METHODS OF FORMING FILMS INCLUDING SCANDIUM AT LOW TEMPERATURES USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION TO PROVIDE PIEZOELECTRIC RESONATOR DEVICES AND/OR HIGH ELECTRON MOBILITY TRANSISTOR DEVICES
A method of forming a film can include heating a CVD reactor chamber containing a substrate to a temperature range between about 750 degrees Centigrade and about 950 degrees Centigrade, providing a first precursor comprising Al to the CVD reactor chamber in the temperature range, providing a second precursor comprising Sc to the CVD reactor chamber in the temperature range, providing a third precursor comprising nitrogen to the CVD reactor chamber in the temperature range, and forming the film comprising ScAlN on the substrate.
H10N 39/00 - Dispositifs intégrés, ou ensembles de plusieurs dispositifs, comportant au moins un élément piézo-électrique, électrostrictif ou magnétostrictif couvert par les groupes
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/205 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV comprenant plusieurs composés dans différentes régions semi-conductrices
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H10N 30/03 - Assemblage de dispositifs incluant des parties piézo-électriques ou électrostrictives
H10N 30/076 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p. ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
A wafer including an array of bulk acoustic wave resonator devices can include a first bulk acoustic wave resonator device on the wafer, the first bulk acoustic wave resonator device including a passivation layer on a piezoelectric layer, a second bulk acoustic wave resonator device on the wafer directly adjacent to the first bulk acoustic wave resonator device, the second bulk acoustic wave resonator device including the passivation layer and the piezoelectric layer, a wall layer on the wafer forming first and second wall cavity structures that extend around the first and second bulk acoustic wave resonator devices, respectively, a capping layer extending over the wall layer to cover the first and second wall cavity structures that include the first and second bulk acoustic wave resonator devices, respectively, a metallization layer coupling together bulk acoustic wave resonators included in the first or second bulk acoustic wave resonator device and a pillar that protrudes vertically from the metallization layer to contact the cap layer.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
3.
METHODS OF FORMING ACOUSTIC RESONATOR DEVICE WAFERS INTEGRATED WITH ELECTRONIC SEMICONDUCTOR SWITCHING DEVICE WAFERS USING A WAFER TRANSFER PROCESS AND RELATED STRUCTURES
A method of forming a MEMS/integrated circuit structure can include forming a piezoelectric layer on a surface of a growth substrate, forming a first electrode on the piezoelectric layer, forming a support layer on the piezoelectric layer and the first electrode, bonding an upper surface of the support layer to an upper surface of an integrated circuit wafer to form a bonded interface therebetween, wherein the integrated circuit wafer includes a substrate, a plurality of first layers on the substrate, the plurality of first layers forming a front-end of line portion of the integrated circuit wafer having electronic semiconductor switching devices therein, and a plurality of second layers forming a back-end of line portion of the integrated circuit wafer including ohmic conductors ohmically coupling regions of the electronic semiconductor switching devices to an outer one of the second layers of the integrated circuit wafer positioned opposite the electronic semiconductor switching devices.
H10N 39/00 - Dispositifs intégrés, ou ensembles de plusieurs dispositifs, comportant au moins un élément piézo-électrique, électrostrictif ou magnétostrictif couvert par les groupes
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
A BAW resonator ladder topology pass-band filter can include a plurality of series branches each including BAW series resonators. A plurality of shunt branches can each include BAW shunt resonators, wherein the plurality of series branches are coupled to the plurality of shunt branches to provide the BAW resonator ladder topology pass-band filter. A high-impedance shunt branch can include a plurality of high-impedance BAW shunt resonators coupled together in-series to provide an impedance for the high-impedance shunt branch that is greater the other shunt branches in the BAW resonator ladder topology pass-band filter.
H03H 9/205 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant des résonateurs multiples
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
A method of forming a piezoelectric thin film can include depositing a material on a first surface of a Si substrate to provide a stress neutral template layer. A piezoelectric thin film including a Group III element and nitrogen can be sputtered onto the stress neutral template layer and a second surface of the Si substrate that is opposite the first surface can be processed to remove that Si substrate and the stress neutral template layer to provide a remaining portion of the piezoelectric thin film. A piezoelectric resonator can be formed on the remaining portion of the piezoelectric thin film.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 9/13 - Moyens d'excitation, p. ex. électrodes, bobines pour réseaux se composant de matériaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 9/54 - Filtres comprenant des résonateurs en matériau piézo-électrique ou électrostrictif
H10N 30/00 - Dispositifs piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/02 - Formation d'enceintes ou d'enveloppes
H10N 30/06 - Formation d’électrodes ou d’interconnexions, p. ex. de connections électriques ou de bornes
H10N 30/077 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p. ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase liquide
H10N 30/086 - Mise en forme ou usinage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs par usinage par polissage ou meulage
H10N 30/85 - Matériaux actifs piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/87 - Électrodes ou interconnexions, p. ex. connexions électriques ou bornes
A method and structure for single crystal acoustic electronic device. The device includes a substrate having an enhancement layer formed overlying its surface region, a support layer formed overlying the enhancement layer and an air cavity formed through a portion of the support layer. Single crystal piezoelectric material is formed overlying the air cavity and a portion of the enhancement layer. Also, a first electrode material coupled to the backside surface region of the crystal piezoelectric material and spatially configured within the cavity. A second electrode material is formed overlying the topside of the piezoelectric material, and a dielectric layer formed overlying the second electrode material. Further, one or more shunt layers can be formed around the perimeter of a resonator region of the device to connect the piezoelectric material to the enhancement layer.
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H10N 30/06 - Formation d’électrodes ou d’interconnexions, p. ex. de connections électriques ou de bornes
H10N 30/072 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par laminage ou collage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs
7.
METHOD FOR FABRICATING AN ACOUSTIC RESONATOR DEVICE WITH PERIMETER STRUCTURES
A method of manufacture for an acoustic resonator or filter device. In an example, the present method can include forming metal electrodes with different geometric areas and profile shapes coupled to a piezoelectric layer overlying a substrate. These metal electrodes can also be formed within cavities of the piezoelectric layer or the substrate with varying geometric areas. Combined with specific dimensional ratios and ion implantations, such techniques can increase device performance metrics. In an example, the present method can include forming various types of perimeter structures surrounding the metal electrodes, which can be on top or bottom of the piezoelectric layer. These perimeter structures can use various combinations of modifications to shape, material, and continuity. These perimeter structures can also be combined with sandbar structures, piezoelectric layer cavities, the geometric variations previously discussed to improve device performance metrics.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 3/04 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs pour obtenir une fréquence ou un coefficient de température désiré
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
8.
Front end modules for Wi-Fi acoustic wave resonator RF filter circuits
A front end module (FEM) for a Wi-Fi acoustic wave resonator RF filter circuit. The device can include a power amplifier (PA), a resonator, and a diversity switch. The device can further include a low noise amplifier (LNA). The PA is electrically coupled to an input node and can be configured to a DC power detector or an RF power detector. The resonator can be configured between the PA and the diversity switch, or between the diversity switch and an antenna. The LNA may be configured to the diversity switch or be electrically isolated from the switch. Another resonator may be configured between the diversity switch and the LNA. In a specific example, this device integrates a PA, an RF filter, a single pole two throw (SP2T) switch, and a bypassable LNA into a single device.
H03F 1/26 - Modifications des amplificateurs pour réduire l'influence du bruit provoqué par les éléments amplificateurs
H03F 3/195 - Amplificateurs à haute fréquence, p. ex. amplificateurs radiofréquence comportant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans des circuits intégrés
H03F 3/72 - Amplificateurs commandés, c.-à-d. amplificateurs mis en service ou hors service au moyen d'un signal de commande
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H04B 1/00 - Détails des systèmes de transmission, non couverts par l'un des groupes Détails des systèmes de transmission non caractérisés par le milieu utilisé pour la transmission
H04B 7/08 - Systèmes de diversitéSystèmes à plusieurs antennes, c.-à-d. émission ou réception utilisant plusieurs antennes utilisant plusieurs antennes indépendantes espacées à la station de réception
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
9.
BAW RESONATORS WITH ANTISYMMETRIC THICK ELECTRODES
A resonator circuit device. This device can include a piezoelectric layer having a front-side electrode and a back-side electrode spatially configured on opposite sides of the piezoelectric layer. Each electrode has a connection region and a resonator region. Each electrode also includes a partial mass-loaded structure configured within a vicinity of its connection region. The front-side electrode and the back-side electrode are spatially configured in an anti-symmetrical manner with the resonator regions of both electrodes at least partially overlapping and the first and second connection regions on opposing sides. This configuration provides a symmetric acoustic impedance profile for improved Q factor and can reduce the issues of misalignment or unbalanced boundary conditions associated with conventional single mass-loaded perimeter configurations.
An RF filter system includes a plurality of bulk acoustic wave resonators arranged in a circuit having serial and parallel shunt configurations of resonators. Each resonator having a reflector, a support member including a surface, a first electrode including tungsten, overlying the reflector, a piezoelectric film including crystalline aluminum scandium nitride overlapping the first electrode, a second electrode including tungsten overlapping the piezoelectric film and the first electrode, and a passivation layer including silicon nitride overlying the second electrode. Portions of the support member surface of at least one resonator define a cavity region having a portion of the first electrode of the at least one resonator is located within the cavity region. The pass band circuit response has a bandwidth corresponding to a thickness of at least one of the first electrode, piezoelectric film, second electrode, and passivation layer. The system can include single crystal or polycrystalline BAW resonators.
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
11.
PIEZOELECTRIC ACOUSTIC RESONATOR WITH DIELECTRIC PROTECTIVE LAYER MANUFACTURED WITH PIEZOELECTRIC THIN FILM TRANSFER PROCESS
A method and structure for a transfer process for an acoustic resonator device. In an example, a bulk acoustic wave resonator (BAWR) with an air reflection cavity is formed. A piezoelectric thin film is grown on a crystalline substrate. Patterned electrodes are deposited on the surface of the piezoelectric film. An etched sacrificial layer is deposited over the electrodes and a planarized support layer is deposited over the sacrificial layer. The device can include a dielectric protection layer (DPL) that protects the piezoelectric layer from etching processes that can produce rough surfaces and reduces parasitic capacitance around the perimeter of the resonator when the DPL’s dielectric constant is lower than that of the piezoelectric layer. The DPL can be configured between the top electrode and the piezoelectric layer, between the bottom electrode and the piezoelectric layer, or both.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/02 - Formation d'enceintes ou d'enveloppes
H10N 30/06 - Formation d’électrodes ou d’interconnexions, p. ex. de connections électriques ou de bornes
H10N 30/077 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p. ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase liquide
H10N 30/086 - Mise en forme ou usinage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs par usinage par polissage ou meulage
H10N 30/87 - Électrodes ou interconnexions, p. ex. connexions électriques ou bornes
H10N 30/00 - Dispositifs piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/13 - Moyens d'excitation, p. ex. électrodes, bobines pour réseaux se composant de matériaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H10N 30/85 - Matériaux actifs piézo-électriques ou électrostrictifs
An RF circuit device using modified lattice, lattice, and ladder circuit topologies. The devices can include four resonator devices and four shunt resonator devices. In the ladder topology, the resonator devices are connected in series from an input port to an output port while shunt resonator devices are coupled the nodes between the resonator devices. In the lattice topology, a top and a bottom serial configurations each includes a pair of resonator devices that are coupled to differential input and output ports. A pair of shunt resonators is cross-coupled between each pair of a top serial configuration resonator and a bottom serial configuration resonator. The modified lattice topology adds baluns or inductor devices between top and bottom nodes of the top and bottom serial configurations of the lattice configuration. These topologies may be applied using single crystal or polycrystalline bulk acoustic wave (BAW) resonators.
