memory is provided. After the non-volatile memory leaves the factory, the control gate voltage is appropriately adjusted by the control gate voltage generating circuit according to the characteristics changes of the memory cells. When the read action is performed, the control gate voltage generating circuit provides the adjusted control gate voltage to the control gate line of the array structure. The magnitude of the reference current can be maintained in the range between the read current in the erase state and the read current in the program state. Consequently, the storage state of the selected memory cell can be accurately determined, and the life time of the non-volatile memory will be extended.

Classes IPC  ?

• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation
• G05F 3/26 - Miroirs de courant
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/16 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement pour effacer des blocs, p. ex. des réseaux, des mots, des groupes
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données

Abrégé

A level shifting circuit includes a first-type level shifter, a second-type level shifter and a controller. The controller is connected to the output terminal of the first-type level shifter and the output terminal of the second-type level shifter. The level shifting circuit can be operated in different modes. In a standby mode, the logic level state of an output signal from the level shifting circuit is determined according to the logic level state of a shifted signal from the first-type level shifter. In a non-standby mode, the logic level state of the output signal from the level shifting circuit is determined according to the logic level state of a shifted signal from the second-type level shifter.

Classes IPC  ?

• H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ
• H03K 3/012 - Modifications du générateur pour améliorer le temps de réponse ou pour diminuer la consommation d'énergie
• H03K 3/356 - Circuits bistables

Abrégé

A non-volatile memory with an auxiliary select gate line driver is provided. The array structure of the non-volatile memory comprises plural 2T2C memory cells in an array arrangement. The memory cells in the array structure are connected with the corresponding auxiliary select gate lines. The auxiliary select gate line driver can output specified driving voltages to the auxiliary select gate lines. Consequently, the programming efficiency, the erasing efficiency and the reading efficiency of non-volatile memory are enhanced.

Classes IPC  ?

• G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante

Abrégé

An antifuse-type memory includes a first memory cell. The first memory cell includes a first select transistor, a first following transistor and a first antifuse transistor. A first drain/source terminal of the first select transistor is connected with a first bit line. A gate terminal of the first select transistor is connected with a first word line. A first drain/source terminal of the first following transistor is connected with a second drain/source terminal of the first select transistor. A gate terminal of the first following transistor is connected with a first following control line. The first antifuse transistor includes a first fin, a first gate structure, a first drain/source contact layer and a second drain/source contact layer. The first gate structure includes a first gate dielectric layer and a first gate layer. The first gate layer is connected with a first antifuse control line.

Classes IPC  ?

• H10B 20/25 - Dispositifs ROM programmable une seule fois, p. ex. utilisant des jonctions électriquement fusibles
• H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

Abrégé

A sense amplifier for a non-volatile memory is provided. A first memory cell of the non-volatile memory is coupled to a data line. The sense amplifier includes a first switching device, a first voltage boosting circuit and a comparator. A first terminal of the first switching device is connected with the data line. A second terminal of the first switching device is connected with a ground terminal. A control terminal of the first switching device receives a reset signal. An input terminal of the first voltage boosting circuit is connected with the data line. An output terminal of the first voltage boosting circuit is connected with a sensing node. A first input terminal of the comparator receives a comparison voltage. A second input terminal of the comparator is connected with the sensing node. An output terminal of the comparator generates an output data.

Classes IPC  ?

• G11C 7/10 - Dispositions d'interface d'entrée/sortie [E/S, I/O] de données, p. ex. circuits de commande E/S de données, mémoires tampon de données E/S
• G11C 7/08 - Leur commande
• G11C 7/20 - Circuits d'initialisation de cellules de mémoire, p. ex. à la mise sous ou hors tension, effacement de mémoire, mémoire d'image latente

Abrégé

A layout structure of a memory cell array for a non-volatile memory is provided. The memory cell array includes plural memory cells. Each memory cell includes a capacitor, an erase gate element, a select transistor, a floating gate transistor and a switch transistor. Moreover, plural wells are formed in a semiconductor substrate, and a floating gate is formed over the semiconductor substrate. The locations of the well regions and the shape of the floating gate are specially designed. Moreover, the plural memory cells with at least two shapes are constructed on the semiconductor substrate. Consequently, the layout area of the layout structure of the memory cell array can be effectively reduced.

Classes IPC  ?

• H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus
• H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET

Abrégé

A non-volatile memory cell includes a select transistor and a memory transistor. The first drain/source terminal of the select transistor is connected with a first control terminal. The second drain/source terminal of the select transistor is connected with the first drain/source terminal of the memory transistor. The gate terminal of the select transistor is connected with a select gate terminal. The second drain/source terminal of the memory transistor is connected with a second control terminal. The gate terminal of the memory transistor is connected with a memory gate terminal. During a program action, the select transistor is turned on, and a tapered channel is formed in the memory transistor. The tapered channel is pinched off near the first drain/source terminal of the memory transistor, and plural hot carriers near a pinch off point are injected into the charge storage layer.

Classes IPC  ?

• G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
• H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET

Abrégé

A one-time-programmable (OTP) memory device includes a memory array including an N-type memory cell and a P-type memory cell. The N-type memory cell includes first channel layers and second channel layers. The P-type memory cell includes third channel layers and fourth channel layers. The N-type memory cell and the P-type memory cell further include a first word-line gate structure extending in the Y-direction and wrapping around the first channel layers and the third channel layers, and an anti-fuse gate structure extending in the Y-direction and wrapping around the second channel layers and the fourth channel layers. The OTP memory device further includes a wall structure extending in an X-direction and between the N-type memory cell and the P-type memory cell in the Y-direction. The first channel layers, the second channel layers, the third channel layers, and the fourth channel layers attach on the wall structure.

Classes IPC  ?

• H10B 20/25 - Dispositifs ROM programmable une seule fois, p. ex. utilisant des jonctions électriquement fusibles
• G11C 17/16 - Mémoires mortes programmables une seule foisMémoires semi-permanentes, p. ex. cartes d'information pouvant être replacées à la main dans lesquelles le contenu est déterminé en établissant, en rompant ou en modifiant sélectivement les liaisons de connexion par une modification définitive de l'état des éléments de couplage, p. ex. mémoires PROM utilisant des liaisons électriquement fusibles
• G11C 17/18 - Circuits auxiliaires, p. ex. pour l'écriture dans la mémoire

Abrégé

An OTP memory using a PUF technology includes a first memory cell. The first memory cell includes an antifuse transistor, a first select transistor and a second select transistor. The antifuse transistor includes a first nanowire, a second nanowire, a first gate structure, a first drain/source structure and a second drain/source structure. The first portions of the first nanowire and the second nanowire are contacted with the isolation wall. The second portions of the first nanowire and the second nanowire are covered by the first gate structure. The first drain/source structure is electrically connected with the first terminals of the first nanowire and the second nanowire. The second drain/source structure is electrically connected with a second terminal of the second nanowire, but not electrically connected with a second terminal of the first nanowire.

Classes IPC  ?

• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• G11C 17/18 - Circuits auxiliaires, p. ex. pour l'écriture dans la mémoire
• H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
• H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
• H01L 29/786 - Transistors à couche mince
• H10B 20/25 - Dispositifs ROM programmable une seule fois, p. ex. utilisant des jonctions électriquement fusibles

Abrégé

An antifuse-type one time programming memory includes a first memory cell. The first memory cell includes at least one antifuse transistor. The antifuse transistor is forksheet transistor. The antifuse transistor includes a first nanowire, a first gate structure, a first drain/source structure and a second drain/source structure. A first-portion surface of the first nanowire is contacted with the isolation wall. A second-portion surface of the first nanowire is contacted with the first gate structure. The first gate structure includes a first spacer, a second spacer, a first gate dielectric layer and a first gate layer. The first drain/source structure is electrically contacted with a first terminal of the first nanowire. The second drain/source structure is electrically contacted with a second terminal of the first nanowire.

Classes IPC  ?

• H10B 20/25 - Dispositifs ROM programmable une seule fois, p. ex. utilisant des jonctions électriquement fusibles
• G11C 17/16 - Mémoires mortes programmables une seule foisMémoires semi-permanentes, p. ex. cartes d'information pouvant être replacées à la main dans lesquelles le contenu est déterminé en établissant, en rompant ou en modifiant sélectivement les liaisons de connexion par une modification définitive de l'état des éléments de couplage, p. ex. mémoires PROM utilisant des liaisons électriquement fusibles
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
• H01L 29/786 - Transistors à couche mince

Abrégé

A control method for a non-volatile memory is provided. After the non-volatile memory is enabled, a judging step is performed to judge whether the non-volatile memory enters a read mode, a program mode or an erase mode. If the judging result indicates that the non-volatile memory enters the read mode, the program mode or the erase mode, a worst threshold voltage of plural reference cells of the non-volatile memory is searched. Then, at least one of a control voltage for read action, a control voltage for program verify and a control voltage for erase verify is determined. Then, a read action, a program action or an erase action is performed on plural data cells of the non-volatile memory.

Classes IPC  ?

• G06F 12/02 - Adressage ou affectationRéadressage

Abrégé

An OTP memory cell for a PUFF technology includes a first select transistor, a first antifuse transistor and a second antifuse transistor. A first drain/source terminal of the first select transistor is connected with a bit line. A gate terminal of the first select transistor is connected with a word line. A gate terminal of the first antifuse transistor is connected with a second drain/source terminal of the first select transistor. Two drain/source terminals of the first antifuse transistor are connected with a first antifuse control line. A gate terminal of the second antifuse transistor is connected with a second drain/source terminal of the first select transistor. Two drain/source terminals of the second antifuse transistor are connected with a second antifuse control line.

Classes IPC  ?

• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• G06F 21/75 - Protection de composants spécifiques internes ou périphériques, où la protection d'un composant mène à la protection de tout le calculateur pour assurer la sécurité du calcul ou du traitement de l’information par inhibition de l’analyse de circuit ou du fonctionnement, p. ex. pour empêcher l'ingénierie inverse
• G11C 17/16 - Mémoires mortes programmables une seule foisMémoires semi-permanentes, p. ex. cartes d'information pouvant être replacées à la main dans lesquelles le contenu est déterminé en établissant, en rompant ou en modifiant sélectivement les liaisons de connexion par une modification définitive de l'état des éléments de couplage, p. ex. mémoires PROM utilisant des liaisons électriquement fusibles
• G11C 17/18 - Circuits auxiliaires, p. ex. pour l'écriture dans la mémoire
• H10B 20/25 - Dispositifs ROM programmable une seule fois, p. ex. utilisant des jonctions électriquement fusibles

Abrégé

A storage transistor of a charge-trapping non-volatile memory includes a semiconductor substrate, a well region, a gate structure, a spacer, a first doped region and a second doped region. The well region is formed in a surface of the semiconductor substrate. The first doped region and the second doped region are formed in the well region. The gate structure includes a first tunneling layer, a second tunneling layer, a third tunneling layer, a trapping layer, a blocking layer and a gate layer. The first tunneling layer is contacted with the surface of the well region. The second tunneling layer covers the first tunneling layer. The third tunneling layer covers the second tunneling layer. The trapping layer covers the third tunneling layer. The blocking layer covers the trapping layer. The gate layer covers the blocking layer.

Classes IPC  ?

• H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
• H01L 21/28 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/792 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à isolant de grille à emmagasinage de charges, p.ex. transistor de mémoire MNOS

Abrégé

An antifuse-type non-volatile memory cell includes a select transistor, a following transistor and a capacitor. The first drain/source terminal of the select transistor is connected with a bit line. The gate terminal of the select transistor is connected with a word line. A first drain/source terminal of the following transistor is connected with a second drain/source terminal of the select transistor. A gate terminal of the following transistor is connected with a following line. A second drain/source terminal of the following transistor is connected with a first terminal of the capacitor. A second terminal of the capacitor is connected with an antifuse control line.

Classes IPC  ?

• H10B 20/25 - Dispositifs ROM programmable une seule fois, p. ex. utilisant des jonctions électriquement fusibles
• G11C 17/16 - Mémoires mortes programmables une seule foisMémoires semi-permanentes, p. ex. cartes d'information pouvant être replacées à la main dans lesquelles le contenu est déterminé en établissant, en rompant ou en modifiant sélectivement les liaisons de connexion par une modification définitive de l'état des éléments de couplage, p. ex. mémoires PROM utilisant des liaisons électriquement fusibles

Abrégé

A latch type sense amplifier includes three transistors, a latching device and two capacitors. The two drain/source terminals of the first transistor are connected with a first node and a second node. The gate terminal of the first transistor receives a reference voltage. The two drain/source terminals of the second transistor are connected with the first node and a third node. The gate terminal of the second transistor is connected with a data line. The two drain/source terminals of the third transistor are connected with a first supply voltage and the first node. The gate terminal of the third transistor receives an enable signal. The latching device is connected with the second node and the third node. The first capacitor is connected between gate terminals of the third transistor and the first transistor. The second capacitor is connected between gate terminals of the third transistor and the second transistor.

Classes IPC  ?

• G11C 7/06 - Amplificateurs de lectureCircuits associés
• G11C 13/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage non couverts par les groupes , ou
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• G11C 16/28 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données utilisant des cellules de détection différentielle ou des cellules de référence, p. ex. des cellules factices

Abrégé

A regulator includes a pre-regulator circuit, a pump circuit, an output stage circuit, and a tracking circuit. The pre-regulator circuit is configured to generate a pre-regulated voltage according to a power voltage. The pump circuit is configured to generate a pumped voltage according to the pre-regulated voltage and a tracking voltage. The output stage circuit is configured to generate an output voltage according to the pumped voltage and the power voltage. The tracking circuit is configured to track the output stage circuit to generate the tracking voltage and transmit the tracking voltage to the pump circuit.

Classes IPC  ?

• G05F 1/575 - Régulation de la tension ou de l'intensité là où la variable effectivement régulée par le dispositif de réglage final est du type continu utilisant des dispositifs à semi-conducteurs en série avec la charge comme dispositifs de réglage final caractérisé par le circuit de rétroaction
• H02M 3/158 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs avec commande automatique de la tension ou du courant de sortie, p. ex. régulateurs à commutation comprenant plusieurs dispositifs à semi-conducteurs comme dispositifs de commande finale pour une charge unique

Abrégé

An anti-fuse memory device includes an anti-fuse module, a reference current circuit and a controller. A write enable signal enables a write controller and a write buffer of the anti-fuse module to program a selected anti-fuse memory cell in an anti-fuse array of the anti-fuse module, and a timing controller of the anti-fuse module stops a program operation of the anti-fuse array after a sense amplifier of the anti-fuse module changes a state of a readout data signal for a predetermined time duration.

Classes IPC  ?

• G11C 17/18 - Circuits auxiliaires, p. ex. pour l'écriture dans la mémoire
• G11C 7/08 - Leur commande
• G11C 17/16 - Mémoires mortes programmables une seule foisMémoires semi-permanentes, p. ex. cartes d'information pouvant être replacées à la main dans lesquelles le contenu est déterminé en établissant, en rompant ou en modifiant sélectivement les liaisons de connexion par une modification définitive de l'état des éléments de couplage, p. ex. mémoires PROM utilisant des liaisons électriquement fusibles

Abrégé

An antifuse-type non-volatile memory and a control method for the antifuse-type non-volatile memory are provided. During a program action of a program cycle, a timing controller generates a timing control signal. According to the timing control signal, a word line driver is controlled to provide an on voltage and an off voltage to an activated word line. In a total time period of plural on periods, the program current is sufficient to rupture a gate oxide layer of an antifuse transistor in the selected memory cell, and a heating process is completed. Consequently, the gate oxide layer of the antifuse transistor is in a solid rupture state. Consequently, the program action can be successfully performed on the selected memory cell.

Classes IPC  ?

• G11C 17/18 - Circuits auxiliaires, p. ex. pour l'écriture dans la mémoire
• G11C 17/16 - Mémoires mortes programmables une seule foisMémoires semi-permanentes, p. ex. cartes d'information pouvant être replacées à la main dans lesquelles le contenu est déterminé en établissant, en rompant ou en modifiant sélectivement les liaisons de connexion par une modification définitive de l'état des éléments de couplage, p. ex. mémoires PROM utilisant des liaisons électriquement fusibles

Abrégé

A memory cell is connected to a source line, a bit line, a word line, an assist gate line and an erase line. When a program action is performed, a weak programming procedure is first performed on the memory cell, and then a strong programming procedure is performed on the memory cell. When the weak programming procedure is performed, an on voltage is provided to the word line, a first program voltage is provided to the source line, a ground voltage is provided to the bit line, a first assist gate voltage is provided to the assist gate line, and a first erase line voltage is provided to the erase line. When the strong programming procedure is performed, a lower program voltage and a higher assist gate voltage are provided to the memory cell.

Classes IPC  ?

• G11C 16/12 - Circuits de commutation de la tension de programmation
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante
• H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET

Abrégé

A memory device includes a memory cell array and a sensing amplifier circuit. The memory cell array outputs a cell current. The sensing amplifier circuit is coupled to the memory cell array to receive the cell current. The sensing amplifier circuit includes an operational amplifier. The operational amplifier includes a first input terminal, a second input terminal, and an output terminal. The sensing amplifier circuit pulls up a voltage at the first input terminal to a first voltage by a first capacitor according to the cell current in a developing mode, and pulls up the voltage at the first input terminal to a second voltage higher than the first voltage in a boost mode after the developing mode by a second capacitor and the first capacitor. The output terminal outputs data according to the voltage and a reference voltage at the second input terminal.

Classes IPC  ?

• G11C 7/06 - Amplificateurs de lectureCircuits associés

Abrégé

A non-volatile memory receives a supply voltage. The non-volatile memory includes a reference current generator and a sensing circuit. The reference current generator provides a reference current to the sensing circuit. The reference current generator includes a control voltage generation circuit, a current path selecting circuit and a mirroring circuit. The control voltage generation circuit receives a control signal and generates a control voltage according to the control signal. The current path selecting circuit generates the reference current. A current input terminal of the mirroring circuit receives the reference current. If the control signal is set as a first value, the reference current is changed at a first slope in a range of the supply voltage. If the control signal is set as a second value, the reference current is changed at a second slope in the range of the supply voltage.

Classes IPC  ?