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 9/54 - Filtres comprenant des résonateurs en matériau piézo-électrique ou électrostrictif
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
13.
METHODS OF FORMING PIEZOELECTRIC RESONATOR DEVICES INCLUDING EMBEDDED ENERGY CONFINEMENT FRAMES
A piezoelectric resonator device can be formed to include a piezoelectric film including an active area configured to provide a thickness excited mode of vibration, a first electrode on a first surface of the piezoelectric film positioned to electromechanically couple to the active area, a second electrode on a second surface of the piezoelectric film, opposite the first surface, the second electrode positioned to electromechanically couple to the active area, an energy confinement frame extending on the piezoelectric film embedded in the first or second electrode, an inner side wall of the energy confinement frame facing toward the active area and extending around the active area to define a perimeter that separates the active area located inside the perimeter from an outer area located outside the perimeter adjacent to the active area, an outer side wall of the energy confinement frame facing toward the outer area and aligned to an outer side wall of the first or second electrode and a conformal low-impedance acoustic layer extending on the active area over the energy confinement frame to cover the outer side wall of the energy confinement frame, and onto the piezoelectric film in the outer area.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
14.
PIEZOELECTRIC RESONATOR DEVICES INCLUDING EMBEDDED ENERGY CONFINEMENT FRAMES
A piezoelectric film can include an active area configured to provide a TEMoV, a first electrode on a first surface of the piezoelectric film positioned to electromechanically couple to the active area, a second electrode on a second surface of the piezoelectric film, the second electrode positioned to electromechanically couple to the active area, an energy confinement frame extending on the piezoelectric film embedded in the first or second electrode, an inner side wall of the energy confinement frame facing toward the active area and extending around the active area to define a perimeter that separates the active area located inside the perimeter from an outer area located outside the perimeter adjacent to the active area, an outer side wall of the energy confinement frame facing toward the outer area and aligned to an outer side wall of the first or second electrode and a conformal low-impedance acoustic layer.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/13 - Moyens d'excitation, p. ex. électrodes, bobines pour réseaux se composant de matériaux piézo-électriques ou électrostrictifs
A method and structure for a transfer process for an acoustic resonator device. In an example, a bulk acoustic wave resonator (BAWR) with an air reflection cavity is formed. A piezoelectric thin film is grown on a crystalline substrate. A first patterned electrode is deposited on the surface of the piezoelectric film. An etched sacrificial layer is deposited over the first electrode and a planarized support layer is deposited over the sacrificial layer, which is then bonded to a substrate wafer. The crystalline substrate is removed and a second patterned electrode is deposited over a second surface of the film. The sacrificial layer is etched to release the air reflection cavity. Also, a cavity can instead be etched into the support layer prior to bonding with the substrate wafer. Alternatively, a reflector structure can be deposited on the first electrode, replacing the cavity.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 9/13 - Moyens d'excitation, p. ex. électrodes, bobines pour réseaux se composant de matériaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 9/54 - Filtres comprenant des résonateurs en matériau piézo-électrique ou électrostrictif
H10N 30/00 - Dispositifs piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/02 - Formation d'enceintes ou d'enveloppes
H10N 30/06 - Formation d’électrodes ou d’interconnexions, p. ex. de connections électriques ou de bornes
H10N 30/077 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p. ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase liquide
H10N 30/086 - Mise en forme ou usinage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs par usinage par polissage ou meulage
H10N 30/85 - Matériaux actifs piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/87 - Électrodes ou interconnexions, p. ex. connexions électriques ou bornes
H10N 30/072 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par laminage ou collage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs
16.
PIEZOELECTRIC ACOUSTIC RESONATOR MANUFACTURED WITH PIEZOELECTRIC THIN FILM TRANSFER PROCESS
A bulk acoustic wave (BAW) resonator includes a solidly mounted reflector, for example, a Bragg-type reflector, a piezoelectric layer, and first and second electrodes on first and second surfaces, respectively, of the piezoelectric layer. A filter device or filter system includes at least one BAW resonator. Related methods of fabrication include forming the BAW resonator.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/02 - Formation d'enceintes ou d'enveloppes
H10N 30/06 - Formation d’électrodes ou d’interconnexions, p. ex. de connections électriques ou de bornes
H10N 30/077 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p. ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase liquide
H10N 30/85 - Matériaux actifs piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/086 - Mise en forme ou usinage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs par usinage par polissage ou meulage
MOCVD systems can be used to form single crystal piezoelectric ScxAl1−xN layers having a concentration of Sc in a range between about 4% and about 18% at temperatures in a range, for example, between about 800 degrees Centigrade and about 950 degrees Centigrade. The single crystal piezoelectric ScxAl1−xN layers can have a crystalline structure characterized by an XRD ω-rocking curve FWHM value in a range between about less than 1.0 degrees to about 0.001 degrees as measured about the omega angle as of the ScxAl1−xN (0002) film reflection.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
18.
APPARATUS FOR FORMING SINGLE CRYSTAL PIEZOELECTRIC LAYERS USING LOW-VAPOR PRESSURE METALORGANIC PRECURSORS IN CVD REACTORS WITH TEMPERATURE-CONTROLLED INJECTOR COLUMNS AND METHODS OF FORMING SINGLE CRYSTAL PIEZOELECTRIC LAYERS USING THE SAME
An apparatus includes a chemical vapor deposition (CVD) reactor, an injector column that provides a metal organic precursor vapor into the CVD reactor, a heater in thermal communication with the injector column, and a control circuit configured to control the heater and thereby maintain the metal organic precursor vapor in the injector column above a saturation temperature. The control circuit may be configured to control the heater to maintain a temperature of the metal organic precursor vapor in the injector column in a temperature range from about 85 degrees Centigrade to about 200 degrees Centigrade. A temperature of the metal organic precursor vapor entering the injector column may be in a range from about 160 degrees Centigrade to about 200 degrees Centigrade and a pressure of the metal organic precursor vapor entering the injector column may be in a range from about 50 mbar to about 1000 mbar.
C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
C23C 16/18 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique à partir de composés organométalliques
An apparatus includes a chemical vapor deposition (CVD) reactor, an injector column that provides a metal organic precursor vapor into the CVD reactor, a heater in thermal communication with the injector column, and a control circuit configured to control the heater and thereby maintain the metal organic precursor vapor in the injector column above a saturation temperature. The control circuit may be configured to control the heater to maintain a temperature of the metal organic precursor vapor in the injector column in a temperature range from about 85 degrees Centigrade to about 200 degrees Centigrade. A temperature of the metal organic precursor vapor entering the injector column may be in a range from about 160 degrees Centigrade to about 200 degrees Centigrade and a pressure of the metal organic precursor vapor entering the injector column may be in a range from about 50 mbar to about 1000 mbar.
C23C 16/06 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique
C23C 16/18 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique à partir de composés organométalliques
C23C 16/448 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs
H01L 21/205 - Dépôt de matériaux semi-conducteurs sur un substrat, p. ex. croissance épitaxiale en utilisant la réduction ou la décomposition d'un composé gazeux donnant un condensat solide, c.-à-d. un dépôt chimique
20.
APPARATUS FOR FORMING SINGLE CRYSTAL PIEZOELECTRIC LAYERS USING LOW-VAPOR PRESSURE METALORGANIC PRECURSORS IN CVD SYSTEMS AND METHODS OF FORMING SINGLE CRYSTAL PIEZOELECTRIC LAYERS USING THE SAME
An apparatus for forming semiconductor films can include a horizontal flow reactor including an upper portion and a lower portion that are moveably coupled to one another so as to separate from one another in an open position and so as to mate together in a closed position to form a reactor chamber. A central injector column can penetrate through the upper portion of the horizontal flow reactor into the reactor chamber, the central injector column configured to allow metalorganic precursors into the reactor chamber in the closed position. A heated metalorganic precursor line can be coupled to the central injector column and configured to heat a low vapor pressure metalorganic precursor vapor contained in the heated metalorganic precursor line upstream of the central injector column to a temperature range between about 70° C. and 200° C.
C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
C23C 16/18 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique à partir de composés organométalliques
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
C30B 35/00 - Appareillages non prévus ailleurs, spécialement adaptés à la croissance, à la production ou au post-traitement de monocristaux ou de matériaux polycristallins homogènes de structure déterminée
H10N 30/076 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p. ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
21.
RF ACOUSTIC WAVE RESONATORS INTEGRATED WITH HIGH ELECTRON MOBILITY TRANSISTORS INCLUDING A SHARED PIEZOELECTRIC/BUFFER LAYER
An RF integrated circuit device can includes a substrate and a High Electron Mobility Transistor (HEMT) device on the substrate including a ScAlN layer configured to provide a buffer layer of the HEMT device to confine formation of a 2DEG channel region of the HEMT device. An RF piezoelectric resonator device can be on the substrate including the ScAlN layer sandwiched between a top electrode and a bottom electrode of the RF piezoelectric resonator device to provide a piezoelectric resonator for the RF piezoelectric resonator device.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/13 - Moyens d'excitation, p. ex. électrodes, bobines pour réseaux se composant de matériaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 9/54 - Filtres comprenant des résonateurs en matériau piézo-électrique ou électrostrictif
H10N 30/02 - Formation d'enceintes ou d'enveloppes
H10N 30/06 - Formation d’électrodes ou d’interconnexions, p. ex. de connections électriques ou de bornes
H10N 30/077 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p. ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase liquide
H10N 30/85 - Matériaux actifs piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/086 - Mise en forme ou usinage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs par usinage par polissage ou meulage
A BAW resonator filter can include a BAW resonator pass-band filter ladder, the BAW resonator pass-band filter ladder can be configured to pass frequency components of an input signal in a pass-band of frequencies received at an input node of the BAW resonator pass-band filter ladder to an output node of the BAW resonator pass-band filter ladder. A first rejection-band series resonator can be coupled in series between an input port of the BAW resonator pass-band filter ladder and the input node, the first rejection-band series resonator can have a first anti-resonant frequency peak in a rejection-band of frequencies that is less than the pass-band of frequencies. A second rejection-band series resonator can be coupled in series between an output port of the BAW resonator filter and the output node, the second rejection-band series resonator can have a second anti-resonant frequency peak in the rejection-band of frequencies.
s) than rectangular, circular, and elliptical resonator shapes. These improved resonator shapes also provide filter layout flexibility, which allows for more compact resonator devices compared to resonator devices using conventionally shaped resonators.
As disclosed herein, methods of forming piezoelectric layers having alternating polarizations and related bulk acoustic wave filter devices. Pursuant to these embodiments, a method of forming a piezoelectric resonator device can include forming a first material, including metal and nitrogen atoms, using a first process to provide a first piezoelectric layer having the metal and the nitrogen atoms arranged in a first polar orientation, to establish a first polarization for the first piezoelectric layer and forming a second material, including the metal and the nitrogen atoms on the first piezoelectric layer, using a second process to provide a second piezoelectric layer having the metal and the nitrogen atoms arranged in a second polar orientation, to establish a second polarization for the second piezoelectric layer that is opposite of the first polarization.
H01L 41/083 - Eléments piézo-électriques ou électrostrictifs avec une structure empilée ou multicouche
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/18 - Emploi de matériaux spécifiés pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
25.