• G11C 11/4091 - Amplificateurs de lecture ou de lecture/rafraîchissement, ou circuits de lecture associés, p. ex. pour la précharge, la compensation ou l'isolation des lignes de bits couplées
• G11C 11/4074 - Circuits d'alimentation ou de génération de tension, p. ex. générateurs de tension de polarisation, générateurs de tension de substrat, alimentation de secours, circuits de commande d'alimentation
• G11C 11/4099 - Traitement de cellules facticesGénérateurs de tension de référence

Abrégé

A fault-injection protection circuit includes a circuit under protection and a detection circuit. The detection circuit includes a detection cell having unequal pull-up capability and pull-down capability, and is arranged at a distance less than a laser spot diameter from the circuit under protection. The detection circuit is used to generate an alarm signal upon detecting a laser fault injection.

Classes IPC  ?

• G06F 21/75 - Protection de composants spécifiques internes ou périphériques, où la protection d'un composant mène à la protection de tout le calculateur pour assurer la sécurité du calcul ou du traitement de l’information par inhibition de l’analyse de circuit ou du fonctionnement, p. ex. pour empêcher l'ingénierie inverse
• G06F 21/55 - Détection d’intrusion locale ou mise en œuvre de contre-mesures
• H03K 19/20 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion caractérisés par la fonction logique, p. ex. circuits ET, OU, NI, NON

Abrégé

A level shifter includes a cross-coupled transistor pair, first through third biased transistor pairs and a differential input pair sequentially coupled in series, and further includes a sub level shifter. The first biased transistor pair is controlled by a first reference voltage. The second biased transistor pair is controlled by a pair of differential control voltages. The third biased transistor pair is controlled by a second reference voltage lower than the first reference voltage. The differential input pair is controlled by a pair of differential input voltages. The sub level shifter generates the differential control voltages according to the differential input voltages and the first and second reference voltages. The differential control voltages are switched between the first and second reference voltages. The level shifter outputs a pair of differential output voltages through inverted and non-inverted output terminals coupled with the second biased transistor pair.

Classes IPC  ?

• H03K 19/01 - Modifications pour accélérer la commutation
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/32 - Circuits de synchronisation
• G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
• H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ

Abrégé

A programming method of a non-volatile memory cell is provided. The non-volatile memory cell includes a memory transistor. Firstly, a current limiter is provided, and the current limiter is connected between a drain terminal of the memory transistor and a ground terminal. Then, a program voltage is provided to a source terminal of the memory transistor, and a control signal is provided to a gate terminal of the memory transistor. In a first time period of a program action, the control signal is gradually decreased from a first voltage value, so that the memory transistor is firstly turned off and then slightly turned on. When the memory transistor is turned on, plural hot electrons are injected into a charge trapping layer of the memory transistor.

Classes IPC  ?

• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/32 - Circuits de synchronisation
• G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
• H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ

Abrégé

An antifuse-type OTP memory cell at least includes a first nanowire, a second nanowire, a first gate structure, a first drain/source structure and a second drain/source structure. The first gate structure includes a first gate dielectric layer, a second gate dielectric layer and a first gate layer. The first nanowire is surrounded by the first gate dielectric layer. The second nanowire is surrounded by the second gate dielectric layer. The first gate dielectric layer and the second gate dielectric layer are surrounded by the first gate layer. The first drain/source structure is electrically contacted with a first terminal of the first nanowire and a first terminal of the second nanowire. The second drain/source structure is electrically contacted with a second terminal of the first nanowire. The second drain/source structure is not electrically contacted with a second terminal of the second nanowire.

Classes IPC  ?

• H10B 20/25 - Dispositifs ROM programmable une seule fois, p. ex. utilisant des jonctions électriquement fusibles
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide

Abrégé

A selection circuit includes a main selection circuit and an auxiliary selection circuit. When a first voltage and a second voltage are different, the main selection circuit selects a higher one of the first voltage and the second voltage as an output voltage. When the first voltage and the second voltage are equal, the auxiliary selection circuit generates the output voltage according to the first voltage and the second voltage.

Classes IPC  ?

• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation

Abrégé

An ESD circuit includes a first P-type transistor, a second P-type transistor, a third P-type transistor, a first ESD current path, a second ESD current path, a biasing circuit and a control circuit. The control circuit is connected between the pad and a first node. The first P-type transistor is connected with the pad, the control circuit and a second node. The first ESD current path is connected between the second node and the first node. The second ESD current path is connected between the second node and the first node. The second P-type transistor is connected with the pad, the control circuit and a third node. The biasing circuit is connected between the third node and the first node. The third P-type transistor is connected with the pad, the third node, and a fourth node. The internal circuit is connected between the fourth node and the first node.

Classes IPC  ?

• H02H 9/02 - Circuits de protection de sécurité pour limiter l'excès de courant ou de tension sans déconnexion sensibles à un excès de courant

Abrégé

An OTP memory cell includes an antifuse transistor, a first transistor and a second transistor. The antifuse transistor includes a first fin, a second fin, a first gate structure, a first drain/source contact layer and a second drain/source contact layer. A central region of the first fin and a central region of the second fin are covered by a first gate structure. The first drain/source contact layer is electrically connected with a first terminal of the first fin and a first terminal of the second fin. The second drain/source contact layer is electrically connected with a second terminal of the second fin but not electrically connected with a second terminal of the first fin. The first transistor is connected with the first drain/source contact layer. The second transistor is connected with the second drain/source contact layer.

Classes IPC  ?

• G11C 5/02 - Disposition d'éléments d'emmagasinage, p. ex. sous la forme d'une matrice
• G11C 16/24 - Circuits de commande de lignes de bits
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• G11C 17/16 - Mémoires mortes programmables une seule foisMémoires semi-permanentes, p. ex. cartes d'information pouvant être replacées à la main dans lesquelles le contenu est déterminé en établissant, en rompant ou en modifiant sélectivement les liaisons de connexion par une modification définitive de l'état des éléments de couplage, p. ex. mémoires PROM utilisant des liaisons électriquement fusibles
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
• H02H 9/02 - Circuits de protection de sécurité pour limiter l'excès de courant ou de tension sans déconnexion sensibles à un excès de courant
• H10B 20/25 - Dispositifs ROM programmable une seule fois, p. ex. utilisant des jonctions électriquement fusibles

Abrégé

An antifuse-type one time programming memory cell at least includes an antifuse transistor. The antifuse transistor includes a first nanowire, a first gate structure, a first drain/source structure and a second drain/source structure. The first nanowire is surrounded by the first gate structure. The first gate structure comprises a first spacer, a second spacer, a first gate dielectric layer and a first gate layer. The first drain/source structure is electrically contacted with a first terminal of the first nanowire. The second drain/source structure is electrically contacted with a second terminal of the first nanowire.

Classes IPC  ?

• H10B 20/25 - Dispositifs ROM programmable une seule fois, p. ex. utilisant des jonctions électriquement fusibles

Abrégé

A voltage level shifter includes an input transistor, a control circuit, a reset circuit, and a keeper circuit. The input transistor is configured to receive an input voltage and a first reference voltage. The control circuit is configured to generate a pulse voltage according to the input voltage and one of a node voltage, an output voltage, and an inversion input voltage. The reset circuit is configured to receive the first reference voltage and a second reference voltage and controlled by the pulse voltage. The reset circuit is coupled to the input transistor at a first node where the node voltage is generated. The keeper circuit is coupled to the first node and configured to generate the output voltage according to the node voltage, the first reference voltage, the second reference voltage, and the output voltage.

Classes IPC  ?

• H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• H03K 3/037 - Circuits bistables
• H10B 41/10 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la configuration vue du dessus
• H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET

Abrégé

A non-volatile memory cell includes a p-type well region, a first n-type doped region, a second n-type doped region, a first gate structure, a second gate structure, a third gate structure and a protecting layer. The first n-type doped region and the second n-type doped region are formed under a surface of the p-type well region. The first gate structure and the second gate structure are formed over the surface of the p-type well region and arranged between the first n-type doped region and the second n-type doped region. A first part of a first gate layer of the first gate structure and the second gate structure are covered by the protecting layer. The third gate structure is formed over the surface of the p-type well region and arranged between the first gate structure and the second gate structure.

Classes IPC  ?

• H01L 29/76 - Dispositifs unipolaires
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement

Abrégé

A random bit generator includes a voltage source, a bit data cell, and a sensing control circuit. The voltage source provides a scan voltage during enroll operations. The data cell includes a first transistor and a second transistor. The first transistor has a first terminal coupled to a first bit line, a second terminal coupled to the voltage source, and a control terminal. The second transistor has a first terminal coupled to a second bit line, a second terminal coupled to the voltage source, and a control terminal. The sensing control circuit is coupled to the first bit line and the second bit line, and outputs a random bit data according to currents generated through the first transistor and the second transistor during an enroll operation of the bit data cell.

Classes IPC  ?

• G06F 7/58 - Générateurs de nombres aléatoires ou pseudo-aléatoires
• G11C 11/412 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments électriques utilisant des dispositifs à semi-conducteurs utilisant des transistors formant des cellules avec réaction positive, c.-à-d. des cellules ne nécessitant pas de rafraîchissement ou de régénération de la charge, p. ex. multivibrateur bistable, déclencheur de Schmitt utilisant uniquement des transistors à effet de champ
• G11C 11/419 - Circuits de lecture-écriture [R-W]
• H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
• H03K 3/037 - Circuits bistables
• H03K 3/84 - Génération d'impulsions ayant une distribution statistique prédéterminée d'un paramètre, p. ex. générateurs d'impulsions aléatoires

Abrégé

A memory cell of a non-volatile memory includes a select transistor, a floating gate transistor, a first capacitor, a switching transistor and a second capacitor. A first drain/source terminal of the select transistor is connected with a source line. A gate terminal of the select transistor is connected with a word line. The two drain/source terminals of the floating gate transistor are respectively connected with a second drain/source terminal of the select transistor and a bit line. The first capacitor is connected between a floating gate of the floating gate transistor and an erase node. The two drain/source terminals of the switching transistor are respectively connected with the erase node and an erase line. The gate terminal of the switching transistor is connected with a control line. The second capacitor is connected between the erase node and a boost line.