METHODS OF FORMING PIEZOELECTRIC LAYERS HAVING ALTERNATING POLARIZATIONS AND RELATED BULK ACOUSTIC WAVE FILTER DEVICES
As disclosed herein, methods of forming a piezoelectric resonator device can include forming a first stack of piezoelectric layers having alternating opposing ferroelectric polarizations comprising the following operations: (a) depositing a first material, including metal and nitrogen atoms, on a surface to form a first piezoelectric layer having a first ferroelectric polarization, (b) forming a first layer including Al on the first piezoelectric layer, (c) depositing a second material including the metal and the nitrogen atoms on the first layer to form a second piezoelectric layer having the first ferroelectric polarization, (d) forming first poling electrodes electrically laterally spaced apart from one another on a surface of the second piezoelectric layer and (e) applying a voltage across the first poling electrodes to change the first ferroelectric polarization of the second piezoelectric layer to a second ferroelectric polarization that is opposite to the first ferroelectric polarization.
A multi-stage matching network filter circuit device. The device comprises bulk acoustic wave (BAW) resonator device having an input node, an output node, and a ground node. A first matching network circuit is coupled to the input node. A second matching network circuit is coupled to the output node. A ground connection network circuit coupled to the ground node. The first or second matching network circuit can include an inductive ladder network including a plurality of series inductors in a series configuration and a plurality of grounded inductors wherein each of the plurality of grounded inductors is coupled to the connection between each connected pair of series inductors. The inductive ladder network can include one or more LC tanks, wherein each of the one or more LC tanks is coupled between a connection between a series inductor and a subsequent series inductor, which is also coupled to a grounded inductor.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
27.
METHOD OF MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT CONFIGURED WITH TWO OR MORE SINGLE CRYSTAL ACOUSTIC RESONATOR DEVICES
A method of fabricating a configurable single crystal acoustic resonator (SCAR) device integrated circuit. The method includes providing a bulk substrate structure having first and second recessed regions with a support member disposed in between. A thickness of single crystal piezo material is formed overlying the bulk substrate with an exposed backside region configured with the first recessed region and a contact region configured with the second recessed region. A first electrode with a first terminal is formed overlying an upper portion of the piezo material, while a second electrode with a second terminal is formed overlying a lower portion of the piezo material. An acoustic reflector structure and a dielectric layer are formed overlying the resulting bulk structure. The resulting device includes a plurality of single crystal acoustic resonator devices, numbered from (R1) to (RN), where N is an integer greater than 1.
H03H 3/08 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux utilisant des ondes acoustiques de surface
H03H 9/205 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant des résonateurs multiples
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/18 - Emploi de matériaux spécifiés pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/29 - Formation d’électrodes, de connexions électriques ou de dispositions de bornes
H03H 9/64 - Filtres utilisant des ondes acoustiques de surface
28.
METHOD OF MANUFACTURE FOR SINGLE CRYSTAL CAPACITOR DIELECTRIC FOR A RESONANCE CIRCUIT
A method of manufacturing an integrated circuit. This method includes forming an epitaxial material comprising single crystal piezo material overlying a surface region of a substrate to a desired thickness and forming a trench region to form an exposed portion of the surface region through a pattern provided in the epitaxial material. Also, the method includes forming a topside landing pad metal and a first electrode member overlying a portion of the epitaxial material and a second electrode member overlying the topside landing pad metal. Furthermore, the method can include processing the backside of the substrate to form a backside trench region exposing a backside of the epitaxial material and the landing pad metal and forming a backside resonator metal material overlying the backside of the epitaxial material to couple to the second electrode member overlying the topside landing pad metal.
H03H 9/13 - Moyens d'excitation, p. ex. électrodes, bobines pour réseaux se composant de matériaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/316 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
H01L 41/18 - Emploi de matériaux spécifiés pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
29.
Acoustic wave resonator, RF filter circuit and system
An RF filter system includes a plurality of bulk acoustic wave resonators arranged in a circuit having serial and parallel shunt configurations of resonators. Each resonator having a reflector, a support member including a surface, a first electrode including tungsten, overlying the reflector, a piezoelectric film including crystalline aluminum scandium nitride overlapping the first electrode, a second electrode including tungsten overlapping the piezoelectric film and the first electrode, and a passivation layer including silicon nitride overlying the second electrode. Portions of the support member surface of at least one resonator define a cavity region having a portion of the first electrode of the at least one resonator is located within the cavity region. The pass band circuit response has a bandwidth corresponding to a thickness of at least one of the first electrode, piezoelectric film, second electrode, and passivation layer. The system can include single crystal or polycrystalline BAW resonators.
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
30.
METHODS OF FORMING EPITAXIAL AlScN RESONATORS WITH SUPERLATTICE STRUCTURES INCLUDING AlGaN INTERLAYERS AND VARIED SCANDIUM CONCENTRATIONS FOR STRESS CONTROL AND RELATED STRUCTURES
A method of forming a resonator structure can be provided by forming one or more template layers on a substrate, (a) epitaxially forming an AlScN layer on the template layer to a first thickness, (b) epitaxially forming an AlGaN interlayer on the AlScN layer to a second thickness that is substantially less than the first thickness, and repeating operations (a) and (b) until a total thickness of all AlScN layers and AlGaN interlayers provides a target thickness for a single crystal AlScN/AlGaN superlattice resonator structure on the template layer.
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
An RF filter system including a plurality of BAW resonators arranged in a circuit, the circuit including a serial configuration of resonators and a parallel shunt configuration of resonators, the circuit having a circuit response corresponding to the serial configuration and the parallel configuration of the plurality of bulk acoustic wave resonators including a transmission loss from a pass band having a bandwidth from 5.170 GHz to 5.330 GHz. Resonators include a support member with a multilayer reflector structure; a first electrode including tungsten; a piezoelectric film including aluminum scandium nitride; a second electrode including tungsten; and a passivation layer including silicon nitride. At least one resonator includes at least a portion of the first electrode located within a cavity region defined by a surface of the support member.
An RF filter system including a plurality of BAW resonators arranged in a circuit, the circuit including a serial configuration of resonators and a parallel shunt configuration of resonators, the circuit having a circuit response corresponding to the serial configuration and the parallel configuration of the plurality of bulk acoustic wave resonators including a transmission loss from a pass band having a bandwidth from 5.855 GHz to 5.925 GHz. Resonators include a support member with a multilayer reflector structure; a first electrode including tungsten; a piezoelectric film including aluminum scandium nitride; a second electrode including tungsten; and a passivation layer including silicon nitride. At least one resonator includes at least a portion of the first electrode located within a cavity region defined by a surface of the support member.
An RF filter system including a plurality of BAW resonators arranged in a circuit, the circuit including a serial configuration of resonators and a parallel shunt configuration of resonators, the circuit having a circuit response corresponding to the serial configuration and the parallel configuration of the plurality of bulk acoustic wave resonators including a transmission loss from a pass band having a bandwidth from 5.170 GHz to 5.835 GHz. Resonators include a support member with a multilayer reflector structure; a first electrode including tungsten; a piezoelectric film including aluminum scandium nitride; a second electrode including tungsten; and a passivation layer including silicon nitride. At least one resonator includes at least a portion of the first electrode located within a cavity region defined by a surface of the support member.
H03H 9/70 - Réseaux à plusieurs accès pour connecter plusieurs sources ou charges, fonctionnant sur des fréquences ou dans des bandes de fréquence différentes, à une charge ou à une source commune
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 9/205 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant des résonateurs multiples
H03H 9/54 - Filtres comprenant des résonateurs en matériau piézo-électrique ou électrostrictif
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/00 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques
An RF filter system including a plurality of BAW resonators arranged in a circuit, the circuit including a serial configuration of resonators and a parallel shunt configuration of resonators, the circuit having a circuit response corresponding to the serial configuration and the parallel configuration of the plurality of bulk acoustic wave resonators including a transmission loss from a pass band having a bandwidth from 5.490 GHz to 5.835 GHz. Resonators include a support member with a multilayer reflector structure; a first electrode including tungsten; a piezoelectric film including aluminum scandium nitride; a second electrode including tungsten; and a passivation layer including silicon nitride. At least one resonator includes at least a portion of the first electrode located within a cavity region defined by a surface of the support member.
H03H 9/70 - Réseaux à plusieurs accès pour connecter plusieurs sources ou charges, fonctionnant sur des fréquences ou dans des bandes de fréquence différentes, à une charge ou à une source commune
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 9/205 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant des résonateurs multiples
H03H 9/54 - Filtres comprenant des résonateurs en matériau piézo-électrique ou électrostrictif
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/00 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques
A BAW resonator filter can include a BAW resonator pass-band filter ladder, the BAW resonator pass-band filter ladder can be configured to pass frequency components of an input signal in a pass-band of frequencies received at an input node of the BAW resonator pass-band filter ladder to an output node of the BAW resonator pass-band filter ladder. A first rejection-band series resonator can be coupled in series between an input port of the BAW resonator pass-band filter ladder and the input node, the first rejection-band series resonator can have a first anti-resonant frequency peak in a rejection-band of frequencies that is less than the pass-band of frequencies. A second rejection-band series resonator can be coupled in series between an output port of the BAW resonator filter and the output node, the second rejection-band series resonator can have a second anti-resonant frequency peak in the rejection-band of frequencies.
A method of forming a piezoelectric thin film includes sputtering a first surface of a substrate to provide a piezoelectric thin film comprising AlN, AlScN, AlCrN, HfMgAlN, or ZrMgAlN thereon, processing a second surface of the substrate that is opposite the first surface of the substrate to provide an exposed surface of the piezoelectric thin film from beneath the second surface of the substrate, wherein the exposed surface of the piezoelectric thin film includes a first crystalline quality portion, removing a portion of the exposed surface of the piezoelectric thin film to access a second crystalline quality portion that is covered by the first crystalline quality portion, wherein the second crystalline quality portion has a higher quality than the first crystalline quality portion and processing the second crystalline quality portion to provide an acoustic resonator device on the second crystalline quality portion.
H10N 30/076 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p. ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/06 - Formation d’électrodes ou d’interconnexions, p. ex. de connections électriques ou de bornes
H10N 30/053 - Fabrication de dispositifs piézo-électriques ou électrostrictifs multicouches ou de leurs parties constitutives, p. ex. en empilant des corps piézo-électriques et des électrodes par frittage intégral de corps piézo-électriques ou électrostrictifs et d’électrodes
H10N 30/85 - Matériaux actifs piézo-électriques ou électrostrictifs
37.
Piezoelectric acoustic resonator manufactured with piezoelectric thin film transfer process
A bulk acoustic wave (BAW) resonator includes a solidly mounted reflector, for example, a Bragg-type reflector, a piezoelectric layer, and first and second electrodes on first and second surfaces, respectively, of the piezoelectric layer. A filter device or filter system includes at least one BAW resonator. Related methods of fabrication include forming the BAW resonator.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
A method of forming an Al1-xScxN film can include heating a substrate, in a reactor chamber, to a temperature range, providing a precursor comprising Sc to the reactor chamber, providing a dopant comprising Mg, C, and/or Fe to the reactor chamber, and forming an epitaxial Al1-xScxN film on the substrate in the temperature range, the epitaxial Al1-xScxN film including the dopant in a concentration in a range between about 1×1017/cm3 and about 2×1020/cm3 on the substrate.
H01L 41/314 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 9/13 - Moyens d'excitation, p. ex. électrodes, bobines pour réseaux se composant de matériaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/35 - Formation de matériaux piézo-électriques ou électrostrictifs
39.
METHODS OF FORMING GROUP III PIEZOELECTRIC THIN FILMS VIA SPUTTERING
A method of forming a piezoelectric thin film can be provided by heating a substrate in a process chamber to a temperature between about 350 degrees Centigrade and about 850 degrees Centigrade to provide a sputtering temperature of the substrate and sputtering a Group III element from a target in the process chamber onto the substrate at the sputtering temperature to provide the piezoelectric thin film including a nitride of the Group III element on the substrate to have a crystallinity of less than about 1.0 degree at Full Width Half Maximum (FWHM) to about 10 arcseconds at FWHM measured using X-ray diffraction (XRD).
H01L 41/316 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
C23C 14/06 - Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement caractérisé par le matériau de revêtement
An RF circuit device using modified lattice, lattice, and ladder circuit topologies. The devices can include four resonator devices and four shunt resonator devices. In the ladder topology, the resonator devices are connected in series from an input port to an output port while shunt resonator devices are coupled the nodes between the resonator devices. In the lattice topology, a top and a bottom serial configurations each includes a pair of resonator devices that are coupled to differential input and output ports. A pair of shunt resonators is cross-coupled between each pair of a top serial configuration resonator and a bottom serial configuration resonator. The modified lattice topology adds baluns or inductor devices between top and bottom nodes of the top and bottom serial configurations of the lattice configuration. These topologies may be applied using single crystal or polycrystalline bulk acoustic wave (BAW) resonators.
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 3/007 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques
H03H 9/13 - Moyens d'excitation, p. ex. électrodes, bobines pour réseaux se composant de matériaux piézo-électriques ou électrostrictifs
An RF circuit device using modified lattice, lattice, and ladder circuit topologies. The devices can include four resonator devices and four shunt resonator devices. In the ladder topology, the resonator devices are connected in series from an input port to an output port while shunt resonator devices are coupled the nodes between the resonator devices. In the lattice topology, a top and a bottom serial configurations each includes a pair of resonator devices that are coupled to differential input and output ports. A pair of shunt resonators is cross-coupled between each pair of a top serial configuration resonator and a bottom serial configuration resonator. The modified lattice topology adds baluns or inductor devices between top and bottom nodes of the top and bottom serial configurations of the lattice configuration. These topologies may be applied using single crystal or polycrystalline bulk acoustic wave (BAW) resonators.
H03H 9/54 - Filtres comprenant des résonateurs en matériau piézo-électrique ou électrostrictif
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
42.
Front end module for 6.1 GHz wi-fi acoustic wave resonator RF filter circuit
A front-end module (FEM) for a 6.1 GHz Wi-Fi acoustic wave resonator RF filter circuit. The device can include a power amplifier (PA), a 6.1 GHz resonator, and a diversity switch. The device can further include a low noise amplifier (LNA). The PA is electrically coupled to an input node and can be configured to a DC power detector or an RF power detector. The resonator can be configured between the PA and the diversity switch, or between the diversity switch and an antenna. The LNA may be configured to the diversity switch or be electrically isolated from the switch. Another 6.1 GHZ resonator may be configured between the diversity switch and the LNA. In a specific example, this device integrates a 6.1 GHz PA, a 6.1 GHZ bulk acoustic wave (BAW) RF filter, a single pole two throw (SP2T) switch, and a bypassable LNA into a single device.
H04B 7/08 - Systèmes de diversitéSystèmes à plusieurs antennes, c.-à-d. émission ou réception utilisant plusieurs antennes utilisant plusieurs antennes indépendantes espacées à la station de réception
H04B 1/00 - Détails des systèmes de transmission, non couverts par l'un des groupes Détails des systèmes de transmission non caractérisés par le milieu utilisé pour la transmission
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03F 1/26 - Modifications des amplificateurs pour réduire l'influence du bruit provoqué par les éléments amplificateurs
H03F 3/195 - Amplificateurs à haute fréquence, p. ex. amplificateurs radiofréquence comportant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans des circuits intégrés
H03F 3/72 - Amplificateurs commandés, c.-à-d. amplificateurs mis en service ou hors service au moyen d'un signal de commande
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
43.
PIEZOELECTRIC ACOUSTIC RESONATOR WITH IMPROVED TCF MANUFACTURED WITH PIEZOELECTRIC THIN FILM TRANSFER PROCESS
A method and structure for a transfer process for an acoustic resonator device. In an example, a bulk acoustic wave resonator (BAWR) with an air reflection cavity is formed. A piezoelectric thin film is grown on a crystalline substrate. Patterned electrodes are deposited on the surface of the piezoelectric film. An etched sacrificial layer is deposited over the electrodes and a planarized support layer is deposited over the sacrificial layer. The device can include temperature compensation layers (TCL) that improve the device TCF. These layers can be thin layers of oxide type materials and can be configured between the top electrode and the piezoelectric layer, between the bottom electrode and the piezoelectric layer, between two or more piezoelectric layers, and any combination thereof. In an example, the TCLs can be configured from thick passivation layers overlying the top electrode and/or underlying the bottom electrode.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/053 - Montures, supports, enveloppes ou boîtiers
H01L 41/08 - Eléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/18 - Emploi de matériaux spécifiés pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/23 - Formation d'enceintes ou d'enveloppes
H01L 41/29 - Formation d’électrodes, de connexions électriques ou de dispositions de bornes
H01L 41/317 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase liquide
H01L 41/337 - Mise en forme ou usinage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs par usinage par polissage ou meulage
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
An RF diplexer circuit device using modified lattice, lattice, and ladder circuit topologies. The diplexer can include a pair of filter circuits, each with a plurality of series resonator devices and shunt resonator devices. In the ladder topology, the series resonator devices are connected in series while shunt resonator devices are coupled in parallel to the nodes between the resonator devices. In the lattice topology, a top and a bottom serial configurations each includes a plurality of series resonator devices, and a pair of shunt resonators is cross-coupled between each pair of a top serial configuration resonator and a bottom serial configuration resonator. The modified lattice topology adds baluns or inductor devices between top and bottom nodes of the top and bottom serial configurations of the lattice configuration. A multiplexing device or inductor device can be configured to select between the signals coming through the first and second filter circuits.
H03H 9/70 - Réseaux à plusieurs accès pour connecter plusieurs sources ou charges, fonctionnant sur des fréquences ou dans des bandes de fréquence différentes, à une charge ou à une source commune
An RF diplexer circuit device using modified lattice, lattice, and ladder circuit topologies. The diplexer can include a pair of filter circuits, each with a plurality of series resonator devices and shunt resonator devices. In the ladder topology, the series resonator devices are connected in series while shunt resonator devices are coupled in parallel to the nodes between the resonator devices. In the lattice topology, a top and a bottom serial configurations each includes a plurality of series resonator devices, and a pair of shunt resonators is cross-coupled between each pair of a top serial configuration resonator and a bottom serial configuration resonator. The modified lattice topology adds baluns or inductor devices between top and bottom nodes of the top and bottom serial configurations of the lattice configuration. A multiplexing device or inductor device can be configured to select between the signals coming through the first and second filter circuits.
H03H 9/70 - Réseaux à plusieurs accès pour connecter plusieurs sources ou charges, fonctionnant sur des fréquences ou dans des bandes de fréquence différentes, à une charge ou à une source commune
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
A method and structure for single crystal acoustic electronic device. The device includes a substrate having an enhancement layer formed overlying its surface region, a support layer formed overlying the enhancement layer, and an air cavity formed through a portion of the support layer. Single crystal piezoelectric material is formed overlying the air cavity and a portion of the enhancement layer. Also, a first electrode material coupled to the backside surface region of the crystal piezoelectric material and spatially configured within the cavity. A second electrode material is formed overlying the topside of the piezoelectric material, and a dielectric layer formed overlying the second electrode material. Further, one or more shunt layers can be formed around the perimeter of a resonator region of the device to connect the piezoelectric material to the enhancement layer.
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H10N 30/06 - Formation d’électrodes ou d’interconnexions, p. ex. de connections électriques ou de bornes
H10N 30/072 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par laminage ou collage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs
47.
DOPED CRYSTALLINE PIEZOELECTRIC RESONATOR FILMS AND METHODS OF FORMING DOPED SINGLE CRYSTALLINE PIEZOELECTRIC RESONATOR LAYERS ON SUBSTRATES VIA EPITAXY
A piezoelectric resonator can include a substrate and a piezoelectric aluminum nitride layer on the substrate, where the piezoelectric aluminum nitride layer is doped with a dopant selected from the group consisting of Si, Mg, Ge, C, Sc and/or Fe at a respective level sufficient to induce a stress in the piezoelectric aluminum nitride layer in a range between about 150 MPa compressive stress and about 300 MPa tensile stress.
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
A device includes a piezoelectric layer on a substrate and including a portion included in an acoustic resonator, a first conductive layer on the piezoelectric layer and including a first electrode of the acoustic resonator on a first side of resonator portion of the piezoelectric layer, and a second conductive layer on the piezoelectric layer and including a second electrode of the acoustic resonator on a second side of the resonator portion of the piezoelectric layer. An insulating layer is disposed on the second conductive layer and an interconnection metal layer is electrically connected to the second conductive layer or the first conductive layer and has a portion extending onto the insulating layer and overlapping a portion of the second conductive layer to provide a capacitor electrode of a capacitor coupled to the first electrode and/or the second electrode.
H03H 9/54 - Filtres comprenant des résonateurs en matériau piézo-électrique ou électrostrictif
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
49.
DOPED CRYSTALLINE PIEZOELECTRIC RESONATOR FILMS AND METHODS OF FORMING DOPED SINGLE CRYSTALLINE PIEZOELECTRIC RESONATOR LAYERS ON SUBSTRATES VIA EPITAXY
A piezoelectric resonator can include a substrate and a piezoelectric aluminum nitride layer on the substrate, where the piezoelectric aluminum nitride layer is doped with a dopant selected from the group consisting of Si, Mg, Ge, C, Sc and/or Fe at a respective level sufficient to induce a stress in the piezoelectric aluminum nitride layer in a range between about 150 MPa compressive stress and about 300 MPa tensile stress.
H03H 9/15 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif
H01L 41/08 - Eléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/18 - Emploi de matériaux spécifiés pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/316 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
50.
BULK ACOUSTIC WAVE RESONATOR FILTERS WITH INTEGRATED CAPACITORS
A device includes a piezoelectric layer on a substrate and including a portion included in an acoustic resonator, a first conductive layer on the piezoelectric layer and including a first electrode of the acoustic resonator on a first side of resonator portion of the piezoelectric layer, and a second conductive layer on the piezoelectric layer and including a second electrode of the acoustic resonator on a second side of the resonator portion of the piezoelectric layer. An insulating layer is disposed on the second conductive layer and an interconnection metal layer is electrically connected to the second conductive layer or the first conductive layer and has a portion extending onto the insulating layer and overlapping a portion of the second conductive layer to provide a capacitor electrode of a capacitor coupled to the first electrode and/or the second electrode..
An RF circuit device using modified lattice, lattice, and ladder circuit topologies. The devices can include a plurality of resonator devices and a plurality of resonator devices. In the ladder topology, the resonator devices are connected in series from an input port to an output port while shunt resonator devices are coupled the nodes between the resonator devices. In the lattice topology, a top and a bottom serial configurations each includes a pair of resonator devices that are coupled to differential input and output ports. A pair of shunt resonators is cross-coupled between each pair of a top serial configuration resonator and a bottom serial configuration resonator. The modified lattice topology adds baluns or inductor devices between top and bottom nodes of the top and bottom serial configurations of the lattice configuration. These topologies may be applied using single crystal or polycrystalline bulk acoustic wave (BAW) resonators.
An RF circuit device using modified lattice, lattice, and ladder circuit topologies. The devices can include a plurality of resonator devices and a plurality of resonator devices. In the ladder topology, the resonator devices are connected in series from an input port to an output port while shunt resonator devices are coupled the nodes between the resonator devices. In the lattice topology, a top and a bottom serial configurations each includes a pair of resonator devices that are coupled to differential input and output ports. A pair of shunt resonators is cross-coupled between each pair of a top serial configuration resonator and a bottom serial configuration resonator. The modified lattice topology adds baluns or inductor devices between top and bottom nodes of the top and bottom serial configurations of the lattice configuration. These topologies may be applied using single crystal or polycrystalline bulk acoustic wave (BAW) resonators.
A front end module (FEM) for a 5.6/6.6 GHz Wi-Fi acoustic wave resonator RF filter circuit. The device can include a power amplifier (PA), a 5.6/6.6 GHz resonator, and a diversity switch. The device can further include a low noise amplifier (LNA). The PA is electrically coupled to an input node and can be configured to a DC power detector or an RF power detector. The resonator can be configured between the PA and the diversity switch, or between the diversity switch and an antenna. The LNA may be configured to the diversity switch or be electrically isolated from the switch. Another 5.6/6.6 GHZ resonator may be configured between the diversity switch and the LNA. In a specific example, this device integrates a 5.6/6.6 GHz PA, a 5.6/6.6 GHZ bulk acoustic wave (BAW) RF filter, a single pole two throw (SP2T) switch, and a bypassable LNA into a single device.
H04B 7/08 - Systèmes de diversitéSystèmes à plusieurs antennes, c.-à-d. émission ou réception utilisant plusieurs antennes utilisant plusieurs antennes indépendantes espacées à la station de réception
H04B 1/00 - Détails des systèmes de transmission, non couverts par l'un des groupes Détails des systèmes de transmission non caractérisés par le milieu utilisé pour la transmission
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03F 1/26 - Modifications des amplificateurs pour réduire l'influence du bruit provoqué par les éléments amplificateurs
H03F 3/195 - Amplificateurs à haute fréquence, p. ex. amplificateurs radiofréquence comportant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans des circuits intégrés
H03F 3/72 - Amplificateurs commandés, c.-à-d. amplificateurs mis en service ou hors service au moyen d'un signal de commande
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
54.
RF BAW resonator filter architecture for 6.5GHz Wi-Fi 6E coexistence and other ultra-wideband applications
A multi-stage matching network filter circuit device. The device comprises bulk acoustic wave (BAW) resonator device having an input node, an output node, and a ground node. A first matching network circuit is coupled to the input node. A second matching network circuit is coupled to the output node. A ground connection network circuit coupled to the ground node. The first or second matching network circuit can include an inductive ladder network including a plurality of series inductors in a series configuration and a plurality of grounded inductors wherein each of the plurality of grounded inductors is coupled to the connection between each connected pair of series inductors. The inductive ladder network can include one or more LC tanks, wherein each of the one or more LC tanks is coupled between a connection between a series inductor and a subsequent series inductor, which is also coupled to a grounded inductor.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
55.
METHODS OF FORMING SINGLE CRYSTAL PIEZOELECTRIC LAYERS USING LOW TEMPERATURE EPITAXY AND RELATED SINGLE CRYSTALLINE PIEZOELECTRIC RESONATOR FILMS
C23C 14/06 - Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement caractérisé par le matériau de revêtement
H01L 41/316 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
56.
Method for fabricating an acoustic resonator device with perimeter structures
A method of manufacture for an acoustic resonator or filter device. In an example, the present method can include forming metal electrodes with different geometric areas and profile shapes coupled to a piezoelectric layer overlying a substrate. These metal electrodes can also be formed within cavities of the piezoelectric layer or the substrate with varying geometric areas. Combined with specific dimensional ratios and ion implantations, such techniques can increase device performance metrics. In an example, the present method can include forming various types of perimeter structures surrounding the metal electrodes, which can be on top or bottom of the piezoelectric layer. These perimeter structures can use various combinations of modifications to shape, material, and continuity. These perimeter structures can also be combined with sandbar structures, piezoelectric layer cavities, the geometric variations previously discussed to improve device performance metrics.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 3/04 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs pour obtenir une fréquence ou un coefficient de température désiré
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
57.
BULK ACOUSTIC WAVE RESONATOR FILTERS INCLUDING A HIGH IMPEDANCE SHUNT BRANCH AND METHODS OF FORMING THE SAME
A BAW resonator ladder topology pass-band filter can include a plurality of series branches each including BAW series resonators. A plurality of shunt branches can each include BAW shunt resonators, wherein the plurality of series branches are coupled to the plurality of shunt branches to provide the BAW resonator ladder topology pass-band filter. A high- impedance shunt branch can include a plurality of high-impedance BAW shunt resonators coupled together in-series to provide an impedance for the high-impedance shunt branch that is greater the other shunt branches in the BAW resonator ladder topology pass-band filter.
H03H 9/00 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
58.
APPARATUS FOR FORMING SINGLE CRYSTAL PIEZOELECTRIC LAYERS USING LOW-VAPOR PRESSURE METALORGANIC PRECURSORS IN CVD SYSTEMS AND METHODS OF FORMING SINGLE CRYSTAL PIEZOELECTRIC LAYERS USING THE SAME
An apparatus for forming semiconductor films can include a horizontal flow reactor including an upper portion and a lower portion that are moveably coupled to one another so as to separate from one another in an open position and so as to mate together in a closed position to form a reactor chamber. A central injector column can penetrate through the upper portion of the horizontal flow reactor into the reactor chamber, the central injector column configured to allow metalorganic precursors into the reactor chamber in the closed position. A heated metalorganic precursor line can be coupled to the central injector column and configured to heat a low vapor pressure metalorganic precursor vapor contained in the heated metalorganic precursor line upstream of the central injector column to a temperature range between about 70 degrees Centigrade and 200 degrees Centigrade.
C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
C23C 16/08 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique à partir d'halogénures métalliques
C23C 16/18 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique à partir de composés organométalliques
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
H01L 41/318 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase liquide par dépôt sol-gel
59.
METHODS OF FORMING GROUP III-NITRIDE SINGLE CRYSTAL PIEZOELECTRIC THIN FILMS
A method of forming a piezoelectric thin film can include depositing a material on a first surface of a Si substrate to provide a stress neutral template layer. A piezoelectric thin film including a Group III element and nitrogen can be sputtered onto the stress neutral template layer and a second surface of the Si substrate that is opposite the first surface can be processed to remove that Si substrate and the stress neutral template layer to provide a remaining portion of the piezoelectric thin film. A piezoelectric resonator can be formed on the remaining portion of the piezoelectric thin film.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/18 - Emploi de matériaux spécifiés pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/314 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie
60.
WIRELESS COMMUNICATION INFRASTRUCTURE SYSTEM CONFIGURED WITH A SINGLE CRYSTAL PIEZO RESONATOR AND FILTER STRUCTURE USING THIN FILM TRANSFER PROCESS
A system for a wireless communication infrastructure using single crystal devices. The wireless system can include a controller coupled to a power source, a signal processing module, and a plurality of transceiver modules. Each of the transceiver modules includes a transmit module configured on a transmit path and a receive module configured on a receive path. The transmit modules each include at least a transmit filter having one or more filter devices, while the receive modules each include at least a receive filter. Each of these filter devices includes a single crystal acoustic resonator device formed with a thin film transfer process with at least a first electrode material, a single crystal material, and a second electrode material. Wireless infrastructures using the present single crystal technology perform better in high power density applications, enable higher out of band rejection (OOBR), and achieve higher linearity as well.
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
61.
METHODS OF FORMING FILMS INCLUDING SCANDIUM AT LOW TEMPERATURES USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION TO PROVIDE DEVICES
A method of forming a film can include heating a CVD reactor chamber containing a substrate to a temperature range between about 750 degrees Centigrade and about 950 degrees Centigrade, providing a first precursor comprising A1 to the CVD reactor chamber in the temperature range, providing a second precursor comprising Sc to the CVD reactor chamber in the temperature range, providing a third precursor comprising nitrogen to the CVD reactor chamber in the temperature range, and forming the film comprising Sc AIN on the substrate.
H01L 41/316 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
62.
Methods of forming films including scandium at low temperatures using chemical vapor deposition to provide piezoelectric resonator devices and/or high electron mobility transistor devices
A method of forming a film can include heating a CVD reactor chamber containing a substrate to a temperature range between about 750 degrees Centigrade and about 950 degrees Centigrade, providing a first precursor comprising Al to the CVD reactor chamber in the temperature range, providing a second precursor comprising Sc to the CVD reactor chamber in the temperature range, providing a third precursor comprising nitrogen to the CVD reactor chamber in the temperature range, and forming the film comprising ScAlN on the substrate.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/205 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV comprenant plusieurs composés dans différentes régions semi-conductrices
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H10N 30/00 - Dispositifs piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/03 - Assemblage de dispositifs incluant des parties piézo-électriques ou électrostrictives
H10N 30/076 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p. ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
H10N 39/00 - Dispositifs intégrés, ou ensembles de plusieurs dispositifs, comportant au moins un élément piézo-électrique, électrostrictif ou magnétostrictif couvert par les groupes
63.
Apparatus including horizontal flow reactor with a central injector column having separate conduits for low-vapor pressure metalorganic precursors and other precursors for formation of piezoelectric layers on wafers
An apparatus for forming semiconductor films can include a horizontal flow reactor including an upper portion and a lower portion that are moveably coupled to one another so as to separate from one another in an open position and so as to mate together in a closed position to form a reactor chamber. A central injector column can penetrate through the upper portion of the horizontal flow reactor into the reactor chamber, the central injector column configured to allow metalorganic precursors into the reactor chamber in the closed position. A heated metalorganic precursor line can be coupled to the central injector column and configured to heat a low vapor pressure metalorganic precursor vapor contained in the heated metalorganic precursor line upstream of the central injector column to a temperature range between about 70 degrees Centigrade and 200 degrees Centigrade and a processor circuit can be operatively coupled to the heated metalorganic precursor line and configured to maintain a temperature of the low vapor pressure metalorganic precursor vapor within the temperature range.
C30B 35/00 - Appareillages non prévus ailleurs, spécialement adaptés à la croissance, à la production ou au post-traitement de monocristaux ou de matériaux polycristallins homogènes de structure déterminée
C30B 25/14 - Moyens d'introduction et d'évacuation des gazModification du courant des gaz réactifs
H01L 41/316 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
C23C 16/18 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique à partir de composés organométalliques
C23C 16/458 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour supporter les substrats dans la chambre de réaction
64.
Methods of forming integrated circuit devices using cutting tools to expose metallization pads through a cap structure and related cutting devices
A method of fabricating a semiconductor device can include providing an integrated circuit electrically coupled to a metallization pad on a semiconductor wafer, the integrated circuit and the metallization pad covered by a cap structure. A channel can be cut in a portion of the cap structure that covers the metallization pad using a cutting tool having a tip surface and a beveled side surface to expose an upper surface of the metallization pad in the channel extending in a first direction and a conductive material can be deposited in the channel to ohmically contact the upper surface of the metallization pad in the channel.
H01L 21/304 - Traitement mécanique, p. ex. meulage, polissage, coupe
B28D 5/00 - Travail mécanique des pierres fines, pierres précieuses, cristaux, p. ex. des matériaux pour semi-conducteursAppareillages ou dispositifs à cet effet
H03H 3/08 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux utilisant des ondes acoustiques de surface
H01L 21/78 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
65.
METHODS OF FORMING INTEGRATED CIRCUIT DEVICES USING CUTTING TOOLS TO EXPOSE METALIZATION PADS THROUGH A CAP STRUCTURE AND RELATED CUTTING DEVICES
A method of fabricating a semiconductor device can include providing an integrated circuit electrically coupled to a metallization pad on a semiconductor wafer, the integrated circuit and the metallization pad covered by a cap structure. A channel can be cut in a portion of the cap structure that covers the metallization pad using a cutting tool having a tip surface and a beveled side surface to expose an upper surface of the metallization pad in the channel extending in a first direction and a conductive material can be deposited in the channel to ohmically contact the upper surface of the metallization pad in the channel.
H01L 21/302 - Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p. ex. gravure, polissage, découpage
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/30 - Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes
H01L 21/301 - Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes pour subdiviser un corps semi-conducteur en parties distinctes, p. ex. cloisonnement en zones séparées
H01L 21/304 - Traitement mécanique, p. ex. meulage, polissage, coupe
H01L 21/31 - Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes pour former des couches isolantes en surface, p. ex. pour masquer ou en utilisant des techniques photolithographiquesPost-traitement de ces couchesEmploi de matériaux spécifiés pour ces couches
66.
Piezoelectric acoustic resonator with dielectric protective layer manufactured with piezoelectric thin film transfer process
A method and structure for a transfer process for an acoustic resonator device. In an example, a bulk acoustic wave resonator (BAWR) with an air reflection cavity is formed. A piezoelectric thin film is grown on a crystalline substrate. Patterned electrodes are deposited on the surface of the piezoelectric film. An etched sacrificial layer is deposited over the electrodes and a planarized support layer is deposited over the sacrificial layer. The device can include a dielectric protection layer (DPL) that protects the piezoelectric layer from etching processes that can produce rough surfaces and reduces parasitic capacitance around the perimeter of the resonator when the DPL's dielectric constant is lower than that of the piezoelectric layer. The DPL can be configured between the top electrode and the piezoelectric layer, between the bottom electrode and the piezoelectric layer, or both.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/00 - Dispositifs piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/85 - Matériaux actifs piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/02 - Formation d'enceintes ou d'enveloppes
H10N 30/06 - Formation d’électrodes ou d’interconnexions, p. ex. de connections électriques ou de bornes
H10N 30/077 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p. ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase liquide
H10N 30/086 - Mise en forme ou usinage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs par usinage par polissage ou meulage
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H01L 41/053 - Montures, supports, enveloppes ou boîtiers
H01L 41/08 - Eléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/18 - Emploi de matériaux spécifiés pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/23 - Formation d'enceintes ou d'enveloppes
H01L 41/29 - Formation d’électrodes, de connexions électriques ou de dispositions de bornes
H01L 41/317 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase liquide
H01L 41/337 - Mise en forme ou usinage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs par usinage par polissage ou meulage
67.
RF ACOUSTIC WAVE RESONATORS INTEGRATED WITH HIGH ELECTRON MOBILITY TRANSISTORS INCLUDING A SHARED PIEZOELECTRIC/BUFFER LAYER AND METHODS OF FORMING THE SAME
An RF integrated circuit device can includes a substrate and a High Electron Mobility Transistor (HEMT) device on the substrate including a ScAlN layer configured to provide a buffer layer of the HEMT device to confine formation of a 2DEG channel region of the HEMT device. An RF piezoelectric resonator device can be on the substrate including the ScAlN layer sandwiched between a top electrode and a bottom electrode of the RF piezoelectric resonator device to provide a piezoelectric resonator for the RF piezoelectric resonator device.
H01L 41/08 - Eléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/319 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie à l’aide de couches intermédiaires, p.ex. pour contrôler la croissance
H01L 41/18 - Emploi de matériaux spécifiés pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/316 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
68.
Front end module for 6.1 GHz Wi-Fi acoustic wave resonator RF filter circuit
A front-end module (FEM) for a 6.1 GHz Wi-Fi acoustic wave resonator RF filter circuit. The device can include a power amplifier (PA), a 6.1 GHz resonator, and a diversity switch. The device can further include a low noise amplifier (LNA). The PA is electrically coupled to an input node and can be configured to a DC power detector or an RF power detector. The resonator can be configured between the PA and the diversity switch, or between the diversity switch and an antenna. The LNA may be configured to the diversity switch or be electrically isolated from the switch. Another 6.1 GHZ resonator may be configured between the diversity switch and the LNA. In a specific example, this device integrates a 6.1 GHz PA, a 6.1 GHZ bulk acoustic wave (BAW) RF filter, a single pole two throw (SP2T) switch, and a bypassable LNA into a single device.
H04B 7/08 - Systèmes de diversitéSystèmes à plusieurs antennes, c.-à-d. émission ou réception utilisant plusieurs antennes utilisant plusieurs antennes indépendantes espacées à la station de réception
H04B 1/00 - Détails des systèmes de transmission, non couverts par l'un des groupes Détails des systèmes de transmission non caractérisés par le milieu utilisé pour la transmission
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03F 1/26 - Modifications des amplificateurs pour réduire l'influence du bruit provoqué par les éléments amplificateurs
H03F 3/195 - Amplificateurs à haute fréquence, p. ex. amplificateurs radiofréquence comportant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans des circuits intégrés
H03F 3/72 - Amplificateurs commandés, c.-à-d. amplificateurs mis en service ou hors service au moyen d'un signal de commande
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
69.
Monolithic single chip integrated radio frequency front end module configured with single crystal acoustic filter devices
A method of manufacture and structure for a monolithic single chip single crystal device. The method can include forming a first single crystal epitaxial layer overlying the substrate and forming one or more second single crystal epitaxial layers overlying the first single crystal epitaxial layer. The first single crystal epitaxial layer and the one or more second single crystal epitaxial layers can be processed to form one or more active or passive device components. Through this process, the resulting device includes a monolithic epitaxial stack integrating multiple circuit functions.
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/8252 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie III-V
H01L 27/20 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des composants magnétostrictifs
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 29/80 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une jonction PN ou une autre jonction redresseuse
H03F 3/19 - Amplificateurs à haute fréquence, p. ex. amplificateurs radiofréquence comportant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H03F 3/21 - Amplificateurs de puissance, p. ex. amplificateurs de classe B, amplificateur de classe C comportant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H03H 3/08 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux utilisant des ondes acoustiques de surface
H01L 41/18 - Emploi de matériaux spécifiés pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/314 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
Structure and method of manufacture for acoustic resonator or filter devices using improved fabrication conditions and perimeter structure modifications
A method of manufacture for an acoustic resonator or filter device. In an example, the present method can include forming metal electrodes with different geometric areas and profile shapes coupled to a piezoelectric layer overlying a substrate. These metal electrodes can also be formed within cavities of the piezoelectric layer or the substrate with varying geometric areas. Combined with specific dimensional ratios and ion implantations, such techniques can increase device performance metrics. In an example, the present method can include forming various types of perimeter structures surrounding the metal electrodes, which can be on top or bottom of the piezoelectric layer. These perimeter structures can use various combinations of modifications to shape, material, and continuity. These perimeter structures can also be combined with sandbar structures, piezoelectric layer cavities, the geometric variations previously discussed to improve device performance metrics.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 3/04 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs pour obtenir une fréquence ou un coefficient de température désiré
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
71.
Bulk acoustic wave resonator filters including rejection-band resonators
A BAW resonator filter can include a BAW resonator pass-band filter ladder, the BAW resonator pass-band filter ladder can be configured to pass frequency components of an input signal in a pass-band of frequencies received at an input node of the BAW resonator pass-band filter ladder to an output node of the BAW resonator pass-band filter ladder. A first rejection-band series resonator can be coupled in series between an input port of the BAW resonator pass-band filter ladder and the input node, the first rejection-band series resonator can have a first anti-resonant frequency peak in a rejection-band of frequencies that is less than the pass-band of frequencies. A second rejection-band series resonator can be coupled in series between an output port of the BAW resonator filter and the output node, the second rejection-band series resonator can have a second anti-resonant frequency peak in the rejection-band of frequencies.
A resonator circuit device. This device can include a piezoelectric layer having a front-side electrode and a back-side electrode spatially configured on opposite sides of the piezoelectric layer. Each electrode has a connection region and a resonator region. Each electrode also includes a partial mass-loaded structure configured within a vicinity of its connection region. The front-side electrode and the back-side electrode are spatially configured in an anti-symmetrical manner with the resonator regions of both electrodes at least partially overlapping and the first and second connection regions on opposing sides. This configuration provides a symmetric acoustic impedance profile for improved Q factor and can reduce the issues of misalignment or unbalanced boundary conditions associated with conventional single mass-loaded perimeter configurations.
A method of manufacture for an acoustic resonator or filter device. In an example, the present method can include forming metal electrodes with different geometric areas and profile shapes coupled to a piezoelectric layer overlying a substrate. These metal electrodes can also be formed within cavities of the piezoelectric layer or the substrate with varying geometric areas. Combined with specific dimensional ratios and ion implantations, such techniques can increase device performance metrics. In an example, the present method can include forming various types of perimeter structures surrounding the metal electrodes, which can be on top or bottom of the piezoelectric layer. These perimeter structures can use various combinations of modifications to shape, material, and continuity. These perimeter structures can also be combined with sandbar structures, piezoelectric layer cavities, the geometric variations previously discussed to improve device performance metrics.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 3/04 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs pour obtenir une fréquence ou un coefficient de température désiré
74.
RF acoustic wave resonators integrated with high electron mobility transistors including a shared piezoelectric/buffer layer and methods of forming the same
An RF integrated circuit device can includes a substrate and a High Electron Mobility Transistor (HEMT) device on the substrate including a ScAlN layer configured to provide a buffer layer of the HEMT device to confine formation of a 2DEG channel region of the HEMT device. An RF piezoelectric resonator device can be on the substrate including the ScAlN layer sandwiched between a top electrode and a bottom electrode of the RF piezoelectric resonator device to provide a piezoelectric resonator for the RF piezoelectric resonator device.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/13 - Moyens d'excitation, p. ex. électrodes, bobines pour réseaux se composant de matériaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H01L 41/337 - Mise en forme ou usinage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs par usinage par polissage ou meulage
H01L 41/317 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase liquide
H01L 41/29 - Formation d’électrodes, de connexions électriques ou de dispositions de bornes
H01L 41/23 - Formation d'enceintes ou d'enveloppes
H01L 41/18 - Emploi de matériaux spécifiés pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/08 - Eléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/053 - Montures, supports, enveloppes ou boîtiers
H03H 9/54 - Filtres comprenant des résonateurs en matériau piézo-électrique ou électrostrictif
H01L 41/312 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par laminage ou collage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs
75.
METHODS OF FORMING GROUP III PIEZOELECTRIC THIN FILMS VIA REMOVAL OF PORTIONS OF FIRST SPUTTERED MATERIAL
A method of forming a piezoelectric thin film includes sputtering a first surface of a substrate to provide a piezoelectric thin film comprising AlN, AlScN, AlCrN, HfMgAlN, or ZrMgAlN thereon, processing a second surface of the substrate that is opposite the first surface of the substrate to provide an exposed surface of the piezoelectric thin film from beneath the second surface of the substrate, wherein the exposed surface of the piezoelectric thin film includes a first crystalline quality portion, removing a portion of the exposed surface of the piezoelectric thin film to access a second crystalline quality portion that is covered by the first crystalline quality portion, wherein the second crystalline quality portion has a higher quality than the first crystalline quality portion and processing the second crystalline quality portion to provide an acoustic resonator device on the second crystalline quality portion.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
76.
METHODS OF FORMING DOPED CRYSTALLINE PIEZOELECTRIC THIN FILMS VIA MOCVD AND RELATED DOPED CRYSTALLINE PIEZOELECTRIC THIN FILMS
A method of forming a piezoelectric film can include providing a wafer in a CVD reaction chamber and forming an aluminum nitride material on the wafer, the aluminum nitride material doped with a first element E1 selected from group IIA or from group IIB and doped with a second element E2 selected from group IVB to provide the aluminum nitride material comprising a crystallinity of less than about 1.5 degree at Full Width Half Maximum (FWHM) to about 10 arcseconds at FWHM measured using X-ray diffraction (XRD).
A BAW resonator filter can include a BAW resonator pass-band filter ladder, the BAW resonator pass-band filter ladder can be configured to pass frequency components of an input signal in a pass-band of frequencies received at an input node of the BAW resonator pass-band filter ladder to an output node of the BAW resonator pass-band filter ladder. A first rejection-band series resonator can be coupled in series between an input port of the BAW resonator pass-band filter ladder and the input node, the first rejection-band series resonator can have a first anti-resonant frequency peak in a rejection-band of frequencies that is less than the pass-band of frequencies. A second rejection-band series resonator can be coupled in series between an output port of the BAW resonator filter and the output node, the second rejection-band series resonator can have a second anti-resonant frequency peak in the rejection-band of frequencies.
H03H 9/64 - Filtres utilisant des ondes acoustiques de surface
H03H 9/00 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques
H03H 9/70 - Réseaux à plusieurs accès pour connecter plusieurs sources ou charges, fonctionnant sur des fréquences ou dans des bandes de fréquence différentes, à une charge ou à une source commune
H03H 9/72 - Réseaux utilisant des ondes acoustiques de surface
78.
Effective coupling coefficients for strained single crystal epitaxial film bulk acoustic resonators
In an array of single crystal acoustic resonators, the effective coupling coefficient of first and second strained single crystal filters are individually tailored in order to achieve desired frequency responses. In a duplexer embodiment, the effective coupling coefficient of a transmit band-pass filter is lower than the effective coupling coefficient of a receive band-pass filter of the same duplexer. The coefficients can be tailored by varying the ratio of the thickness of a piezoelectric layer to the total thickness of electrode layers or by forming a capacitor in parallel with an acoustic resonator within the filter for which the effective coupling coefficient is to be degraded. Further, a strained piezoelectric layer can be formed overlying a nucleation layer characterized by initial surface etching and piezoelectric layer deposition parameters being configured to modulate a strain condition in the strained piezoelectric layer to adjust piezoelectric properties for improved performance in specific applications.
H03H 9/70 - Réseaux à plusieurs accès pour connecter plusieurs sources ou charges, fonctionnant sur des fréquences ou dans des bandes de fréquence différentes, à une charge ou à une source commune
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
A resonator circuit device. This device can include a piezoelectric layer having a front-side electrode and a back-side electrode spatially configured on opposite sides of the piezoelectric layer. Each electrode has a connection region and a resonator region. Each electrode also includes a partial mass-loaded structure configured within a vicinity of its connection region. The front-side electrode and the back-side electrode are spatially configured in an anti-symmetrical manner with the resonator regions of both electrodes at least partially overlapping and the first and second connection regions on opposing sides. This configuration provides a symmetric acoustic impedance profile for improved Q factor and can reduce the issues of misalignment or unbalanced boundary conditions associated with conventional single mass-loaded perimeter configurations.
A resonator circuit device. This device can include a piezoelectric layer having a front-side electrode and a back-side electrode spatially configured on opposite sides of the piezoelectric layer. Each electrode has a connection region and a resonator region. Each electrode also includes a partial mass-loaded structure configured within a vicinity of its connection region. The front-side electrode and the back-side electrode are spatially configured in an anti-symmetrical manner with the resonator regions of both electrodes at least partially overlapping and the first and second connection regions on opposing sides. This configuration provides a symmetric acoustic impedance profile for improved Q factor and can reduce the issues of misalignment or unbalanced boundary conditions associated with conventional single mass-loaded perimeter configurations.
A resonator circuit device. The present invention provides for improved resonator shapes using egg-shaped, partial egg-shaped, and asymmetrical partial egg-shaped resonator structures. These resonator shapes are configured to give less spurious mode/noise below the resonant frequency (Fs) than rectangular, circular, and elliptical resonator shapes. These improved resonator shapes also provide filter layout flexibility, which allows for more compact resonator devices compared to resonator devices using conventionally shaped resonators.
s) than rectangular, circular, and elliptical resonator shapes. These improved resonator shapes also provide filter layout flexibility, which allows for more compact resonator devices compared to resonator devices using conventionally shaped resonators.
A front end module (FEM) for a 6.5 GHz Wi-Fi acoustic wave resonator RF filter circuit. The device can include a power amplifier (PA), a 6.5 GHz resonator, and a diversity switch. The device can further include a low noise amplifier (LNA). The PA is electrically coupled to an input node and can be configured to a DC power detector or an RF power detector. The resonator can be configured between the PA and the diversity switch, or between the diversity switch and an antenna. The LNA may be configured to the diversity switch or be electrically isolated from the switch. Another 6.5 GHZ resonator may be configured between the diversity switch and the LNA. In a specific example, this device integrates a 6.5 GHz PA, a 6.5 GHZ bulk acoustic wave (BAW) RF filter, a single pole two throw (SP2T) switch, and a bypassable LNA into a single device.
H04B 7/08 - Systèmes de diversitéSystèmes à plusieurs antennes, c.-à-d. émission ou réception utilisant plusieurs antennes utilisant plusieurs antennes indépendantes espacées à la station de réception
H04B 1/00 - Détails des systèmes de transmission, non couverts par l'un des groupes Détails des systèmes de transmission non caractérisés par le milieu utilisé pour la transmission
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03F 1/26 - Modifications des amplificateurs pour réduire l'influence du bruit provoqué par les éléments amplificateurs
H03F 3/195 - Amplificateurs à haute fréquence, p. ex. amplificateurs radiofréquence comportant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans des circuits intégrés
H03F 3/72 - Amplificateurs commandés, c.-à-d. amplificateurs mis en service ou hors service au moyen d'un signal de commande
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
84.
Piezoelectric acoustic resonator manufactured with piezoelectric thin film transfer process
A method and structure for a transfer process for an acoustic resonator device. In an example, a bulk acoustic wave resonator (BAWR) with an air reflection cavity is formed. A piezoelectric thin film is grown on a crystalline substrate. One or more patterned electrodes are deposited on the surface of the piezoelectric film. An etched sacrificial layer is deposited over the one or more electrodes and a planarized support layer is deposited over the sacrificial layer. The support layer is etched to form one or more cavities overlying the electrodes to expose the sacrificial layer. The sacrificial layer is etched to release the cavities around the electrodes. Then, a cap layer is fusion bonded to the support layer to enclose the electrodes in the support layer cavities.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/053 - Montures, supports, enveloppes ou boîtiers
H01L 41/08 - Eléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/18 - Emploi de matériaux spécifiés pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/23 - Formation d'enceintes ou d'enveloppes
H01L 41/29 - Formation d’électrodes, de connexions électriques ou de dispositions de bornes
H01L 41/317 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase liquide
H01L 41/337 - Mise en forme ou usinage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs par usinage par polissage ou meulage
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
A front end module (FEM) for a 5.5 GHz Wi-Fi acoustic wave resonator RF filter circuit. The device can include a power amplifier (PA), a 5.5 GHz resonator, and a diversity switch. The device can further include a low noise amplifier (LNA). The PA is electrically coupled to an input node and can be configured to a DC power detector or an RF power detector. The resonator can be configured between the PA and the diversity switch, or between the diversity switch and an antenna. The LNA may be configured to the diversity switch or be electrically isolated from the switch. Another 5.5 GHZ resonator may be configured between the diversity switch and the LNA. In a specific example, this device integrates a 5.5 GHz PA, a 5.5 GHZ bulk acoustic wave (BAW) RF filter, a single pole two throw (SP2T) switch, and a bypassable LNA into a single device.
H04B 7/08 - Systèmes de diversitéSystèmes à plusieurs antennes, c.-à-d. émission ou réception utilisant plusieurs antennes utilisant plusieurs antennes indépendantes espacées à la station de réception
H04B 1/00 - Détails des systèmes de transmission, non couverts par l'un des groupes Détails des systèmes de transmission non caractérisés par le milieu utilisé pour la transmission
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03F 1/26 - Modifications des amplificateurs pour réduire l'influence du bruit provoqué par les éléments amplificateurs
H03F 3/195 - Amplificateurs à haute fréquence, p. ex. amplificateurs radiofréquence comportant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans des circuits intégrés
H03F 3/72 - Amplificateurs commandés, c.-à-d. amplificateurs mis en service ou hors service au moyen d'un signal de commande
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
86.
Piezoelectric acoustic resonator with improved TCF manufactured with piezoelectric thin film transfer process
A method and structure for a transfer process for an acoustic resonator device. In an example, a bulk acoustic wave resonator (BAWR) with an air reflection cavity is formed. A piezoelectric thin film is grown on a crystalline substrate. Patterned electrodes are deposited on the surface of the piezoelectric film. An etched sacrificial layer is deposited over the electrodes and a planarized support layer is deposited over the sacrificial layer. The device can include temperature compensation layers (TCL) that improve the device TCF. These layers can be thin layers of oxide type materials and can be configured between the top electrode and the piezoelectric layer, between the bottom electrode and the piezoelectric layer, between two or more piezoelectric layers, and any combination thereof. In an example, the TCLs can be configured from thick passivation layers overlying the top electrode and/or underlying the bottom electrode.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/053 - Montures, supports, enveloppes ou boîtiers
H01L 41/08 - Eléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/18 - Emploi de matériaux spécifiés pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/23 - Formation d'enceintes ou d'enveloppes
H01L 41/29 - Formation d’électrodes, de connexions électriques ou de dispositions de bornes
H01L 41/317 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase liquide
H01L 41/337 - Mise en forme ou usinage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs par usinage par polissage ou meulage
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
A front end module (FEM) for a 5.2 GHz Wi-Fi acoustic wave resonator RF filter circuit. The device can include a power amplifier (PA), a 5.2 GHz resonator, and a diversity switch. The device can further include a low noise amplifier (LNA). The PA is electrically coupled to an input node and can be configured to a DC power detector or an RF power detector. The resonator can be configured between the PA and the diversity switch, or between the diversity switch and an antenna. The LNA may be configured to the diversity switch or be electrically isolated from the switch. Another 5.2 GHZ resonator may be configured between the diversity switch and the LNA. In a specific example, this device integrates a 5.2 GHz PA, a 5.2 GHZ bulk acoustic wave (BAW) RF filter, a single pole two throw (SP2T) switch, and a bypassable LNA into a single device.
H04B 7/08 - Systèmes de diversitéSystèmes à plusieurs antennes, c.-à-d. émission ou réception utilisant plusieurs antennes utilisant plusieurs antennes indépendantes espacées à la station de réception
H04B 1/00 - Détails des systèmes de transmission, non couverts par l'un des groupes Détails des systèmes de transmission non caractérisés par le milieu utilisé pour la transmission
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03F 1/26 - Modifications des amplificateurs pour réduire l'influence du bruit provoqué par les éléments amplificateurs
H03F 3/195 - Amplificateurs à haute fréquence, p. ex. amplificateurs radiofréquence comportant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans des circuits intégrés
H03F 3/72 - Amplificateurs commandés, c.-à-d. amplificateurs mis en service ou hors service au moyen d'un signal de commande
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
88.
Methods of forming group III-nitride single crystal piezoelectric thin films using ordered deposition and stress neutral template layers
A method of forming a piezoelectric thin film can include depositing a material on a first surface of a Si substrate to provide a stress neutral template layer. A piezoelectric thin film including a Group III element and nitrogen can be sputtered onto the stress neutral template layer and a second surface of the Si substrate that is opposite the first surface can be processed to remove that Si substrate and the stress neutral template layer to provide a remaining portion of the piezoelectric thin film. A piezoelectric resonator can be formed on the remaining portion of the piezoelectric thin film.
H10N 30/074 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p. ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/079 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p. ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie à l’aide de couches intermédiaires, p. ex. pour contrôler la croissance
H10N 30/85 - Matériaux actifs piézo-électriques ou électrostrictifs
H10N 30/076 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p. ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
An RF circuit device using modified lattice, lattice, and ladder circuit topologies. The devices can include four resonator devices and four shunt resonator devices. In the ladder topology, the resonator devices are connected in series from an input port to an output port while shunt resonator devices are coupled the nodes between the resonator devices. In the lattice topology, a top and a bottom serial configurations each includes a pair of resonator devices that are coupled to differential input and output ports. A pair of shunt resonators is cross-coupled between each pair of a top serial configuration resonator and a bottom serial configuration resonator. The modified lattice topology adds baluns or inductor devices between top and bottom nodes of the top and bottom serial configurations of the lattice configuration. These topologies may be applied using single crystal or polycrystalline bulk acoustic wave (BAW) resonators.
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 9/54 - Filtres comprenant des résonateurs en matériau piézo-électrique ou électrostrictif
H03H 9/00 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
90.
Piezoelectric acoustic resonator manufactured with piezoelectric thin film transfer process
A method and structure for a transfer process for an acoustic resonator device. In an example, a bulk acoustic wave resonator (BAWR) with an air reflection cavity is formed. A piezoelectric thin film is grown on a crystalline substrate. A first patterned electrode is deposited on the surface of the piezoelectric film. An etched sacrificial layer is deposited over the first electrode and a planarized support layer is deposited over the sacrificial layer, which is then bonded to a substrate wafer. The crystalline substrate is removed and a second patterned electrode is deposited over a second surface of the film. The sacrificial layer is etched to release the air reflection cavity. Also, a cavity can instead be etched into the support layer prior to bonding with the substrate wafer. Alternatively, a reflector structure can be deposited on the first electrode, replacing the cavity.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
H03H 9/13 - Moyens d'excitation, p. ex. électrodes, bobines pour réseaux se composant de matériaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H01L 41/337 - Mise en forme ou usinage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs par usinage par polissage ou meulage
H01L 41/317 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase liquide
H01L 41/29 - Formation d’électrodes, de connexions électriques ou de dispositions de bornes
H01L 41/23 - Formation d'enceintes ou d'enveloppes
H01L 41/18 - Emploi de matériaux spécifiés pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/08 - Eléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/053 - Montures, supports, enveloppes ou boîtiers
H03H 9/54 - Filtres comprenant des résonateurs en matériau piézo-électrique ou électrostrictif
H01L 41/312 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par laminage ou collage de corps piézo-électriques ou électrostrictifs
91.
Method of manufacture for single crystal acoustic resonator devices using micro-vias
A method of manufacture for an acoustic resonator device. The method includes forming a nucleation layer characterized by nucleation growth parameters overlying a substrate and forming a strained piezoelectric layer overlying the nucleation layer. The strained piezoelectric layer is characterized by a strain condition and piezoelectric layer parameters. The process of forming the strained piezoelectric layer can include an epitaxial growth process configured by nucleation growth parameters and piezoelectric layer parameters to modulate the strain condition in the strained piezoelectric layer. By modulating the strain condition, the piezoelectric properties of the resulting piezoelectric layer can be adjusted and improved for specific applications.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
A method of forming a piezoelectric thin film includes sputtering a first surface of a substrate to provide a piezoelectric thin film comprising AlN, AlScN, AlCrN, HfMgAlN, or ZrMgAlN thereon, processing a second surface of the substrate that is opposite the first surface of the substrate to provide an exposed surface of the piezoelectric thin film from beneath the second surface of the substrate, wherein the exposed surface of the piezoelectric thin film includes a first crystalline quality portion, removing a portion of the exposed surface of the piezoelectric thin film to access a second crystalline quality portion that is covered by the first crystalline quality portion, wherein the second crystalline quality portion has a higher quality than the first crystalline quality portion and processing the second crystalline quality portion to provide an acoustic resonator device on the second crystalline quality portion.
H01L 41/316 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
H01L 41/18 - Emploi de matériaux spécifiés pour des éléments piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/29 - Formation d’électrodes, de connexions électriques ou de dispositions de bornes
H01L 41/273 - Fabrication de dispositifs piézo-électriques ou électrostrictifs multicouches ou de leurs parties constitutives, p.ex. en empilant des corps piézo-électriques et des électrodes par frittage intégral de corps piézo-électriques ou électrostrictifs et d’électrodes
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
93.
Method and structure for single crystal acoustic resonator devices using thermal recrystallization
A method of manufacture and structure for an acoustic resonator device having a hybrid piezoelectric stack with a strained single crystal layer and a thermally-treated polycrystalline layer. The method can include forming a strained single crystal piezoelectric layer overlying the nucleation layer and having a strain condition and piezoelectric layer parameters, wherein the strain condition is modulated by nucleation growth parameters and piezoelectric layer parameters to improve one or more piezoelectric properties of the strained single crystal piezoelectric layer. Further, the method can include forming a polycrystalline piezoelectric layer overlying the strained single crystal piezoelectric layer, and performing a thermal treatment on the polycrystalline piezoelectric layer to form a recrystallized polycrystalline piezoelectric layer. The resulting device with this hybrid piezoelectric stack exhibits improved electromechanical coupling and wide bandwidth performance.
H01L 41/253 - Traitement de dispositifs ou de leurs parties constitutives afin de modifier une propriété piézo-électrique ou électrostrictive, p.ex. les caractéristiques de polarisation, de vibration ou par réglage du mode
H01L 41/316 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
An RF circuit device using modified lattice, lattice, and ladder circuit topologies. The devices can include four resonator devices and four shunt resonator devices. In the ladder topology, the resonator devices are connected in series from an input port to an output port while shunt resonator devices are coupled the nodes between the resonator devices. In the lattice topology, a top and a bottom serial configurations each includes a pair of resonator devices that are coupled to differential input and output ports. A pair of shunt resonators is cross-coupled between each pair of a top serial configuration resonator and a bottom serial configuration resonator. The modified lattice topology adds baluns or inductor devices between top and bottom nodes of the top and bottom serial configurations of the lattice configuration. These topologies may be applied using single crystal or polycrystalline bulk acoustic wave (BAW) resonators.
H03H 3/04 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs pour obtenir une fréquence ou un coefficient de température désiré
H10N 30/00 - Dispositifs piézo-électriques ou électrostrictifs
95.
Methods of forming doped crystalline piezoelectric thin films via MOCVD and related doped crystalline piezoelectric thin films
A method of forming a piezoelectric film can include providing a wafer in a CVD reaction chamber and forming an aluminum nitride material on the wafer, the aluminum nitride material doped with a first element E1 selected from group IIA or from group IIB and doped with a second element E2 selected from group IVB to provide the aluminum nitride material comprising a crystallinity of less than about 1.5 degree at Full Width Half Maximum (FWHM) to about 10 arcseconds at FWHM measured using X-ray diffraction (XRD).
H10N 30/076 - Formation de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p. ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H01J 37/34 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse fonctionnant par pulvérisation cathodique
C23C 14/06 - Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement caractérisé par le matériau de revêtement
A method of manufacturing an integrated circuit. This method includes forming an epitaxial material comprising single crystal piezo material overlying a surface region of a substrate to a desired thickness and forming a trench region to form an exposed portion of the surface region through a pattern provided in the epitaxial material. Also, the method includes forming a topside landing pad metal and a first electrode member overlying a portion of the epitaxial material and a second electrode member overlying the topside landing pad metal. Furthermore, the method can include processing the backside of the substrate to form a backside trench region exposing a backside of the epitaxial material and the landing pad metal and forming a backside resonator metal material overlying the backside of the epitaxial material to couple to the second electrode member overlying the topside landing pad metal.
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H01L 41/316 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
An acoustic resonator device and method thereof. The device includes a substrate member having an air cavity region. A piezoelectric layer is coupled to and configured overlying the substrate member and the air cavity region. The piezoelectric layer is configured to be characterized by an x-ray rocking curve Full Width at Half Maximum (FWHM) ranging from 0 degrees to 2 degrees. A top electrode is coupled to and configured overlying the piezoelectric layer, while a bottom electrode coupled to and configured underlying the piezoelectric layer within the air cavity region. The configuration of the materials of the piezoelectric layer and the substrate member to achieve the specific FWHM range improves a power handling capability characteristic and a power durability characteristic.
A Bulk Acoustic Wave (BAW) resonator filter can include a BAW resonator pass-band filter ladder, where the BAW resonator pass-band filter ladder can be configured to pass frequency components of an input signal in a pass-band of frequencies received at an input node of the BAW resonator pass-band filter ladder to an output node of the BAW resonator pass-band filter ladder. A first rejection-band series resonator can be coupled in series between an input port of the BAW resonator pass-band filter ladder and the input node, where the first rejection-band series resonator can have a first anti-resonant frequency peak in a rejection-band of frequencies that is less than the pass-band of frequencies. A second rejection-band series resonator can be coupled in series between an output port of the BAW resonator filter and the output node, where the second rejection-band series resonator can have a second anti-resonant frequency peak in the rejection-band of frequencies.
An acoustic resonator device and method thereof. The device includes a substrate member having an air cavity region. A piezoelectric layer is coupled to and configured overlying the substrate member and the air cavity region. The piezoelectric layer is configured to be characterized by an x-ray rocking curve Full Width at Half Maximum (FWHM) ranging from 0 degrees to 2 degrees. A top electrode is coupled to and configured overlying the piezoelectric layer, while a bottom electrode coupled to and configured underlying the piezoelectric layer within the air cavity region. The configuration of the materials of the piezoelectric layer and the substrate member to achieve the specific FWHM range improves a power handling capability characteristic and a power durability characteristic.
H03H 9/54 - Filtres comprenant des résonateurs en matériau piézo-électrique ou électrostrictif
H03H 9/17 - Détails de réalisation de résonateurs se composant de matériau piézo-électrique ou électrostrictif ayant un résonateur unique
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
H03H 9/125 - Moyens d'excitation, p. ex. électrodes, bobines
H03H 9/02 - Réseaux comprenant des éléments électromécaniques ou électro-acoustiquesRésonateurs électromécaniques Détails
100.
Methods of forming group III piezoelectric thin films via sputtering
A method of forming a piezoelectric thin film can be provided by heating a substrate in a process chamber to a temperature between about 350 degrees Centigrade and about 850 degrees Centigrade to provide a sputtering temperature of the substrate and sputtering a Group III element from a target in the process chamber onto the substrate at the sputtering temperature to provide the piezoelectric thin film including a nitride of the Group III element on the substrate to have a crystallinity of less than about 1.0 degree at Full Width Half Maximum (FWHM) to about 10 arcseconds at FWHM measured using X-ray diffraction (XRD).
H01L 41/316 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
H03H 3/02 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de réseaux d'impédance, de circuits résonnants, de résonateurs pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux électromécaniques pour la fabrication de résonateurs ou de réseaux piézo-électriques ou électrostrictifs
C23C 14/06 - Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement caractérisé par le matériau de revêtement
H01L 41/319 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie à l’aide de couches intermédiaires, p.ex. pour contrôler la croissance