Classes IPC  ?

• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données

Abrégé

A manufacturing method for a nonvolatile charge-trapping memory apparatus is provided. During the manufacturing process of the nonvolatile memory apparatus, a blocking layer of a storage device is effectively protected. Consequently, the blocking layer is not contaminated or thinned. Moreover, since the well regions of the logic device area and the memory device area are not simultaneously fabricated, it is feasible to fabricate small-sized nonvolatile memory cell in the memory device area and precisely control the threshold voltage of the charge trapping transistor.

Classes IPC  ?

• H10B 43/30 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

A resistive memory cell includes a P-well region, an isolation structure, an N-well region, a first gate structure, a second gate structure, a first N-type doped region, a second N-type doped region, a third N-type doped region, a fourth N-type doped region, a word line, a bit line, a conductor line and a program line. The third N-type doped region, the fourth N-type doped region and the N-well region are collaboratively formed as an N-type merged region. The bit line is connected with the first N-type doped region. The word line is connected with a conductive layer of the first gate structure. The conductor line is connected with the second N-type doped region and a conductive layer of the second gate structure. The program line is connected with the N-type merged region.

Classes IPC  ?

• H10B 63/00 - Dispositifs de mémoire par changement de résistance, p. ex. dispositifs RAM résistifs [ReRAM]
• H10N 70/00 - Dispositifs à l’état solide n’ayant pas de barrières de potentiel, spécialement adaptés au redressement, à l'amplification, à la production d'oscillations ou à la commutation
• G11C 13/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage non couverts par les groupes , ou

Abrégé

A memory cell of a charge-trapping non-volatile memory is provided. The memory cell is formed on a well region of a semiconductor substrate. The memory cell includes a storage transistor. A gate structure of the storage transistor includes a first tunneling layer, a second tunneling layer, a trapping layer, a blocking layer and a gate layer. The first tunneling layer is contacted with a surface of the well region. The second tunneling layer covers the first tunneling layer. The trapping layer covers the second tunneling layer. The blocking layer covers the trapping layer. The gate layer covers the blocking layer. The second tunneling layer has gradient nitrogen distribution. A first nitrogen concentration of a first region of the second tunneling layer close to the first tunneling layer is lower than a second nitrogen concentration of a second region of the second tunneling layer close to the trapping layer.

Classes IPC  ?

• H10B 43/30 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire
• H01L 29/792 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à isolant de grille à emmagasinage de charges, p.ex. transistor de mémoire MNOS

Abrégé

A voltage detecting circuit for a non-volatile memory is provided. When a standby signal is not asserted, a power supply unit of the non-volatile memory provides an array voltage to a first node. The voltage detecting circuit includes an initial voltage generator, a capacitor, a latch and a combinational logic circuit. The initial voltage generator receives an inverted standby signal and an enable signal. An output terminal of the initial voltage generator is connected with a second node. The capacitor is coupled between the first node and the second node. An input terminal of the latch is connected with the second node. An output terminal of the latch is connected with a third node. An input terminal of the combinational logic circuit is connected with the third node. An output terminal of the combinational logic circuit generates the enable signal.

Classes IPC  ?

• G11C 5/14 - Dispositions pour l'alimentation

Abrégé

A driving circuit includes a cross coupled circuit, a first conducting device, a second conducting device, a first switching device, a second switching device, a first selecting device and a second selecting device. The first conducting device is connected between a first node and a second node. The second conducting device is connected between a third node and a fourth node. The cross coupled circuit receives a first supply voltage and is connected with the first node and the second node. The first switching device is connected between the second node and a fifth node. The second switching device is connected between the fourth node and a sixth node. The first and second selecting devices are respectively connected with the fifth node and the sixth node. Each of the first and second selecting devices receives a second supply voltage and a third supply voltage.

Classes IPC  ?

• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation

Abrégé

A non-volatile memory cell includes a first select transistor, a first floating gate transistor, a second floating gate transistor and a second select transistor. The first select transistor is connected with a program source line and a program word line. The first floating gate transistor includes a floating gate. The first floating gate transistor is connected with the first select transistor and a program bit line. The second floating gate transistor includes a floating gate. The second floating gate transistor is connected with a read source line. The second select transistor is connected with the second floating gate transistor, the read word line and the read bit line. The floating gate of the second floating gate transistor is connected with the floating gate of the first floating gate transistor.

Classes IPC  ?

• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données

Abrégé

A memory cell of a charge-trapping non-volatile memory includes a semiconductor substrate, a well region, a first doped region, a second doped region, a gate structure, a protecting layer, a charge trapping layer, a dielectric layer, a first conducting line and a second conducting line. The first doped region and the second doped region are formed under a surface of the well region. The gate structure is formed over the surface of the well region. The protecting layer formed on the surface of the well region. The charge trapping layer covers the surface of the well region, the gate structure and the protecting layer. The dielectric layer covers the charge trapping layer. The first conducting line is connected with the first doped region. The second conducting line is connected with the second doped region.

Classes IPC  ?

• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/792 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à isolant de grille à emmagasinage de charges, p.ex. transistor de mémoire MNOS
• H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus
• H10B 43/30 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire
• H01L 21/28 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

A sensing device for a non-volatile memory includes a reference circuit, two switches, a sensing circuit and a judging circuit. The reference circuit is connected to a first node. A first terminal of the first switch is connected with the first node and a control terminal of the first switch receives an inverted reset pulse. A first terminal of the second switch is connected with the first node, a second terminal of the second switch receives a ground voltage, and a control terminal of the second switch receives a reset pulse. The sensing circuit is connected between the second terminal of the first switch and a second node. The sensing circuit generates a first sensed current. The judging circuit is connected to the second node. The judging circuit receives the first sensed current and generates an output data according to the first sensed current.

Classes IPC  ?

• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation
• G11C 16/32 - Circuits de synchronisation

Abrégé

An erasable programmable single-poly non-volatile memory cell and an associated array structure are provided. The memory cell comprises a select transistor and a floating gate transistor. The floating gate of the floating gate transistor and an assist gate region are collaboratively formed as a capacitor. The floating gate of the floating gate transistor and an erase gate region are collaboratively formed as another capacitor. Moreover, the select transistor, the floating gate transistor and the two capacitors are collaboratively formed as a four-terminal memory cell. Consequently, the size of the memory cell is small, and the memory cell is operated more easily.

Classes IPC  ?

• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
• H10B 41/70 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes la grille flottante étant une électrode partagée par plusieurs éléments

Abrégé

A program control circuit for an antifuse-type one time programming memory cell array is provided. When the program action is performed, the program control circuit monitors the program current from the memory cell in real time and increases the program voltage at proper time. When the program control circuit judges that the program current generated by the memory cell is sufficient, the program control circuit confirms that the program action is completed.

Classes IPC  ?

• G11C 17/18 - Circuits auxiliaires, p. ex. pour l'écriture dans la mémoire
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation
• G11C 17/16 - Mémoires mortes programmables une seule foisMémoires semi-permanentes, p. ex. cartes d'information pouvant être replacées à la main dans lesquelles le contenu est déterminé en établissant, en rompant ou en modifiant sélectivement les liaisons de connexion par une modification définitive de l'état des éléments de couplage, p. ex. mémoires PROM utilisant des liaisons électriquement fusibles

Abrégé

An erasable programmable single-poly non-volatile memory cell and an associated array structure are provided. In the memory cell of the array structure, the assist gate region is composed at least two plate capacitors. Especially, the assist gate region at least contains a poly/poly plate capacitor and a metal/poly plate capacitor. The structures and the fabricating processes of the plate capacitors are simple. In addition, the uses of the plate capacitors can effectively reduce the size of the memory cell.

Classes IPC  ?

• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• H10B 41/70 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes la grille flottante étant une électrode partagée par plusieurs éléments
• H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données

Abrégé

A charge pump apparatus includes a first charge pump system, a second charge pump system, a switch transistor, and a voltage regulation circuit. The first charge pump system converts a first supply voltage into a first boost voltage. The second charge pump system converts a second supply voltage into a second boost voltage. The switch transistor is coupled to the first charge pump system and the second charge pump system, and outputs an output voltage according to the second boost voltage. The switch transistor includes a control terminal receiving the second boost voltage, a first terminal receiving the first boost voltage, and a second terminal outputting the output voltage. The voltage regulation circuit successively adjusts a code of a voltage regulation signal according to the output voltage, in order to control the second charge pump system to successively adjust the second boost voltage according to the voltage regulation signal.

Classes IPC  ?

• H02M 3/07 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des résistances ou des capacités, p. ex. diviseur de tension utilisant des capacités chargées et déchargées alternativement par des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande
• G11C 11/56 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments d'emmagasinage comportant plus de deux états stables représentés par des échelons, p. ex. de tension, de courant, de phase, de fréquence
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation

Abrégé

A forming control method for a resistive random-access memory cell array is provided. While a forming action of the resistive random-access memory cell array is performed, a verification action is performed to judge whether the forming action on the resistive random-access memory cells has been successfully done. By properly changing a forming voltage or a pulse width, the forming actions on all of the resistive random-access memory cells of the resistive random-access memory cell array can be successfully done.

Classes IPC  ?

• G11C 11/16 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments magnétiques utilisant des éléments dans lesquels l'effet d'emmagasinage est basé sur l'effet de spin
• G11C 7/24 - Circuits de protection ou de sécurité pour cellules de mémoire, p. ex. dispositions pour empêcher la lecture ou l'écriture par inadvertanceCellules d'étatCellules de test
• G11C 13/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage non couverts par les groupes , ou
• H01L 23/525 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées avec des interconnexions modifiables
• H10B 20/20 - Dispositifs ROM programmable électriquement [PROM] comprenant des composants à effet de champ

Abrégé

A random code generating method for the magnetoresistive random access memory is provided. Firstly, a first magnetoresistive random access memory cell and a second magnetoresistive random access memory cell are programmed into an anti-parallel state. Then, an initial value of a control current is set. Then, an enroll action is performed on the first and second magnetoresistive random access memory cells. If the first and second magnetoresistive random access memory cells fail to pass the verification action, the control current is increased by a current increment, and the step of setting the control current is performed again. If the first and second magnetoresistive random access memory cells pass the verification action, a one-bit random code is stored in the first magnetoresistive random access memory cell or the second magnetoresistive random access memory cell.

Classes IPC  ?

• G11C 11/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants
• G11C 7/24 - Circuits de protection ou de sécurité pour cellules de mémoire, p. ex. dispositions pour empêcher la lecture ou l'écriture par inadvertanceCellules d'étatCellules de test
• G11C 11/16 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments magnétiques utilisant des éléments dans lesquels l'effet d'emmagasinage est basé sur l'effet de spin
• G11C 13/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage non couverts par les groupes , ou
• H01L 23/525 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées avec des interconnexions modifiables
• H10B 20/20 - Dispositifs ROM programmable électriquement [PROM] comprenant des composants à effet de champ

Abrégé

A fuse-type one time programming memory cell includes a semiconductor substrate, a switch element, a first metal layer, a second metal layer and a third metal layer. Moreover, W metal lines are connected between a first metal area of the first metal layer and a first terminal of the switch element, and X metal lines are connected between a second metal area of the first metal layer and a second terminal of the switch element. Moreover, Y metal lines are connected between the second metal area of the first metal layer and a metal area of the second metal layer and served as a fuse element. Moreover, Z metal lines are connected between the metal area of the second metal layer and a metal area of the third metal layer. The total cross section area of the Y metal lines is the smallest.

Classes IPC  ?

• H01L 27/112 - Structures de mémoires mortes
• H01L 23/525 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées avec des interconnexions modifiables

Abrégé

An antifuse-type one time programming memory cell includes a select device, a following device and an antifuse transistor. A first terminal of the select device is connected with a bit line. A second terminal of the select device is connected with a first node. A select terminal of the select device is connected with a word line. A first terminal of the following device is connected with the first node. A second terminal of the following device is connected with a second node. A control terminal of the following device is connected with a following control line. A first drain/source terminal of the antifuse transistor is connected with the second node. A gate terminal of the antifuse transistor is connected with an antifuse control line. A second drain/source terminal of the antifuse transistor is in a floating state.

Classes IPC  ?

• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/24 - Circuits de commande de lignes de bits
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation
• G11C 17/08 - Mémoires mortes programmables une seule foisMémoires semi-permanentes, p. ex. cartes d'information pouvant être replacées à la main utilisant des dispositifs à semi-conducteurs, p. ex. des éléments bipolaires

Abrégé

A differential memory cell array structure for a MTP non-volatile memory is provided. The array structure is connected to a source line, a word line, a bit line, an inverted bit liner and an erase line. After an erase operation (ERS) is completed, the stored data in the differential memory cells of the selected row are not all erased. That is, only the stored data in a single selected memory cell of the selected row is erased.

Classes IPC  ?

• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
• G11C 16/24 - Circuits de commande de lignes de bits
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• H10B 41/00 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes

Abrégé

A resistive memory device includes word lines, first memory cells, second memory cells, bit lines, source lines, and a driver. The driver provides a forming voltage to the first memory cells and the second memory cells through the bit lines and the source lines in a forming process. A first connection length along the bit lines and the source lines between the first memory cells and the driver is longer than a second connection length along the bit lines and the source lines between the second memory cells and the driver. The forming process is performed to the first memory cells before the forming process is performed to the second memory cells. A first value of the forming voltage provided to the first memory cells is less than a second value of the forming voltage provided to the second memory cells.

Classes IPC  ?

• G11C 13/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage non couverts par les groupes , ou

Abrégé

A method for manufacturing a semiconductor structure includes forming a first oxide layer on a wafer; forming a silicon nitride layer on the first oxide layer; forming a plurality of trenches; filling an oxide material in the trenches to form a plurality of shallow trench isolation regions; removing the silicon nitride layer without removing the first oxide layer; using a photomask to apply a photoresist for covering a first part of the first oxide layer on a first area and exposing a second part of the first oxide layer on a second area; and removing the second part of the first oxide layer while remaining the first part of the first oxide layer.

Classes IPC  ?

• H01L 21/00 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante

Abrégé

A switch device includes a P-type substrate, a first gate structure, a first N-well, a shallow trench isolation structure, a first P-well, a second gate structure, a first N-type doped region, a second P-well, and a second N-type doped region. The first N-well is formed in the P-type substrate and partly under the first gate structure. The shallow trench isolation structure is formed in the first N-well and under the first gate structure. The first P-well is formed in the P-type substrate and under the first gate structure. The first N-type doped region is formed in the P-type substrate and between the first gate structure and the second gate structure. The second P-well is formed in the P-type substrate and under the second gate structure. The second N-type doped region is formed in the second P-well and partly under the second gate structure.

Classes IPC  ?

• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
• H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus

Abrégé

A cell array structure includes a first resistive memory cell. The first resistive memory cell includes a well region, a first doped region, a merged region, a first gate structure, a second gate structure and a first metal layer. The first doped region is formed under a surface of the well region. The merged region is formed under the surface of the well region. The first gate structure is formed over the surface of the well region between the first doped region and the merged region. The first gate structure includes a first insulation layer and a first conductive layer. The second gate structure is formed over the merged region. The second gate structure includes a second insulation layer and a second conductive layer. The first metal layer is connected with the first doped region.

Classes IPC  ?

• H10B 99/00 - Matière non prévue dans les autres groupes de la présente sous-classe
• G11C 11/416 - Circuits de lecture-écriture [R-W]

Abrégé

When a driving circuit of an anti-fuse memory device programs a selected anti-fuse memory cell, voltage differences between unselected bit lines and unselected anti-fuse control lines would be eliminated or decreased to an acceptable value by floating unselected anti-fuse control lines or by applying a second control line voltage to the unselected anti-fuse control lines. Leakage currents flowing from unselected bit lines through ruptured anti-fuse transistors of the anti-fuse memory device to the unselected anti-fuse control lines would be decreased or eliminated, and program disturbance would be avoided.

Classes IPC  ?

• G11C 17/18 - Circuits auxiliaires, p. ex. pour l'écriture dans la mémoire
• G11C 17/16 - Mémoires mortes programmables une seule foisMémoires semi-permanentes, p. ex. cartes d'information pouvant être replacées à la main dans lesquelles le contenu est déterminé en établissant, en rompant ou en modifiant sélectivement les liaisons de connexion par une modification définitive de l'état des éléments de couplage, p. ex. mémoires PROM utilisant des liaisons électriquement fusibles

Abrégé

A memory device includes a data memory array, a reference memory array and a detection circuit. The reference memory array includes (N/2+1) bit lines, (N/2) source lines and reference cells, N being a positive even integer. Each row of reference cells includes a (2n−1)th reference cell and a (2n)th reference cell. The (2n−1)th reference cell includes a first terminal coupled to an nth bit line, and a second terminal coupled to an nth source line, n being a positive integer less than N/2+1. The (2n)th reference cell includes a first terminal coupled to an (n+1)th bit line, and a second terminal coupled to the nth source line. The detection circuit compares a data current outputted from the data memory array and a reference current outputted from the reference memory array to determine a data state of a memory cell.

Classes IPC  ?

• G11C 29/38 - Dispositifs de vérification de réponse
• G11C 11/16 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments magnétiques utilisant des éléments dans lesquels l'effet d'emmagasinage est basé sur l'effet de spin

Abrégé

Provided is a memory device including a memory structure including a substrate, a channel region, first and second doped regions, a floating gate and a dielectric layer. The channel region is disposed on the substrate. The first and the second doped regions are disposed on the substrate and respectively located at two sides of the channel region. The floating gate is disposed on the channel region. The dielectric layer is disposed between the floating gate and the channel region, the first doped region and the second doped region. The floating gate and the first doped region are partially overlapped, and/or the floating gate and the second doped region are not overlapped and a sidewall of the floating gate adjacent to the second doped region and a boundary between the second doped region and the channel region are separated by a distance.

Classes IPC  ?

• G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
• H01L 27/11519 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la configuration vue du dessus
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante
• H01L 27/11521 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS

Abrégé

An integrated circuit is provided. An ESD inhibition circuit of the integrated circuit is connected with a first pad, a first node and a second node. The ESD inhibition circuit includes a capacitor bank, a resistor, a voltage selector and a switching transistor. The capacitor bank is connected between the first pad and a third node. The resistor is connected between the third node and the first node. The two input terminals of the voltage selector are connected with the third node and a fourth node, respectively. An output terminal of the voltage selector is connected with a fifth node. A first terminal of the switching transistor is connected with the first pad. A second terminal of the switching transistor is connected with the second node. A gate terminal of the switching transistor is connected with the fifth node.

Classes IPC  ?

• H02H 9/04 - Circuits de protection de sécurité pour limiter l'excès de courant ou de tension sans déconnexion sensibles à un excès de tension
• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface

Abrégé

A charge pump apparatus including a first charge pump system, a second charge pump system, a switch transistor, and a voltage regulation circuit is provided. The first charge pump system converts a first supply voltage into a first boost voltage. The second charge pump system converts a second supply voltage into a second boost voltage. The switch transistor is coupled to the first charge pump system and the second charge pump system, and outputs an output voltage according to the second boost voltage. The switch transistor includes a control terminal receiving the second boost voltage, a first terminal receiving the first boost voltage, and a second terminal outputting the output voltage. The voltage regulation circuit controls the second charge pump system according to the output voltage to adjust the second boost voltage so that the output voltage approaches to a target output value.

Classes IPC  ?

• H02M 3/07 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des résistances ou des capacités, p. ex. diviseur de tension utilisant des capacités chargées et déchargées alternativement par des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande
• G11C 11/56 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments d'emmagasinage comportant plus de deux états stables représentés par des échelons, p. ex. de tension, de courant, de phase, de fréquence
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation

Abrégé

A non-volatile memory includes a cell array, a current supply circuit, a path selecting circuit, a verification circuit and a control circuit. During a sample period of a verification action, the control circuit controls the current supply circuit to provide n M-th reference currents to the verification circuit and convert the n M-th reference currents into n reference voltages. During a verification period of the verification action, the control circuit controls n multi-level memory cells of a selected row of the cell array to generate n cell currents to the verification circuit and convert the n cell currents into n sensed voltages. The n verification devices generate the n verification signals according to the reference voltages and the sensed voltages. Accordingly, the control circuit judges whether the n multi-level memory cells have reached an M-th storage state.

Classes IPC  ?

• G11C 11/34 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments électriques utilisant des dispositifs à semi-conducteurs
• G11C 11/56 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments d'emmagasinage comportant plus de deux états stables représentés par des échelons, p. ex. de tension, de courant, de phase, de fréquence
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• H02M 3/07 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des résistances ou des capacités, p. ex. diviseur de tension utilisant des capacités chargées et déchargées alternativement par des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation

Abrégé

A memory structure including a substrate, a gate structure, a charge storage layer, and a first control gate is provided. The substrate has a fin portion. A portion of the gate structure is disposed on the fin portion. The gate structure and the fin portion are electrically insulated from each other. The charge storage layer is coupled the gate structure. The charge storage layer and the gate structure are electrically insulated from each other. The first control gate is coupled to the charge storage layer. The first control gate and the charge storage layer are electrically insulated from each other.

Classes IPC  ?

• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H10B 41/10 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la configuration vue du dessus
• H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
• H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus

Abrégé

A memory cell of a non-volatile memory includes a memory element. The memory element is a transistor. The memory element includes an asymmetric spacer. In the memory element, a channel under the wider part of the spacer is longer. When the program operation of the memory element is performed, more carriers are injected into a charge-trapping layer of the spacer through the longer channel. Consequently, the program operation of the memory element is performed more efficiently, and the time period of performing the program operation is reduced.

Classes IPC  ?

• H01L 21/28 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes
• H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• H01L 29/792 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à isolant de grille à emmagasinage de charges, p.ex. transistor de mémoire MNOS
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante
• H10B 41/10 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la configuration vue du dessus
• H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
• H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus

Abrégé

A charge pump circuit includes a power switch, a first pull-low circuit, an output pull-low circuit, a first charge pump stage and an output charge pump stage. The power switch receives an enabling signal. The first pull-low circuit and the output pull-low circuit receive a pull-low signal. The first charge pump stage includes a first boost capacitor used to receive a first phase signal, a first transfer transistor, a first gate-control transistor and a first storage capacitor used to receive a second phase signal. The output charge pump stage includes an output boost capacitor used to receive a third phase signal, an output transfer transistor and an output gate-control transistor. The charge pump circuit generates voltages in an erasing operation, a program operation and a read operation according to the enabling signal, the pull-low signal, the first phase signal, the second phase signal and the third phase signal.

Classes IPC  ?

• G11C 7/00 - Dispositions pour écrire une information ou pour lire une information dans une mémoire numérique
• H10B 41/60 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes la grille de commande étant une région dopée, p. ex. cellules de mémoire en couche unique de polysilicium
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation
• H02M 3/07 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des résistances ou des capacités, p. ex. diviseur de tension utilisant des capacités chargées et déchargées alternativement par des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande
• H10B 41/10 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la configuration vue du dessus
• H10B 41/30 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire

Abrégé

A memory device includes a first well, a second well, a first active area, a second active area, a third active area, a first poly layer and a second poly layer. The first well is of a first conductivity type. The second well is of a second conductivity type different from the first conductivity type. The first active area is of the second conductivity type and is formed on the first well. The second active area is of the first conductivity type and is formed on the first well and between the first active area and the second well. The third active area is of the first conductivity type and is formed on the second well. The first poly layer is formed above the first well and the second well. The second poly layer is formed above the first well.

Classes IPC  ?

• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• H01L 27/11558 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes la grille de commande étant une région dopée, p.ex. cellules de mémoire en couche unique de polysilicium
• H01L 27/11519 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la configuration vue du dessus
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• H01L 27/11521 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation
• H02M 3/07 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des résistances ou des capacités, p. ex. diviseur de tension utilisant des capacités chargées et déchargées alternativement par des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande

Abrégé

A programming and verifying method for a multi-level memory cell array includes following steps. In a step (a1), a first row of the multi-level memory cell array is set as a selected row, and A is set as 1. In a step (a2), memory cells in the selected row excluding the memory cells in the target storage state and bad memory cells are programmed to the A-th storage state. In a step (a3), if A is not equal to X, 1 is added to X and the step (a2) is performed again. In a step (a4), if A is equal to X, the program cycle is ended. In the step (a2), the first-portion memory cells of the selected row are subjected to plural write actions and plural verification actions until all of the first-portion memory cells reach the A-th storage state.

Classes IPC  ?

• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots

Abrégé

A level shifter includes a self-initialization circuit. The self-initialization circuit judges whether the input signal and the inverted input signal received by the level shifter are invalid while a power supply voltage is powered up. If the self-initialization circuit confirms that the input signal and the inverted input signal received by the level shifter are invalid, the self-initialization circuit controls the level shifter to be maintained in a self-initializing power up state. Consequently, the output signal from the level shifter has the specified voltage level.

Classes IPC  ?

• H03L 5/00 - Commande automatique de la tension, du courant ou de la puissance
• H03K 3/037 - Circuits bistables
• H03K 19/20 - Circuits logiques, c.-à-d. ayant au moins deux entrées agissant sur une sortieCircuits d'inversion caractérisés par la fonction logique, p. ex. circuits ET, OU, NI, NON

Abrégé

A sensing circuit includes a cell clock generator, a reference clock generator, a counter, a latching signal generator, a latch and a count-to-state conversion circuit. The cell clock generator receives a cell current from a selected memory cell, and converts the cell current into a cell clock signal. The reference clock generator converts a reference current into a reference clock signal. The count receives the cell clock signal, and generates a count value. When a pulse number of the reference clock signal reaches a predetermined count value, the latching signal generator activates a latching signal. When the latching signal is activated, the latch issues a latched count value. The count-to-state conversion circuit receives the latched count value, and issues a state value. A storage state of the selected memory cell is determined according to the state value.

Classes IPC  ?

• G11C 7/00 - Dispositions pour écrire une information ou pour lire une information dans une mémoire numérique
• G11C 7/06 - Amplificateurs de lectureCircuits associés
• G11C 7/22 - Circuits de synchronisation ou d'horloge pour la lecture-écriture [R-W]Générateurs ou gestion de signaux de commande pour la lecture-écriture [R-W]
• G11C 7/10 - Dispositions d'interface d'entrée/sortie [E/S, I/O] de données, p. ex. circuits de commande E/S de données, mémoires tampon de données E/S

Abrégé

A memory device includes a well, a poly layer, a dielectric layer, an alignment layer and an active area. The poly layer is formed above the well. The dielectric layer is formed above the poly layer. The alignment layer is formed on the dielectric layer, used to receive an alignment layer voltage and substantially aligned with the dielectric layer in a projection direction. The active area is formed on the well. The dielectric layer is thicker than the alignment layer. A first overlap area of the poly layer and the active area is smaller than a second overlap area of the poly layer and the dielectric layer excluding the first overlap area.

Classes IPC  ?

• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• H01L 27/11519 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la configuration vue du dessus
• H01L 27/11524 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
• G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/24 - Circuits de commande de lignes de bits
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation
• G11C 11/16 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments magnétiques utilisant des éléments dans lesquels l'effet d'emmagasinage est basé sur l'effet de spin
• G11C 13/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage non couverts par les groupes , ou
• H01L 27/11521 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter

Abrégé

A memory cell of a memory cell array includes a well region, a first doped region, a second doped region, a first gate structure, and a storage structure. The first doped region and the second doped region are formed in the well region. The first gate structure is formed over a first surface between the first doped region and the second doped region. The storage structure is formed over a second surface and the second surface is between the first surface and the second doped region. The storage structure is covered on a portion of the first gate structure, the second surface and an isolation structure.

Classes IPC  ?

• H01L 27/11519 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la configuration vue du dessus
• H01L 27/11521 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire
• H01L 27/11524 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• G11C 11/16 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments magnétiques utilisant des éléments dans lesquels l'effet d'emmagasinage est basé sur l'effet de spin
• G11C 13/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage non couverts par les groupes , ou
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/24 - Circuits de commande de lignes de bits
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation

Abrégé

A write voltage generator is connected with a magnetoresistive random access memory. The write voltage generator provides a write voltage during a write operation. A storage state of a selected memory cell in a write path of the magnetoresistive random access memory is changed in response to the write voltage. The write voltage generator includes a temperature compensation circuit and a process corner compensation circuit. The temperature compensation circuit generates a transition voltage according to an ambient temperature. The transition voltage decreases with the increasing ambient temperature. The process corner compensation circuit receives the transition voltage and generates the write voltage.

Classes IPC  ?

• G11C 7/04 - Dispositions pour écrire une information ou pour lire une information dans une mémoire numérique avec des moyens d'éviter les effets perturbateurs thermiques
• G11C 11/16 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments magnétiques utilisant des éléments dans lesquels l'effet d'emmagasinage est basé sur l'effet de spin
• G11C 13/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage non couverts par les groupes , ou
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/24 - Circuits de commande de lignes de bits
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation
• H01L 27/11519 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la configuration vue du dessus
• H01L 27/11524 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
• H01L 27/11521 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter

Abrégé

A non-volatile memory includes a cell array, a current supply circuit, a path selecting circuit and a judging circuit. The cell array includes plural multi-level memory cells in an m×n array. The cell array is connected with m word lines and n lines. The current supply circuit provides one of plural reference currents according to a current control value. The path selecting circuit is connected with the current supply circuit and the n bit lines. The judging circuit is connected with the path selecting circuit, and generates n output data. A first path selector of the path selecting circuit is connected with a path selecting circuit and a first bit line. A first judging device of the judging circuit is connected with the first path selector and generates a first output data.

Classes IPC  ?

• G11C 17/00 - Mémoires mortes programmables une seule foisMémoires semi-permanentes, p. ex. cartes d'information pouvant être replacées à la main
• G11C 11/56 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments d'emmagasinage comportant plus de deux états stables représentés par des échelons, p. ex. de tension, de courant, de phase, de fréquence
• G11C 17/16 - Mémoires mortes programmables une seule foisMémoires semi-permanentes, p. ex. cartes d'information pouvant être replacées à la main dans lesquelles le contenu est déterminé en établissant, en rompant ou en modifiant sélectivement les liaisons de connexion par une modification définitive de l'état des éléments de couplage, p. ex. mémoires PROM utilisant des liaisons électriquement fusibles
• G11C 17/18 - Circuits auxiliaires, p. ex. pour l'écriture dans la mémoire

Abrégé

A non-volatile memory includes a cell array, a current supply circuit, a path selecting circuit and a verification circuit. The cell array includes plural multi-level memory cells in an m×n array. The cell array is connected with m word lines and n lines. Each of the plural multi-level memory cells is in one of X storage states. The current supply circuit provides plural reference currents. The path selecting circuit is connected with the current supply circuit and the n bit lines. The verification circuit is connected with the path selecting circuit, and generates n verification signals. A first path selector of the path selecting circuit is connected with a path selecting circuit and a first bit line. A first verification device of the verification circuit is connected with the first path selector and generates a first verification signal.

Classes IPC  ?

• G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation
• G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots

Abrégé

A self-biased sense amplification circuit includes a local bit line, a reset unit, a main bit lie, a pre-amplifier, a data line, a sample reference unit, and a sense amplifier. The local bit line receives a cell current generated by a memory cell during a sense operation. The reset unit resets the local bit line to a first system voltage during a sample operation. The pre-amplifier generates a read current on the main bit line according to a voltage of the local bit line during the sample operation and the sense operation. The data line is coupled to the main bit line. The sample reference unit generates a first reference current and a second reference current during the sample operation, and generates the first reference current during the sense operation. The sense amplifier senses a voltage of the data line.

Classes IPC  ?

• G11C 7/08 - Leur commande

Abrégé

A memory cell array of a multi-time programmable non-volatile memory includes plural memory cells. The memory cell has the structure of 1T1C cell, 2T1C cell or 3T1C cell. Moreover, the floating gate transistors of the memory cells in different rows of the memory cell array are constructed in the same well region. Consequently, the chip size is reduced. Moreover, by providing proper bias voltages to the memory cell array, the program action, the erase action or the read action can be performed normally.

Classes IPC  ?

• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 7/08 - Leur commande
• G11C 11/16 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments magnétiques utilisant des éléments dans lesquels l'effet d'emmagasinage est basé sur l'effet de spin
• G11C 13/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage non couverts par les groupes , ou
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données

Abrégé

A differential sensing device includes two reference cells, four path selectors, and four sample circuits. The first path selector is coupled to a first sensing node, the second reference cell, and a first memory cell. The second path selector is coupled to a second sensing node, the first reference cell, and the first memory cell. The third path selector is coupled to a third sensing node, the first reference cell, and a second memory cell. The fourth path selector is coupled to a fourth sensing node, the second reference cell, and the second memory cell. During a sample operation, the first sample circuit samples a first cell current, the second sample circuit samples the first reference current, the third sample circuit samples a second cell current, and the fourth sample circuit samples the second reference current.

Classes IPC  ?

• G11C 11/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants
• G11C 7/08 - Leur commande
• G11C 11/16 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments magnétiques utilisant des éléments dans lesquels l'effet d'emmagasinage est basé sur l'effet de spin
• G11C 13/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage non couverts par les groupes , ou
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données

Abrégé

A multiply accumulate circuit receives m one-bit neuron values from a first layer of a neural network system. The multiply accumulate circuit includes m non-volatile memory cells and m current sources. In addition, m current paths are defined by the m non-volatile memory cells and the m current sources collaboratively. A first current path is defined by a first non-volatile memory cell and a first current source. A first terminal of the first current source receives a first supply voltage. A second terminal of the first current source is connected with a first terminal of the first non-volatile memory cell. A second terminal of the first non-volatile memory cell is connected with an output terminal of the multiply accumulate circuit. A control terminal of the first current source receives a first one-bit neuron value.

Classes IPC  ?

• G11C 11/54 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments simulateurs de cellules biologiques, p. ex. neurone
• G06N 3/04 - Architecture, p. ex. topologie d'interconnexion
• G06N 3/063 - Réalisation physique, c.-à-d. mise en œuvre matérielle de réseaux neuronaux, de neurones ou de parties de neurone utilisant des moyens électroniques
• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H10B 63/00 - Dispositifs de mémoire par changement de résistance, p. ex. dispositifs RAM résistifs [ReRAM]
• H10N 70/00 - Dispositifs à l’état solide n’ayant pas de barrières de potentiel, spécialement adaptés au redressement, à l'amplification, à la production d'oscillations ou à la commutation
• H10B 20/20 - Dispositifs ROM programmable électriquement [PROM] comprenant des composants à effet de champ
• H10B 20/25 - Dispositifs ROM programmable une seule fois, p. ex. utilisant des jonctions électriquement fusibles

Abrégé

A one time programmable non-volatile memory cell includes a storage element. The storage element includes a glass substrate, a buffer layer, a polysilicon layer and a metal layer. The buffer layer is disposed on the glass substrate. The polysilicon layer is disposed on the buffer layer. A P-type doped region and an N-type doped region are formed in the polysilicon layer. The metal layer is contacted with the N-type doped region and the P-type doped region. The metal layer, the N-type doped region and the P-type doped region are collaboratively formed as a diode. When a program action is performed, the first diode is reverse-biased, and the diode is switched from a first storage state to a second storage state. When a read action is performed, the diode is reverse-biased and the diode generates a read current.

Classes IPC  ?

• G06N 3/063 - Réalisation physique, c.-à-d. mise en œuvre matérielle de réseaux neuronaux, de neurones ou de parties de neurone utilisant des moyens électroniques
• G06N 3/04 - Architecture, p. ex. topologie d'interconnexion
• H01L 27/24 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des composants à l'état solide pour le redressement, l'amplification ou la commutation, sans barrière de potentiel ni barrière de surface
• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
• H01L 27/112 - Structures de mémoires mortes
• H01L 45/00 - Dispositifs à l'état solide spécialement adaptés pour le redressement, l'amplification, la production d'oscillations ou la commutation, sans barrière de potentiel ni barrière de surface, p.ex. triodes diélectriques; Dispositifs à effet Ovshinsky; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives

Abrégé

A resistive random-access memory cell includes a well region, a first doped region, a second doped region, a third doped region, a first gate structure, a second gate structure and a third gate structure. The first gate structure is formed over the surface of the well region between the first doped region and the second doped region. The second gate structure is formed over the second doped region. The third gate structure is formed over the surface of the well region between the second doped region and the third doped region. A first metal layer is connected with the first doped region and the third doped region. A second metal layer is connected with the conductive layer of the first gate structure and the conductive layer of the third gate structure.

Classes IPC  ?

• H01L 45/00 - Dispositifs à l'état solide spécialement adaptés pour le redressement, l'amplification, la production d'oscillations ou la commutation, sans barrière de potentiel ni barrière de surface, p.ex. triodes diélectriques; Dispositifs à effet Ovshinsky; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives
• G06N 3/063 - Réalisation physique, c.-à-d. mise en œuvre matérielle de réseaux neuronaux, de neurones ou de parties de neurone utilisant des moyens électroniques
• G06N 3/04 - Architecture, p. ex. topologie d'interconnexion
• H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées

Abrégé

A non-volatile memory includes a substrate region, a barrier layer, an N-type well region, an isolation structure, a first gate structure, a first sidewall insulator, a first P-type doped region, a second P-type doped region and an N-type doped region. The isolation structure is arranged around the N-type well region and formed over the barrier layer. The N-type well region is surrounded by the isolation structure and the barrier layer. Consequently, the N-type well region is an isolation well region. The first gate structure is formed over a surface of the N-type well region. The first sidewall insulator is arranged around the first gate structure. The first P-type doped region, the second P-type doped region and the N-type doped region are formed under the surface of the N-type well region.

Classes IPC  ?

• H01L 27/105 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration répétitive comprenant des composants à effet de champ
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/792 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à isolant de grille à emmagasinage de charges, p.ex. transistor de mémoire MNOS
• G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• H01L 27/11563 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec isolateurs de grille à piégeage de charge, p.ex. MNOS ou NROM
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• H01L 27/11524 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante

Abrégé

An erasable programmable non-volatile memory includes a first-type well region, three doped regions, two gate structures, a blocking layer and an erase line. The first doped region is connected with a source line. The third doped region is connected with a bit line. The first gate structure is spanned over an area between the first doped region and the second doped region. A first polysilicon gate of the first gate structure is connected with a select gate line. The second gate structure is spanned over an area between the second doped region and the third doped region. The second gate structure includes a floating gate and the floating gate is covered by the blocking layer. The erase line is contacted with the blocking layer. The erase line is located above an edge or a corner of the floating gate.

Classes IPC  ?

• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/792 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à isolant de grille à emmagasinage de charges, p.ex. transistor de mémoire MNOS
• G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
• H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• H01L 27/11563 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec isolateurs de grille à piégeage de charge, p.ex. MNOS ou NROM
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• H01L 27/11524 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante

Abrégé

A read-only memory cell array includes a first storage state memory cell and a second storage state memory cell. The first storage state memory cell includes a first transistor and a second transistor. The first transistor is connected to a source line and a word line. The second transistor is connected to the first transistor and a first bit line. The second storage state memory cell includes a third transistor and a fourth transistor. The third transistor is connected to the source line and the word line. The fourth transistor is connected to the third transistor and a second bit line. A gate terminal of the fourth transistor is connected to a gate terminal of the third transistor.

Classes IPC  ?

• H01L 27/11524 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante
• H01L 49/02 - Dispositifs à film mince ou à film épais
• G06F 7/58 - Générateurs de nombres aléatoires ou pseudo-aléatoires
• H03K 3/84 - Génération d'impulsions ayant une distribution statistique prédéterminée d'un paramètre, p. ex. générateurs d'impulsions aléatoires

Abrégé

A random bit circuit includes four storage cells controlled by four different word lines. The first storage cell and the second storage cell are disposed along a first direction sequentially, and the first storage cell and the third storage cell are disposed along a second direction sequentially. The third storage cell and the fourth storage cell are disposed along the first direction sequentially. The first storage cell and the fourth storage cell are coupled in series, and the second storage cell and the third storage cell are coupled in series.

Classes IPC  ?

• H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante
• G06F 7/58 - Générateurs de nombres aléatoires ou pseudo-aléatoires
• H03K 3/84 - Génération d'impulsions ayant une distribution statistique prédéterminée d'un paramètre, p. ex. générateurs d'impulsions aléatoires
• H01L 49/02 - Dispositifs à film mince ou à film épais

Abrégé

A multiphase clock generator includes a current mirror, a voltage controller, a pseudo-resistor circuit and a first delaying circuit. The current mirror includes a receiving terminal, a first mirroring terminal and a second mirroring terminal. The voltage controller is connected with the receiving terminal of the current mirror. A feedback terminal of the voltage controller is connected with the first mirroring terminal of the current mirror. A first terminal of the pseudo-resistor circuit is connected with the first mirroring terminal of the current mirror. A second terminal of the pseudo-resistor circuit is connected with a ground terminal. The first delaying circuit is connected with the second terminal of the pseudo-resistor circuit. An input terminal of the first delaying circuit receives a first input clock signal. An output terminal of the first delaying circuit generates a first delayed clock signal.

Classes IPC  ?

• H03K 5/134 - Dispositions ayant une sortie unique et transformant les signaux d'entrée en impulsions délivrées à des intervalles de temps désirés utilisant une chaîne de dispositifs actifs de retard avec des transistors à effet de champ
• H03K 5/14 - Dispositions ayant une sortie unique et transformant les signaux d'entrée en impulsions délivrées à des intervalles de temps désirés par l'utilisation de lignes à retard
• H03L 7/081 - Détails de la boucle verrouillée en phase avec un déphaseur commandé additionnel
• H03L 7/18 - Synthèse de fréquence indirecte, c.-à-d. production d'une fréquence désirée parmi un certain nombre de fréquences prédéterminées en utilisant une boucle verrouillée en fréquence ou en phase en utilisant un diviseur de fréquence ou un compteur dans la boucle
• H03L 7/07 - Commande automatique de fréquence ou de phaseSynchronisation utilisant un signal de référence qui est appliqué à une boucle verrouillée en fréquence ou en phase utilisant plusieurs boucles, p. ex. pour la génération d'un signal d'horloge redondant
• H03B 21/02 - Production d'oscillations par combinaison de signaux non modulés de fréquences différentes par battement de signaux non modulés de fréquences différentes par battements multiples, c.-à-d. pour synthèse de fréquence

Abrégé

A non-volatile memory cell includes a floating gate transistor having a floating gate. A method for operating the non-volatile memory cell includes, during a program operation, performing an initial program searching operation to identify a first initial value of a threshold voltage of the floating gate transistor, coupling the floating gate of the floating gate transistor to a first program voltage to raise the threshold voltage of the floating gate transistor, performing a program searching operation to identify a first variation of the threshold voltage, generating a second program voltage according to the first variation of the threshold voltage, and coupling the floating gate of the floating gate transistor to the second program voltage to raise the threshold voltage of the floating gate transistor.

Classes IPC  ?

• G11C 11/34 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments électriques utilisant des dispositifs à semi-conducteurs
• G11C 11/56 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments d'emmagasinage comportant plus de deux états stables représentés par des échelons, p. ex. de tension, de courant, de phase, de fréquence
• H01L 27/11524 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
• G11C 16/30 - Circuits d'alimentation
• G11C 16/24 - Circuits de commande de lignes de bits
• G11C 16/28 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données utilisant des cellules de détection différentielle ou des cellules de référence, p. ex. des cellules factices
• G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
• G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
• G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
• G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
• G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
• G05F 3/30 - Régulateurs utilisant la différence entre les tensions base-émetteur de deux transistors bipolaires fonctionnant à des densités de courant différentes
• G05F 3/22 - Régulation de la tension ou du courant là où la tension ou le courant sont continus utilisant des dispositifs non commandés à caractéristiques non linéaires consistant en des dispositifs à semi-conducteurs en utilisant des combinaisons diode-transistor dans lesquelles les transistors sont uniquement du type bipolaire
• G11C 16/14 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement
• H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
• G11C 5/14 - Dispositions pour l'alimentation

Abrégé

A method for manufacturing a semiconductor structure includes forming a first dielectric layer on a substrate; forming a second dielectric layer on the first dielectric layer; using a photomask to apply a photoresist to cover a first part of the second dielectric layer; removing a second part of the second dielectric layer while retaining the first part of the second dielectric layer; and removing the photoresist. The first part of the second dielectric layer covers a first part of the first dielectric layer in a first area. The second part of the second dielectric layer covers a second part of the first dielectric layer in a second area. The first area is corresponding to a memory device. The second area is corresponding to a logic device.

Classes IPC  ?

• H01L 27/115 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs
• H01L 27/11531 - Fabrication simultanée de périphérie et de cellules de mémoire
• H01L 27/11524 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
• H01L 27/11529 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région de circuit périphérique de régions de mémoire comprenant des transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante

Abrégé

A method for manufacturing a semiconductor structure includes forming a first oxide layer on a wafer; forming a silicon nitride layer on the first oxide layer; forming a plurality of trenches; filling an oxide material in the trenches to form a plurality of shallow trench isolation regions; removing the silicon nitride layer without removing the first oxide layer; using a photomask to apply a photoresist for covering a first part of the first oxide layer on a first area and exposing a second part of the first oxide layer on a second area; and removing the second part of the first oxide layer while remaining the first part of the first oxide layer.

Classes IPC  ?

• H01L 21/00 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
• H01L 27/11531 - Fabrication simultanée de périphérie et de cellules de mémoire
• H01L 27/11524 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
• H01L 27/11529 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région de circuit périphérique de régions de mémoire comprenant des transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
• H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
• H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
• H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante