Chongqing Institute of East China Normal University

Chine

Retour au propriétaire

1-49 de 49 pour Chongqing Institute of East China Normal University Trier par
Recheche Texte
Affiner par
Date
2024 6
2023 12
2022 13
2021 18
Classe IPC
H01S 3/13 - Stabilisation de paramètres de sortie de laser, p. ex. fréquence ou amplitude 6
B23K 26/06 - Mise en forme du faisceau laser, p. ex. à l’aide de masques ou de foyers multiples 4
B23K 26/0622 - Mise en forme du faisceau laser, p. ex. à l’aide de masques ou de foyers multiples par commande directe du faisceau laser par impulsions de mise en forme 4
H01S 3/00 - Lasers, c.-à-d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet 4
H01S 3/10 - Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p. ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation 4
Voir plus
Statut
En Instance 22
Enregistré / En vigueur 27
Résultats pour  brevets

1.

DIVIDED-PULSE LASER REGENERATION AMPLIFICATION APPARATUS AND METHOD

      
Numéro d'application 18489083
Statut En instance
Date de dépôt 2023-10-18
Date de la première publication 2024-07-11
Propriétaire
  • Chongqing Huapu Intelligent Equipment Co., Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Scientific Instrument Co.,Ltd. (Chine)
  • Yunnan Huapu quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • GuangDong ROI Optoelectronics Technology Co., Ltd. (Chine)
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Guo, Zhengru
  • Qian, Xiaowei
  • Liu, Tingting
  • Yao, Tianjun

Abrégé

A divided-pulse laser regeneration amplification apparatus includes: a signal light coupling component including a first half-wave plate, a first polarization beam splitter, a first Faraday rotator and a second half-wave plate placed in sequence; and a divided-pulse laser regeneration amplification component including a second polarization beam splitter and a third reflector, the second polarization beam splitter is adjacent to the second half-wave plate and is in a same column as the third reflector and the second half-wave plate; a first quarter-wave plate, a Pockels cell and a first reflector are successively arranged on a first side of the second polarization beam splitter, and a third half-wave plate, a first pulse polarization separation component and a first non-linear pulse amplification component are successively arranged on a second side of the second polarization beam splitter.

Classes IPC  ?

  • H01S 3/102 - Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p. ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation par commande du milieu actif, p. ex. par commande des procédés ou des appareils pour l'excitation
  • H01S 3/06 - Structure ou forme du milieu actif
  • H01S 3/08 - Structure ou forme des résonateurs optiques ou de leurs composants
  • H01S 3/081 - Structure ou forme des résonateurs optiques ou de leurs composants comprenant trois réflecteurs ou plus

2.

SELF-SIMILAR REGENERATIVE AMPLIFICATION METHOD AND APPARATUS FOR FEMTOSECOND LASER CHIRPED PULSES

      
Numéro d'application 18529332
Statut En instance
Date de dépôt 2023-12-05
Date de la première publication 2024-06-13
Propriétaire
  • Chongqing Huapu Information Technology Co.,Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Scientific Instrument Co.,Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Intelligent Equipment Co., Ltd. (Chine)
  • Yunnan Huapu quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • GuangDong ROI Optoelectronics Technology Co., Ltd. (Chine)
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Guo, Zhengru
  • Wang, Xiao
  • Qian, Xiaowei
  • Yao, Tianjun
  • Liu, Tingting
  • Hu, Mengyun

Abrégé

The present disclosure provides a self-similar regenerative amplification method and an apparatus. The apparatus includes a broadband seed source, a spectrum shaping broader, a self-similar regenerative amplifier and a pulse compressor disposed in order of a light path. The spectrum shaping broader includes a time domain broader and a spectrum shaper. The time domain broader is configured to broaden the seed pulses, and fine-tune a width of the seed pulse. The spectrum shaper is configured to perform spectrum shaping on the broadened pulses to obtain saddle chirped pulses. The pulse regenerative amplification component includes a gain crystal and a nonlinear crystal. The self-similar regenerative amplifier receives the saddle chirped pulses, performs multiple stepwise amplifications and multiple nonlinear spectrum broadenings back and forth on the saddle chirped pulses, and output high-energy chirped pulses to the pulse compressor.

Classes IPC  ?

  • H01S 3/00 - Lasers, c.-à-d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet
  • H01S 3/10 - Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p. ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation
  • H01S 3/16 - Matériaux solides

3.

METHOD OF ULTRAFAST-PULSED LASER DEPOSITION COUPLED WITH PLASMA LATTICE AND DEVICE THEREOF

      
Numéro d'application 18516189
Statut En instance
Date de dépôt 2023-11-21
Date de la première publication 2024-06-06
Propriétaire
  • Chongqing Huapu Information Technology Co.,Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Intelligent Equipment Co., Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Quantum Technology Co.,Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Scientific Instrument Co.,Ltd. (Chine)
  • Yunnan Huapu quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • GuangDong ROI Optoelectronics Technology Co., Ltd. (Chine)
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun
  • Qiao, Yu

Abrégé

The present disclosure provides a method of an ultrafast-pulsed laser deposition and a device thereof, wherein a single emitted femtosecond pulse is split, and the split pulses are synchronized in the time domain, and then coupled with each other to form a plasma grating or lattice to excite the target material once; then multiple pulsed lasers are sequentially coupled multiple times with the plasma gratings or lattices to excite the target material multiple times, and the excited target material is deposited and reacted on the substrate to form a thin film.

Classes IPC  ?

  • C23C 14/28 - Évaporation sous vide par énergie éléctromagnétique ou par rayonnement corpusculaire
  • C03C 17/22 - Traitement de surface du verre, p. ex. du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement par d'autres matières inorganiques
  • C23C 14/06 - Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement caractérisé par le matériau de revêtement

4.

PULSED LASER DEPOSITION METHOD

      
Numéro d'application 18516292
Statut En instance
Date de dépôt 2023-11-21
Date de la première publication 2024-05-30
Propriétaire
  • Chongqing Huapu Information Technology Co.,Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Quantum Technology Co.,Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu New Energy Co.,Ltd. (Chine)
  • Chongqing Menghe Biotechnology Co., Ltd. (Chine)
  • Yunnan Huapu quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • GuangDong ROI Optoelectronics Technology Co., Ltd. (Chine)
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun
  • Qiao, Yu

Abrégé

A pulsed laser deposition method is provided. The method includes emitting a plurality of groups of femtosecond pulses, focusing the plurality of groups of femtosecond pulses into a plurality of groups of femtosecond filaments by lenses, and cross-coupling the plurality of groups of femtosecond filaments to form n beams of plasma gratings; exciting a target material by using a first plasma grating; and adjusting angles of the lenses and time delay between a plurality of beams of femtosecond pulses; coupling and splicing a second plasma grating with the first plasma grating along a grating pattern of the first plasma grating, until a nth plasma grating is coupled and spliced with a (n−1)th plasma grating along a grating pattern of the (n−1)th plasma grating to form a plasma grating channel; and exciting the target material by using the plasma grating channel to complete deposition on a substrate.

Classes IPC  ?

  • C23C 14/28 - Évaporation sous vide par énergie éléctromagnétique ou par rayonnement corpusculaire
  • C23C 14/54 - Commande ou régulation du processus de revêtement

5.

Method for coating film by pulsed laser deposition with plasma grating

      
Numéro d'application 18353655
Numéro de brevet 12195841
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-07-17
Date de la première publication 2024-01-25
Date d'octroi 2025-01-14
Propriétaire
  • CHONGQING HUAPU SCIENTIFIC INSTRUMENT CO., LTD. (Chine)
  • ROI OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO, LTD. (Chine)
  • YUNNAN HUAPU QUANTUM MATERIAL CO., LTD (Chine)
  • CHONGQING HUAPU QUANTUM TECHNOLOGY CO., LTD. (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun
  • Qiao, Yu

Abrégé

A method for film coating by pulsed laser deposition with a plasma grating includes: in step 1, providing a substrate and a target material; in step 2, generating a femtosecond pulsed laser beam which is split by a beam splitting module so as to form a plurality of femtosecond pulsed laser sub-beams; in step 3, performing a first excitation on the target material by one of the split femtosecond pulsed laser sub-beams as a pre-pulse after focus, to generate a first plasma; in step 4, synchronizing the rest of the split femtosecond pulsed laser sub-beams as post-pulses to form, after focus, filaments arriving at a surface of the target material simultaneously, to generate the plasma grating; and in step 5, performing a secondary excitation on the target material by the generated plasma grating to generate a second plasma depositing on the substrate to form the film.

Classes IPC  ?

  • C23C 14/28 - Évaporation sous vide par énergie éléctromagnétique ou par rayonnement corpusculaire
  • C23C 14/54 - Commande ou régulation du processus de revêtement

6.

PROCESSING METHOD AND APPARATUS FOR ULTRAFAST LASER DEPOSITION OF MULTILAYER FILM INCLUDING DIAMOND-LIKE CARBON FILM, ANTI-REFLECTION FILM AND ANTI-FINGERPRINT FILM

      
Numéro d'application 18353684
Statut En instance
Date de dépôt 2023-07-17
Date de la première publication 2024-01-25
Propriétaire
  • Chongqing Huapu Scientific Instrument Co.,Ltd. (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • Yunnan Huapu quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • Chongqing Huapu Quantum Technology Co.,Ltd. (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun
  • Qiao, Yu

Abrégé

A processing method and apparatus for ultrafast laser deposition of a multilayer film including a diamond-like carbon film, an anti-reflection film and an anti-fingerprint film includes: generating primary plasma by first excitement on a target material with a femtosecond or picosecond pulsed laser beam as a pre-pulse; and generating secondary plasma by second excitement on the target material under plasma grating, formed by allowing two femtosecond pulsed laser beams to intersect at a small include angle for interaction in the primary plasma, for deposition to coat a film.

Classes IPC  ?

  • C23C 14/28 - Évaporation sous vide par énergie éléctromagnétique ou par rayonnement corpusculaire
  • C23C 14/06 - Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement caractérisé par le matériau de revêtement
  • C23C 14/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 14/54 - Commande ou régulation du processus de revêtement
  • C03C 17/42 - Traitement de surface du verre, p. ex. du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement avec au moins deux revêtements ayant des compositions différentes un revêtement au moins étant une substance organique et un revêtement au moins étant un non-métal

7.

PHOTOCATALYTIC MATERIAL, METHOD FOR PREPARING THE PHOTOCATALYTIC MATERIAL AND PHOTOCATALYTIC AIR SCREEN FILTER FOR EPIDEMIC PREVENTION

      
Numéro d'application 18314332
Statut En instance
Date de dépôt 2023-05-09
Date de la première publication 2023-11-16
Propriétaire
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • Yunnan Huapu quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • GuangDong ROI Optoelectronics Technology Co., Ltd. (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
  • Chongqing Huapu Intelligent Equipment Co., Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Quantum Technology Co.,Ltd. (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun

Abrégé

A photocatalytic material includes activated carbon, titanium dioxide, zinc oxide, graphene, tourmaline powders, a nano-copper solution, carvacrol and deionized water. The photocatalytic material is prepared by mixing the activated carbon, the titanium dioxide, the zinc oxide, the graphene, the tourmaline powders, the nano-copper solution, the carvacrol and the deionized water for a period ranging from 1 to 12 hours. A photocatalytic air screen filter for epidemic prevention includes a substrate and the photocatalytic material. The photocatalytic material is applied on a surface of the substrate, and the photocatalytic material is dried and cured. An amount of the material loaded on the surface of the substrate is in a range of 0.1 to 100 mg/cm2.

Classes IPC  ?

  • B01D 53/88 - Manipulation ou montage des catalyseurs
  • B01J 35/00 - Catalyseurs caractérisés par leur forme ou leurs propriétés physiques, en général
  • B01J 37/00 - Procédés de préparation des catalyseurs, en généralProcédés d'activation des catalyseurs, en général
  • B01J 21/18 - Carbone
  • A61L 9/22 - Ionisation
  • A01N 59/16 - Métaux lourdsLeurs composés
  • A01N 31/08 - Biocides, produits repoussant ou attirant les animaux nuisibles, ou régulateurs de croissance des végétaux, contenant des composés organiques de l'oxygène ou du soufre l'atome d'oxygène ou de soufre étant lié directement à un système cyclique aromatique
  • B01J 21/06 - Silicium, titane, zirconium ou hafniumLeurs oxydes ou hydroxydes
  • F24F 8/167 - Traitement, p. ex. purification, de l'air fourni aux locaux de résidence ou de travail des êtres humains autrement que par chauffage, refroidissement, humidification ou séchage par séparation, p. ex. par filtrage par des moyens chimiques utilisant des réactions catalytiques
  • B01D 53/86 - Procédés catalytiques
  • B01D 46/00 - Filtres ou procédés spécialement modifiés pour la séparation de particules dispersées dans des gaz ou des vapeurs

8.

NONLINEAR POLARIZATION FILTERING METHOD, DEVICE, AND APPLICATION APPARATUS

      
Numéro d'application 18182745
Statut En instance
Date de dépôt 2023-03-13
Date de la première publication 2023-09-21
Propriétaire
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • Yunnan Huapu quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • GuangDong ROI Optoelectronics Technology Co., Ltd. (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
  • Chongqing Huapu Intelligent Equipment Co., Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Quantum Technology Co., Ltd. (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Guo, Zhengru
  • Liu, Tingting

Abrégé

Provided are a nonlinear polarization filtering method, device, and apparatus. The device comprises a pump source, a coupler, a birefringent medium, and several polarizers; wherein the pump source is applied to output a pump laser, so as to make a photo-induced birefringence effect occur at the birefringent medium; the polarizer is applied to polarize a signal light according to a preset polarizing angle; and the coupler is applied to couple the pump laser and the signal light into the birefringent medium, wherein an angle except 0° exists between the birefringent medium and the preset polarizing angle of the polarizer.

Classes IPC  ?

  • G02B 27/28 - Systèmes ou appareils optiques non prévus dans aucun des groupes , pour polariser
  • H01S 3/10 - Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p. ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation
  • G02F 1/39 - Optique non linéaire pour la génération ou l'amplification paramétrique de la lumière, des infrarouges ou des ultraviolets

9.

FREQUENCY STABLIZING SYSTEM AND METHOD FOR SINGLE-CAVITY MULTI-FREQUENCY COMB

      
Numéro d'application 18181683
Statut En instance
Date de dépôt 2023-03-10
Date de la première publication 2023-09-14
Propriétaire
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • Yunnan Huapu quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • GuangDong ROI Optoelectronics Technology Co., Ltd. (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
  • Chongqing Huapu Intelligent Equipment Co., Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Quantum Technology Co., Ltd. (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Guo, Zhengru
  • Liu, Tingting

Abrégé

A frequency stabilizing system for high precision single-cavity multi-frequency comb includes a single-cavity multi-comb pulse oscillator, a frequency detection system, and a frequency feedback control system. The single-cavity multi-comb pulse oscillator is configured to output mode-locked pulse trains with a certain repetition rate difference at two or more central wavelengths. The frequency detection system is configured to detect the frequency signal, and output the corresponding electrical signal. The frequency feedback control system is configured to process the electrical signal from the frequency detection system, and transmit it to the frequency response component in the single-cavity multi-comb pulse oscillator to control a strain of the frequency response component, so as to realize feedback control on the frequency (repetition rate, repetition rate difference, and carrier envelope offset frequency) of the mode-locked pulse trains.

Classes IPC  ?

  • H01S 3/13 - Stabilisation de paramètres de sortie de laser, p. ex. fréquence ou amplitude
  • H01S 3/1112 - Blocage de modes passif
  • H01S 3/00 - Lasers, c.-à-d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet
  • H01S 3/137 - Stabilisation de paramètres de sortie de laser, p. ex. fréquence ou amplitude par commande de dispositifs placés dans la cavité pour la stabilisation de la fréquence
  • H01S 3/16 - Matériaux solides

10.

METHOD FOR PREPARING CORE-SHELL STRUCTURE PHOTOCATALYTIC MATERIAL BY PRECIPITATION AND SELF-ASSEMBLY PROCESS

      
Numéro d'application 18046185
Statut En instance
Date de dépôt 2022-10-13
Date de la première publication 2023-04-27
Propriétaire
  • Yunnan Huapu quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • Chongqing Huapu Quantum Technology Co.,Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Environmental Protection Technology Co., Ltd. (Chine)
  • Chongqing Menghe Biotechnology Co., Ltd. (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun

Abrégé

A method for preparing a core-shell structure photocatalytic material includes: obtaining a titanyl sulfate solution by mixing and reacting sulfuric acid and metatitanic acid; obtaining a mixed solution by adding a porous material having a hydrophilic surface into the titanyl sulfate solution; adding an alkali into the mixed solution to obtain a precipitation product by reacting the alkali with the titanyl sulfate coated on the surface of the porous material; and filtering, washing, drying and calcining the precipitation product to obtaining a core-shell structure photocatalytic material with the porous material as a core and a mesoporous quantum titanium oxide as a shell.

Classes IPC  ?

  • B01J 21/06 - Silicium, titane, zirconium ou hafniumLeurs oxydes ou hydroxydes
  • B01J 21/18 - Carbone
  • B01J 29/06 - Zéolites aluminosilicates cristallinesLeurs composés isomorphes
  • B01J 21/16 - Argiles ou autres silicates minéraux
  • B01J 35/00 - Catalyseurs caractérisés par leur forme ou leurs propriétés physiques, en général
  • B01J 35/10 - Catalyseurs caractérisés par leur forme ou leurs propriétés physiques, en général solides caractérisés par leurs propriétés de surface ou leur porosité
  • B01J 37/04 - Mélange
  • B01J 37/03 - PrécipitationCo-précipitation
  • B01J 37/02 - Imprégnation, revêtement ou précipitation
  • B01J 37/00 - Procédés de préparation des catalyseurs, en généralProcédés d'activation des catalyseurs, en général
  • B01J 37/06 - Lavage
  • B01J 37/08 - Traitement thermique

11.

HIGH-PRECISION REPETITION RATE LOCKING APPARATUS FOR ULTRA-FAST LASER PULSE

      
Numéro d'application 17936663
Statut En instance
Date de dépôt 2022-09-29
Date de la première publication 2023-04-13
Propriétaire
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
  • Yunnan Huapu quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • Chongqing Huapu Scientific Instrument Co.,Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Intelligent Equipment Co., Ltd. (Chine)
  • GuangDong ROI Optoelectronics Technology Co., Ltd. (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Huang, Kun
  • Yu, Tingting
  • Hu, Mengyun

Abrégé

A high-precision repetition rate locking apparatus for an ultra-fast laser pulse includes: an electronic controlling component comprising: a standard clock, configured to provide a high-precision frequency standard; a pulse generator (PG), configured to provide an electrical pulse signal with adjustable repetition rate, pulse width and voltage magnitude; and a signal generator (SG), connected to the standard clock and the PG, and configured to provide a stable frequency signal for the PG, a phase-shift adjusting component, connected to the electronic controlling component and configured to implement phase modulation through electrically induced refractive index change; a resonant cavity component, comprising a phase shifter, a doped fiber, a laser diode, a wavelength division multiplexer and a reflector, and configured to generate a mode-locked pulse; and a detection system, configured to measure a repetition rate of an output pulse.

Classes IPC  ?

  • H01S 3/11 - Blocage de modesCommutation-QAutres techniques d'impulsions géantes, p. ex. vidange de cavité
  • H01S 3/091 - Procédés ou appareils pour l'excitation, p. ex. pompage utilisant le pompage optique
  • H01S 3/13 - Stabilisation de paramètres de sortie de laser, p. ex. fréquence ou amplitude

12.

MID-INFRARED UPCONVERSION IMAGING METHOD AND DEVICE

      
Numéro d'application 17936070
Statut En instance
Date de dépôt 2022-09-28
Date de la première publication 2023-03-30
Propriétaire
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
  • Yunnan Huapu Quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • Chongqing Huapu New Energy Co.,Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Information Technology Co.,Ltd. (Chine)
  • Nanjing ROI Optoelectronics Technology Co.,Ltd. (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Wang, Yinqi
  • Huang, Kun
  • Hu, Mengyun

Abrégé

A mid-infrared upconversion imaging method and a mid-infrared upconversion imaging device are provided, which are used for imaging detection in a mid-infrared wavelength band, and related to a technical field of infrared imaging. The method includes directing pump laser and mid-infrared light into a chirped crystal component located in an optical cavity to obtain visible light; and imaging an object with the visible light.

Classes IPC  ?

  • H04N 5/33 - Transformation des rayonnements infrarouges
  • H04N 5/225 - Caméras de télévision

13.

Hyperspectral imaging method and apparatus

      
Numéro d'application 17936161
Numéro de brevet 11965827
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-09-28
Date de la première publication 2023-03-30
Date d'octroi 2024-04-23
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • YUNNAN HUAPU QUANTUM MATERIAL CO., LTD (Chine)
  • ROI OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO, LTD. (Chine)
  • CHONGQING HUAPU NEW ENERGY CO., LTD. (Chine)
  • CHONGQING HUAPU INFORMATION TECHNOLOGY CO., LTD. (Chine)
  • NANJING ROI OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Fang, Jianan
  • Huang, Kun
  • Hu, Mengyun

Abrégé

A hyperspectral imaging method includes: providing time-domain synchronous mid-infrared ultrashort pulse and near-infrared ultrashort pulse as pump light and signal light, respectively; subjecting the signal light to optical time-stretching to broaden a pulse width of the signal light; directing the time-stretched signal light to a target sample to be detected; directing the pump light to a time delayer to adjust the time when the pump light reaches a silicon-based camera; spatially combining the time-stretched signal light from the target sample with the pump light from the time delayer; directing combined light to a silicon-based camera where the signal light is detected through non-degenerate two-photon absorption of the signal light under the action of the pump light to acquire hyperspectral imaging data; and obtaining an image of the target sample based on the hyperspectral imaging data.

Classes IPC  ?

  • G01N 21/35 - CouleurPropriétés spectrales, c.-à-d. comparaison de l'effet du matériau sur la lumière pour plusieurs longueurs d'ondes ou plusieurs bandes de longueurs d'ondes différentes en recherchant l'effet relatif du matériau pour les longueurs d'ondes caractéristiques d'éléments ou de molécules spécifiques, p. ex. spectrométrie d'absorption atomique en utilisant la lumière infrarouge

14.

ELECTRICALLY TUNABLE NON-RECIPROCAL PHASE SHIFTER AND POLARIZATION FILTER

      
Numéro d'application 17936443
Statut En instance
Date de dépôt 2022-09-29
Date de la première publication 2023-03-30
Propriétaire
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
  • Chongqing Huapu New Energy Co.,Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Information Technology Co.,Ltd. (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • Yunnan Huapu Quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • Nanjing ROI Optoelectronics Technology Co.,Ltd. (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Liu, Tingting
  • Guo, Zhengru

Abrégé

An electrically tunable non-reciprocal phase shifter, an electrically tunable polarization filter, a NALM mode-locked laser and a Sagnac loop are provided. The electrically tunable non-reciprocal phase shifter includes a modulation crystal device, a birefringent crystal device, a Faraday rotator, and a fiber coupler. The phase shifter is configured to couple two beams of light to a fast axis and a slow axis of the modulation crystal device, respectively; and change a refractive index difference between the fast axis and the slow axis to introduce different phase delays for the two beams of the light, so as to control a non-reciprocal linear phase shift amount between the two beams of the light.

Classes IPC  ?

  • H01S 3/08 - Structure ou forme des résonateurs optiques ou de leurs composants
  • G02B 27/28 - Systèmes ou appareils optiques non prévus dans aucun des groupes , pour polariser
  • H01S 3/10 - Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p. ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation
  • G02F 1/21 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur par interférence

15.

MULTIPULSE-INDUCED SPECTROSCOPY METHOD AND DEVICE BASED ON FEMTOSECOND PLASMA GRATING

      
Numéro d'application 17936923
Statut En instance
Date de dépôt 2022-09-30
Date de la première publication 2023-03-30
Propriétaire
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
  • Yunnan Huapu Quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • Chongqing Huapu Scientific Instrument Co.,Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Intelligent Equipment Co., Ltd. (Chine)
  • GuangDong ROI Optoelectronics Technology Co., Ltd. (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun

Abrégé

A multipulse-induced spectroscopy method based on a femtosecond plasma grating includes: pre-exciting a sample on a stage by providing a femtosecond pulse to form the femtosecond plasma grating; providing a post-pulse on the sample at an angle to excite the sample to generate a plasma, wherein the post-pulse comprises one or more femtosecond pulses, there is a time interval between the femtosecond pulse and the post-pulse, and the time interval is less than a lifetime of the femtosecond plasma grating; and receiving and analyzing a fluorescence emitted from the plasma to determine element information of the sample.

Classes IPC  ?

  • G01N 21/71 - Systèmes dans lesquels le matériau analysé est excité de façon à ce qu'il émette de la lumière ou qu'il produise un changement de la longueur d'onde de la lumière incidente excité thermiquement
  • G01J 3/18 - Production du spectreMonochromateurs en utilisant des éléments diffractants, p. ex. réseaux
  • G02B 27/10 - Systèmes divisant ou combinant des faisceaux

16.

PROCESS AND DEVICE FOR PREPARING GRAPHENE QUANTUM MATERIAL

      
Numéro d'application 17936204
Statut En instance
Date de dépôt 2022-09-28
Date de la première publication 2023-03-30
Propriétaire
  • Yunnan Huapu quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • Chongqing Huapu Scientific Instrument Co.,Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Intelligent Equipment Co., Ltd. (Chine)
  • GuangDong ROI Optoelectronics Technology Co., Ltd. (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun
  • Yang, Chuan

Abrégé

A process for preparing a graphene quantum material includes: providing a carbon-containing precursor; decomposing the carbon-containing precursor with ultra-fast laser to obtain the graphene quantum material; optionally reducing graphene oxide into graphene with laser; and optionally subjecting the graphene quantum material to microwave heating.

Classes IPC  ?

17.

Detection method and device based on laser-induced breakdown spectroscopy enhanced by 2D plasma grating

      
Numéro d'application 17936477
Numéro de brevet 12123836
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-09-29
Date de la première publication 2023-03-30
Date d'octroi 2024-10-22
Propriétaire
  • Yunnan Huapu Quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • Chongqing Huapu Scientific Instrument Co., Ltd. (Chine)
  • Chongqing Huapu Intelligent Equipment Co., Ltd. (Chine)
  • GuangDong ROI Optoelectronics Technology Co., Ltd. (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun

Abrégé

A detection method based on laser-induced breakdown spectroscopy enhanced by a two-dimensional plasma grating includes: generating a femtosecond laser pulse by a femtosecond laser, and splitting the femtosecond laser pulse into three sub-pulses by a beam splitting unit; focusing the three sub-pulses separately by a focusing unit to allow focused sub-pulses to be overlapped at an intersection in space, wherein before reaching the intersection, the three sub-pulses form two planes; synchronizing the three sub-pulses in a time domain by adjusting optical paths of the three sub-pulses in such a way that they have the same optical length and the three sub-pulses arrive at the intersection in space simultaneously and form the two-dimensional plasma grating; and exciting a sample on a stage based on the two-dimensional plasma grating to generate a plasma cluster, and acquiring a spectrum of the sample.

Classes IPC  ?

  • G01N 21/71 - Systèmes dans lesquels le matériau analysé est excité de façon à ce qu'il émette de la lumière ou qu'il produise un changement de la longueur d'onde de la lumière incidente excité thermiquement
  • G01N 21/01 - Dispositions ou appareils pour faciliter la recherche optique
  • G01N 21/64 - FluorescencePhosphorescence

18.

ECOLOGICAL SYSTEM FOR DEEP WATER ENVIRONMENT RESTORATION AND CONSTRUCTION METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 17855991
Statut En instance
Date de dépôt 2022-07-01
Date de la première publication 2023-01-05
Propriétaire
  • Yunnan Huapu Quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun

Abrégé

An ecosystem for deep water environment restoration includes: a light-collecting device; an underwater lighting system connected to the light-collecting device and configured to provide light to a deep water layer of a water body; a photocatalytic bionic net comprising a photocatalytic material and a fiber and placed in the deep water layer; and an aquatic plant. When the photocatalytic material receives the light, the photocatalytic material is able to adsorb organic pollutants of the water body to the photocatalytic bionic net and catalyze degradation of the organic pollutants of the water body, concentrate microorganisms to allow the microorganisms to decompose the organic pollutants into nutrients required for growth of the aquatic plant, and absorb the light to catalyze decomposition of water to produce oxygen. When the aquatic plant receives the light, the aquatic plant is able to perform photosynthesis to release oxygen.

Classes IPC  ?

  • C02F 1/30 - Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout par irradiation
  • C02F 1/72 - Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout par oxydation

19.

ELECTRODE MATERIAL AND PREPARATION METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 17724569
Statut En instance
Date de dépôt 2022-04-20
Date de la première publication 2022-10-20
Propriétaire
  • Yunnan Huapu Quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun

Abrégé

The present disclosure provides an electrode material and a method for preparing the same. The electrode material includes 3 to 7 wt % of a graphene material, 4 to 8 wt % of a photocatalytic nano-material, 3 to 9 wt % of a binder system, and a balance of a glass fiber cloth, based on a total weight of the electrode material. The method includes providing a graphene-based precursor solution; The present disclosure provides an electrode material and a method for preparing the same. The electrode material includes 3 to 7 wt % of a graphene material, 4 to 8 wt % of a photocatalytic nano-material, 3 to 9 wt % of a binder system, and a balance of a glass fiber cloth, based on a total weight of the electrode material. The method includes providing a graphene-based precursor solution; agitating and dispersing a glass fiber cloth to obtain an uniform slurry; wet forming the slurry to obtain a glass fiber sheet, and cleaning and drying the glass fiber sheet; putting the glass fiber sheet into the graphene-based precursor solution for in-situ synthesis to obtain a glass fiber paper; and immersing the glass fiber paper with a binder system and drying the glass fiber paper to obtain the electrode material.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/583 - Matériau carboné, p. ex. composés au graphite d'intercalation ou CFx
  • H01M 4/36 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs
  • H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p. ex. liants, charges
  • H01M 4/80 - Plaques poreuses, p. ex. supports frittés
  • H01M 4/48 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques
  • H01M 4/04 - Procédés de fabrication en général

20.

FIBERGLASS FILTER ELEMENT CONTAINING ZINC OXIDE-BASED COMPOSITE NANOPARTICLES AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

      
Numéro d'application 17710397
Statut En instance
Date de dépôt 2022-03-31
Date de la première publication 2022-10-06
Propriétaire
  • Yunnan Huapu quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun
  • Feng, Guang

Abrégé

A fiberglass filter element includes: 6 to 12 wt % of zinc oxide-based composite photocatalytic nanoparticles; 3 to 9 wt % of an adhesive system; and 79 to 91 wt % of a superfine fiberglass cotton. The zinc oxide-based composite photocatalytic nanoparticles includes: a rod-like or flower-like zinc oxide photocatalytic nanoparticle (A); a photocatalytic nanoparticle (B), which is one or more selected from graphene, graphene oxide, reduced graphene oxide and graphene quantum dots; a photocatalytic nanoparticle (C), which is one or more selected from a silver nanoparticle and a silver nanowire; and a photocatalytic nanoparticle (D), which is one or more selected from titanium oxide, tin oxide and tungsten oxide.

Classes IPC  ?

  • C03C 3/093 - Compositions pour la fabrication du verre contenant de la silice avec 40 à 90% en poids de silice contenant du bore contenant de l'aluminium contenant du zinc ou du zirconium
  • C03C 13/04 - Fibres optiques, p. ex. compositions pour le cœur et la gaine de fibres
  • A61L 9/20 - Désinfection, stérilisation ou désodorisation de l'air utilisant des phénomènes physiques des radiations des ultraviolets
  • B01D 39/20 - Autres substances filtrantes autoportantes en substance inorganique, p. ex. papier d'amiante ou substance filtrante métallique faite de fils métalliques non-tissés

21.

Method for preparing graphene material from industrial hemp by laser induction

      
Numéro d'application 17702386
Numéro de brevet 11760638
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-03-23
Date de la première publication 2022-09-29
Date d'octroi 2023-09-19
Propriétaire
  • YUNNAN HUAPU QUANTUM MATERIAL CO., LTD (Chine)
  • ROI OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO, LTD. (Chine)
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Yang, Chuan
  • Hu, Mengyun

Abrégé

Provided is a method for preparing a graphene material from an industrial hemp material by laser induction, which uses a skin, a stem and/or a root of industrial hemp as a carbon precursor-containing material and reduce the carbon precursor-containing material into graphene by laser induction, so as to prepare graphene, graphene quantum dots, a graphene mesoporous material and a graphene composite material.

Classes IPC  ?

  • C01B 32/184 - Préparation
  • B01J 19/12 - Procédés utilisant l'application directe de l'énergie ondulatoire ou électrique, ou un rayonnement particulaireAppareils à cet usage utilisant des radiations électromagnétiques

22.

METHOD FOR PREPARING BORON CARBIDE MATERIAL

      
Numéro d'application 17702969
Statut En instance
Date de dépôt 2022-03-24
Date de la première publication 2022-09-29
Propriétaire
  • Yunnan Huapu quantum Material Co., Ltd (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun
  • Qiao, Wei

Abrégé

A method for preparing a boron carbide material includes: providing raw materials of a boron material, a carbon material and a rare earth oxide, wherein an element molar ratio B:C of the boron material to the carbon material is in a range of 4:1 to 4:7, and the rare earth oxide is in an amount of 5 wt % or less based on a total weight of the raw materials, mixing and milling the raw materials to obtain a mixture, compressing the mixture into a tablet form by a tablet press, and sintering the compressed mixture by a laser, wherein the laser has a laser wavelength of 980 nm, a laser power in a range of 100 to 3000 W, and a laser irradiation time of 3 to 60 s.

Classes IPC  ?

  • C04B 35/563 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur compositionCompositions céramiquesTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base de non oxydes à base de carbures à base de carbure de bore
  • C04B 35/626 - Préparation ou traitement des poudres individuellement ou par fournées
  • C04B 35/634 - Polymères
  • C04B 35/638 - Leur élimination

23.

METHOD FOR PREPARING INFRARED RADIATION CERAMIC MATERIAL

      
Numéro d'application 17703052
Statut En instance
Date de dépôt 2022-03-24
Date de la première publication 2022-09-29
Propriétaire
  • Yunnan Huapu quantum Material Co., Ltd. (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun
  • Shi, Shencheng

Abrégé

A method for preparing an infrared radiation ceramic material includes mixing and ball milling raw materials of Fe2O3, MnO2 and CuO in a mass ratio to obtain a mixed powder; pressing the mixed powder; adjusting laser spot, laser power and laser sintering time of a laser; irradiating or sintering by a first laser the pressed mixed powder in a crucible for a high-temperature solid-phase reaction to obtain an AB2O4 type ferrite powder; obtaining a first mixture by mixing the AB2O4 type ferrite powder and a cordierite powder in a mass ratio; adding a sintering aid and a nucleating agent for ball milling; obtaining a second mixture by mixing the first mixture and a binder for aging; pressing the second mixture; and irradiating or sintering the pressed second mixture by a second laser to obtain the infrared radiation ceramic material.

Classes IPC  ?

  • C04B 35/26 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur compositionCompositions céramiquesTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base d'oxydes à base de ferrites
  • C04B 41/00 - Post-traitement des mortiers, du béton, de la pierre artificielle ou des céramiquesTraitement de la pierre naturelle
  • C04B 35/645 - Frittage sous pression

24.

Non-contact spatial super-resolution coherent Raman spectrometric imaging method

      
Numéro d'application 17528271
Numéro de brevet 11579091
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-11-17
Date de la première publication 2022-05-19
Date d'octroi 2023-02-14
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • ROI OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO, LTD. (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Lv, Tianjian
  • Yan, Ming

Abrégé

A Raman spectrometric imaging method, including: placing a sample on a two-dimensional translation stage; emitting a first light beam by a first optical comb light source; dividing the first light beam into a pump light beam and a depletion light beam to illuminate the sample; guiding the pump light beam to illuminate a region of the sample to excite molecules of the sample in the region; guiding the depletion light beam to the region of the sample to make excited molecules at a periphery of the region to return into a vibrational ground state; emitting a second light beam as a probe light beam by a second optical comb light source to the remaining excited molecules to generate a CARS signal; recording the CARS signal for imaging; moving the two-dimensional translation stage to scan other regions of the sample to form an image of the sample.

Classes IPC  ?

25.

Driving and stabilization system for pump laser

      
Numéro d'application 17528315
Numéro de brevet 12088057
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-11-17
Date de la première publication 2022-05-19
Date d'octroi 2024-09-10
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • ROI OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO, LTD. (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Wang, Xiao
  • Li, Shuang
  • Hu, Mengyun

Abrégé

A driving and stabilization system for a pump laser, and a pump laser system. The driving and stabilization system includes a constant current stabilization device, a constant temperature stabilization device, a power detection device, an environment detection device, and a control device. The constant current stabilization device includes a voltage comparison circuit, a constant current driving circuit, and a switch protection circuit. The constant temperature stabilization device includes an internal constant temperature stabilization circuit and an external constant temperature stabilization circuit.

Classes IPC  ?

  • H01S 3/13 - Stabilisation de paramètres de sortie de laser, p. ex. fréquence ou amplitude
  • H01S 3/00 - Lasers, c.-à-d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet
  • H01S 3/0941 - Procédés ou appareils pour l'excitation, p. ex. pompage utilisant le pompage optique par de la lumière cohérente produite par un laser à semi-conducteur, p. ex. par une diode laser
  • H01S 5/024 - Dispositions pour la gestion thermique
  • H01S 5/068 - Stabilisation des paramètres de sortie du laser
  • H01S 5/0683 - Stabilisation des paramètres de sortie du laser en surveillant les paramètres optiques de sortie

26.

Device for fabricating quartz microfluidic chip by femtosecond pulse cluster

      
Numéro d'application 17528710
Numéro de brevet 11964340
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-11-17
Date de la première publication 2022-05-19
Date d'octroi 2024-04-23
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • ROI OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO, LTD. (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Nan, Junyi
  • Hu, Mengyun

Abrégé

A device for fabricating a quartz microfluidic chip by a femtosecond pulse cluster. The device includes: a femtosecond pulse cluster laser source configured to output a femtosecond pulse cluster; a beam splitting and interference system, configured to split the femtosecond pulse cluster into a plurality of parts, and to converge split parts to form a femtosecond pulse cluster plasma or a femtosecond pulse cluster plasma grating; a sample system configured to move the electronic displacement platform where a quartz glass is placed to control a position where the parts of the femtosecond pulse cluster are converged on the quartz glass; and a hydrofluoric acid immersion system configured to immerse the quartz glass in a diluent hydrofluoric acid solution to remove an ablated part of the quartz glass to form the quartz microfluidic chip.

Classes IPC  ?

  • B23K 26/0622 - Mise en forme du faisceau laser, p. ex. à l’aide de masques ou de foyers multiples par commande directe du faisceau laser par impulsions de mise en forme
  • B23K 26/06 - Mise en forme du faisceau laser, p. ex. à l’aide de masques ou de foyers multiples
  • B23K 26/067 - Division du faisceau en faisceaux multiples, p. ex. foyers multiples
  • B23K 26/324 - Assemblage tenant compte des propriétés du matériau concerné faisant intervenir des parties non métalliques
  • B23K 26/362 - Gravure au laser
  • B23K 26/40 - Enlèvement de matière en tenant compte des propriétés du matériau à enlever
  • B23K 26/50 - Travail par transmission du faisceau laser à travers ou dans la pièce à travailler
  • B23K 26/55 - Travail par transmission du faisceau laser à travers ou dans la pièce à travailler pour créer des vides dans la pièce à travailler, p. ex. pour former des passages ou des configurations de flux
  • B23K 26/57 - Travail par transmission du faisceau laser à travers ou dans la pièce à travailler le faisceau laser entrant dans une face de la pièce à travailler d’où il est transmis à travers le matériau de la pièce à travailler pour opérer sur une face différente de la pièce à travailler, p. ex. pour effectuer un enlèvement de matière, pour raccorder par fusion, pour modifier ou pour reformer le matériau
  • B23K 101/40 - Dispositifs semi-conducteurs
  • B23K 103/00 - Matières à braser, souder ou découper

27.

METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING CONDUCTIVE GLASS FIBER MESH WITH LASER INDUCED COATING GRAPHENE

      
Numéro d'application 17528806
Statut En instance
Date de dépôt 2021-11-17
Date de la première publication 2022-05-19
Propriétaire
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Yang, Chuan
  • Hu, Mengyun

Abrégé

A method for producing a conductive glass fiber mesh with laser induced coating graphene comprises: (I) preparing a glass fiber paper coated with a carbon-containing precursor material; (II) subjecting the glass fiber paper coated with the carbon-containing precursor material to laser irradiation to reduce the carbon-containing precursor material into the laser induced coating graphene, obtaining a glass fiber paper coated with the laser induced coating graphene; and (III) folding the glass fiber paper coated with the laser induced coating graphene to obtain the conductive glass fiber mesh with laser induced coating graphene.

Classes IPC  ?

  • C03C 25/12 - Procédés généraux de revêtementDispositifs à cet effet
  • C03C 25/44 - Carbone, p. ex. graphite
  • H01B 1/06 - Conducteurs ou corps conducteurs caractérisés par les matériaux conducteurs utilisésEmploi de matériaux spécifiés comme conducteurs composés principalement d'autres substances non métalliques

28.

Method for manufacturing large-area volume grating via plasma grating direct writing

      
Numéro d'application 17528468
Numéro de brevet 12202073
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-11-17
Date de la première publication 2022-05-19
Date d'octroi 2025-01-21
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • ROI OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO, LTD. (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Nan, Junyi
  • Hu, Mengyun

Abrégé

A method for manufacturing a large-area volume grating includes: (1) splitting a laser beam into two or more laser beams, converging the two or more laser beams into a sample at an angle less than 60° to form a first plasma grating; (2) moving the sample in a longitudinal direction of a plane vertical to the first plasma grating to etch out a first prefabricated volume grating; (3) moving the sample laterally to form a second plasma grating, an effective cross section of the first prefabricated volume grating partially overlapping with that of the second plasma grating, then moving the sample in a longitudinal direction of a plane vertical to the second plasma grating to etch out a second prefabricated volume; and (4) repeating steps (2) and (3) n times to obtain a volume grating in any size.

Classes IPC  ?

  • C03C 23/00 - Autres traitements de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments
  • B23K 26/06 - Mise en forme du faisceau laser, p. ex. à l’aide de masques ou de foyers multiples
  • B23K 26/0622 - Mise en forme du faisceau laser, p. ex. à l’aide de masques ou de foyers multiples par commande directe du faisceau laser par impulsions de mise en forme
  • B23K 26/067 - Division du faisceau en faisceaux multiples, p. ex. foyers multiples
  • B23K 26/08 - Dispositifs comportant un mouvement relatif entre le faisceau laser et la pièce
  • B23K 26/14 - Travail par rayon laser, p. ex. soudage, découpage ou perçage en utilisant un écoulement de fluide, p. ex. un jet de gaz, associé au faisceau laserBuses à cet effet
  • B23K 26/362 - Gravure au laser
  • G02B 5/18 - Grilles de diffraction
  • B23K 103/00 - Matières à braser, souder ou découper

29.

METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING CHIP BASED ON DEEP LEARNING

      
Numéro d'application 17528569
Statut En instance
Date de dépôt 2021-11-17
Date de la première publication 2022-05-19
Propriétaire
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun
  • Yang, Chuan
  • Yuan, Shuai

Abrégé

A method for processing a chip based on deep learning and an apparatus for processing a chip based on deep learning are provided. The method includes scanning the chip with femtosecond laser in a predetermined polarization state to produce a main scanning trajectory and periodic nano-stripes on both sides of the main scanning trajectory, so as to form a nano-ridge structure on a surface of the chip; obtaining a super-resolution microscopic image of the nano-ridge structure by super-resolution microscopy; obtaining a target image; reconstructing the target image based on deep learning for image super-resolution to obtain the reconstructed image, and recognizing and processing the reconstructed image to obtain characteristic parameters of the nano-ridge structure as input parameters for deep learning for femtosecond laser processing; adjusting processing parameters of the chip according to the output values of the deep learning model for femtosecond laser processing; and outputting the optimized nano-ridge structure.

Classes IPC  ?

  • B23K 26/364 - Gravure au laser pour faire une rainure ou une saignée, p. ex. pour tracer une rainure d'amorce de rupture
  • G06T 3/40 - Changement d'échelle d’images complètes ou de parties d’image, p. ex. agrandissement ou rétrécissement
  • G06T 7/00 - Analyse d'image
  • B23K 26/03 - Observation, p. ex. surveillance de la pièce à travailler
  • B23K 26/402 - Enlèvement de matière en tenant compte des propriétés du matériau à enlever en faisant intervenir des matériaux non métalliques, p. ex. des isolants
  • B23K 26/082 - Systèmes de balayage, c.-à-d. des dispositifs comportant un mouvement relatif entre le faisceau laser et la tête du laser
  • B23K 26/0622 - Mise en forme du faisceau laser, p. ex. à l’aide de masques ou de foyers multiples par commande directe du faisceau laser par impulsions de mise en forme
  • G06N 20/00 - Apprentissage automatique

30.

ULTRA-HIGH SPEED TIME-FREQUENCY FOURIER LASER VELOCIMETRY METHOD AND SYSTEM

      
Numéro d'application 17528930
Statut En instance
Date de dépôt 2021-11-17
Date de la première publication 2022-05-19
Propriétaire
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • ROI Optoelectronics Technology CO, LTD. (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
  • XI'AN INSTITUTE OF SPACE RADIO TECHNOLOGY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Wang, Xiaoyue
  • Yan, Ming
  • Hu, Mengyun
  • Ge, Jinman
  • Li, Xiaojun

Abrégé

A laser velocimetry method and system are provided. In the method, an ultrashort pulse laser is subjected to temporal broadening, beam splitting and spectrum broadening in sequence to from a three-dimensional measurement space. When an object moves in the measurement space, a first signal light s_1, a second signal light s_2, a third signal light s_3 are generated, based on which velocity components vy, vx, and vx of the target object can be obtained, respectively, so as to obtain the velocity of the object in accordance with a formula of v=vx·i+vy·j+vz·k.

Classes IPC  ?

  • G01S 17/58 - Systèmes de détermination de la vitesse ou de la trajectoireSystèmes de détermination du sens d'un mouvement
  • G01S 7/481 - Caractéristiques de structure, p. ex. agencements d'éléments optiques

31.

Glass fiber filter element for visible light photocatalysis and air purification and preparation method thereof

      
Numéro d'application 17529014
Numéro de brevet 11944957
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-11-17
Date de la première publication 2022-05-19
Date d'octroi 2024-04-02
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • ROI OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO, LTD. (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Hu, Mengyun
  • Feng, Guang

Abrégé

A glass fiber filter element for visible light photocatalysis and air purification and a method for preparing the same. The glass fiber filter element includes 4 to 7 wt % of nanoparticles including at least one selected from zinc oxide, graphene oxide, titanium oxide, and reduced graphene oxide, 2 to 7 wt % of silver nanowires, 3 to 12 wt % of an adhesive system, and 78 to 91 wt % of a glass fiber mat, based on the total weight of the glass fiber filter element. The glass fiber mat is made of at least two glass fibers with different diameters, and the diameters are in a range of 0.15 to 3.5 μm. The nanoparticles have a particle size from 1 to 200 nm, and the silver nanowires have a diameter of 15 to 50 nm.

Classes IPC  ?

  • B01J 23/50 - Argent
  • A61L 9/18 - Désinfection, stérilisation ou désodorisation de l'air utilisant des phénomènes physiques des radiations
  • B01D 39/20 - Autres substances filtrantes autoportantes en substance inorganique, p. ex. papier d'amiante ou substance filtrante métallique faite de fils métalliques non-tissés
  • B01D 46/00 - Filtres ou procédés spécialement modifiés pour la séparation de particules dispersées dans des gaz ou des vapeurs
  • B01D 53/88 - Manipulation ou montage des catalyseurs
  • B01J 21/18 - Carbone
  • B01J 23/04 - Métaux alcalins
  • B01J 23/06 - Catalyseurs contenant des métaux, oxydes ou hydroxydes métalliques non prévus dans le groupe du zinc, du cadmium ou du mercure
  • B01J 35/23 - Catalyseurs caractérisés par leur forme ou leurs propriétés physiques, en général caractérisés par leur état non solide sous forme colloïdale
  • B01J 35/39 - Propriétés photocatalytiques
  • B01J 35/58 - Tissus ou filaments
  • B01J 37/02 - Imprégnation, revêtement ou précipitation
  • B01J 37/10 - Traitement thermique en présence d'eau, p. ex. de vapeur d'eau
  • C03C 25/1095 - Revêtement pour obtenir des tissus enduits
  • C03C 25/16 - Immersion
  • C03C 25/46 - Métaux
  • C03C 25/47 - Revêtements contenant des matériaux composites contenant des particules, des fibres ou des flocons, p. ex. dans une phase continue

32.

Method and apparatus for manufacturing microfluidic chip with femtosecond plasma grating

      
Numéro d'application 17230237
Numéro de brevet 11370657
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-04-14
Date de la première publication 2021-10-21
Date d'octroi 2022-06-28
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • ROI OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO, LTD. (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Nan, Junyi
  • Hu, Mengyun
  • Yan, Ming

Abrégé

The present disclosure discloses a method and apparatus for manufacturing a microfluidic chip with a femtosecond plasma grating. The method is characterized in that two or more beams of femtosecond pulse laser act on quartz glass together at a certain included angle and converge in the quartz glass, and when pulses achieve synchronization in time domain, the two optical pulses interfere; Benefited by constraint of an interference field, only one optical filament is formed in one interference period; and numbers of optical filaments are arranged equidistantly in space to form the plasma grating. The apparatus for manufacturing the microfluidic chip includes a plasma grating optical path, a microchannel processing platform, and a hydrofluoric acid ultrasonic cell.

Classes IPC  ?

  • B81C 1/00 - Fabrication ou traitement de dispositifs ou de systèmes dans ou sur un substrat
  • B23K 26/55 - Travail par transmission du faisceau laser à travers ou dans la pièce à travailler pour créer des vides dans la pièce à travailler, p. ex. pour former des passages ou des configurations de flux
  • G01J 3/26 - Production du spectreMonochromateurs en utilisant une réflexion multiple, p. ex. interféromètre de Fabry-Perot, filtre à interférences variables
  • G02B 26/00 - Dispositifs ou dispositions optiques pour la commande de la lumière utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables

33.

Method and apparatus for preparing femtosecond optical filament interference direct writing volume grating/chirped volume grating

      
Numéro d'application 17230428
Numéro de brevet 11899229
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-04-14
Date de la première publication 2021-10-21
Date d'octroi 2024-02-13
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • ROI OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO, LTD. (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Nan, Junyi
  • Hu, Mengyun
  • Yan, Ming

Abrégé

The present disclosure discloses a method and apparatus for preparing a femtosecond optical filament interference direct writing volume grating/chirped volume grating. The method is characterized in that optical filaments are formed in glass by using femtosecond pulse laser, and plasma is controlled to quickly scan in the glass and etch a volume grating or chirped volume grating structure by adjusting the focal length of convex lens, laser energy and movement of motor machine. The apparatus includes a femtosecond pulse laser module, a pulse chirp management module, a pulse time domain shaping module, a laser separation and interference module, a glass volume grating processing platform module and a camera online imaging module.

Classes IPC  ?

  • G02B 5/18 - Grilles de diffraction
  • G03H 1/04 - Procédés ou appareils pour produire des hologrammes
  • G03H 1/02 - Procédés ou appareils holographiques utilisant la lumière, les infrarouges ou les ultraviolets pour obtenir des hologrammes ou pour en obtenir une imageLeurs détails spécifiques Détails

34.

Device and method for direct printing of microfluidic chip based on large-format array femtosecond laser

      
Numéro d'application 17336222
Numéro de brevet 12017213
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-06-01
Date de la première publication 2021-09-30
Date d'octroi 2024-06-25
Propriétaire
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • SHANGHAI LANGYAN OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Yang, Chuan
  • Hu, Mengyun
  • Yuan, Shuai

Abrégé

A device and a method for direct printing of a microfluidic chip based on a large-format array femtosecond laser. The large-format array femtosecond laser with multi-parameter adjustable laser beam state is used to achieve large-format laser interference. The interference state, interference combination and exposure mode of the large-format array femtosecond laser are regulated, and multiple exposures are superimposed to output the desired pattern for the microfluidic chip, enabling the direct printing processing of the microfluidic chip.

Classes IPC  ?

  • B01L 3/00 - Récipients ou ustensiles pour laboratoires, p. ex. verrerie de laboratoireCompte-gouttes
  • B23K 26/03 - Observation, p. ex. surveillance de la pièce à travailler
  • B23K 26/06 - Mise en forme du faisceau laser, p. ex. à l’aide de masques ou de foyers multiples
  • B81C 1/00 - Fabrication ou traitement de dispositifs ou de systèmes dans ou sur un substrat
  • G06F 30/3308 - Vérification de la conception, p. ex. simulation fonctionnelle ou vérification du modèle par simulation

35.

Silicon nitride phased array chip based on a suspended waveguide structure

      
Numéro d'application 17337969
Numéro de brevet 11598917
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-06-03
Date de la première publication 2021-09-23
Date d'octroi 2023-03-07
Propriétaire
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • SHANGHAI LANGYAN OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Feng, Jijun
  • Hu, Mengyun
  • Li, Xiaojun
  • Tan, Qinggui
  • Ge, Jinman

Abrégé

A silicon nitride phased array chip based on a suspended waveguide structure, which includes a silicon nitride waveguide area and a suspended waveguide area. The silicon nitride waveguide area includes a silicon substrate, a silicon dioxide buffer layer, a silicon dioxide cladding layer and a silicon nitride waveguide-based core layer. The silicon nitride waveguide-based core layer includes an optical splitter unit, a first curved waveguide, a thermo-optic phase shifter and a spot-size converter. The suspended waveguide area includes a second curved waveguide and an array grating antenna.

Classes IPC  ?

  • G02B 6/12 - Guides de lumièreDétails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p. ex. des moyens de couplage du type guide d'ondes optiques du genre à circuit intégré
  • G02B 6/122 - Éléments optiques de base, p. ex. voies de guidage de la lumière
  • G02F 1/01 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur

36.

Device and method for processing micro-channel on microfluidic chip using multi-focus ultrafast laser

      
Numéro d'application 17329251
Numéro de brevet 12090576
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-05-25
Date de la première publication 2021-09-16
Date d'octroi 2024-09-17
Propriétaire
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • SHANGHAI LANGYAN OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Yang, Chuan
  • Hu, Mengyun
  • Yuan, Shuai

Abrégé

A method for processing a micro-channel of a micro-fluidic chip using multi-focus ultrafast laser, in which an array-type multi-focus femtosecond laser is used to perform fractional ablation on the micro-fluidic chip, and then pulse laser is used to perform secondary ablation on the micro-fluidic chip. Ultrasonic-assisted hydrofluoric acid etching is performed on the micro-fluidic chip after ablation to obtain a true three-dimensional micro-channel on the micro-fluidic chip. A device for processing a micro-channel of a micro-fluidic chip using multi-focus ultrafast laser is also provided.

Classes IPC  ?

  • B23K 26/55 - Travail par transmission du faisceau laser à travers ou dans la pièce à travailler pour créer des vides dans la pièce à travailler, p. ex. pour former des passages ou des configurations de flux
  • B01L 3/00 - Récipients ou ustensiles pour laboratoires, p. ex. verrerie de laboratoireCompte-gouttes
  • B23K 26/067 - Division du faisceau en faisceaux multiples, p. ex. foyers multiples
  • B23K 26/361 - Enlèvement de matière pour l'ébarbage ou l'ébavurage mécanique
  • B23K 26/70 - Opérations ou équipement auxiliaires

37.

Method and system for automatically controlling mode-locking of a optical frequency comb

      
Numéro d'application 17169491
Numéro de brevet 12149042
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-02-07
Date de la première publication 2021-08-26
Date d'octroi 2024-11-19
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • SHANGHAI LANGYAN OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Li, Shuang
  • Shen, Xuling

Abrégé

A method and a system for automatically controlling mode-locking of an optical frequency comb, where the stored control parameters of the working condition in the mode-locked state is combined with the collected working feedback parameters of the optical frequency comb system to dynamically adjust and control the working power of the pump source or/and the temperature of the working environment of the pump source, which not only greatly shortens the control time for stable mode-locking and realizes a fast mode-locking control, but also reduces unnecessary power consumption, thereby further guaranteeing the energy-saving effect of power adjustment control process. The present disclosure well maintains the stable working conditions of the optical comb system, and realizes the mode-locking optimization control of an update mode for the big data, thereby effectively improving the mode-locking control process of the optical frequency comb system, and providing higher operation stability and measurement accuracy.

Classes IPC  ?

  • H01S 3/13 - Stabilisation de paramètres de sortie de laser, p. ex. fréquence ou amplitude
  • H01S 3/1106 - Blocage de modes
  • H01S 3/1109 - Blocage de modes actif
  • H01S 3/131 - Stabilisation de paramètres de sortie de laser, p. ex. fréquence ou amplitude par commande du milieu actif, p. ex. par commande des procédés ou des appareils pour l'excitation
  • H01S 3/10 - Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p. ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation

38.

Method and system for controlling optical frequency comb

      
Numéro d'application 17169492
Numéro de brevet 11294256
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-02-07
Date de la première publication 2021-08-26
Date d'octroi 2022-04-05
Propriétaire
  • Chongqing Institute of East China Normal University (Chine)
  • SHANGHAI LANGYAN OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. (Chine)
  • East China Normal University (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Li, Shuang
  • Shen, Xuling

Abrégé

A method and a system for controlling an optical frequency comb, where the working power of the pump source is dynamically adjusted and controlled, which not only greatly shortens a control time of a stable mode-locking and realizes a fast mode-locking control, but also quickly stabilizes the power control of stable working condition, thereby reducing unnecessary power consumption caused by power reciprocating oscillation tracking controls and better achieving the energy-saving effect of the power adjustment control process. The temperature of the working environment of the pump source is dynamically adjusted and controlled, so that the environment temperature can quickly reach the reference environment temperature required for mode-locking, which not only creates a good temperature condition for the mode-locking of the optical comb system, but also improves the efficiency of environment temperature stability control in the stable working conditions.

Classes IPC  ?

  • G02F 1/35 - Optique non linéaire
  • H01S 3/13 - Stabilisation de paramètres de sortie de laser, p. ex. fréquence ou amplitude
  • H01S 3/131 - Stabilisation de paramètres de sortie de laser, p. ex. fréquence ou amplitude par commande du milieu actif, p. ex. par commande des procédés ou des appareils pour l'excitation

39.

System for measuring gas temperature and component concentrations in combustion field based on optical comb

      
Numéro d'application 17177672
Numéro de brevet 11644415
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-02-17
Date de la première publication 2021-08-19
Date d'octroi 2023-05-09
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • ROI OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO, LTD. (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • UNIVERSITY OF SHANGHAI FOR SCIENCE AND TECHNOLOGY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Yang, Kangwen
  • Li, Hai

Abrégé

Provided is a system for measuring gas temperature and component concentrations in a combustion field based on optical comb. The system includes two pulse laser devices, two continuous laser devices, a beam splitting device, a measurement path, an interference signal detecting device, an optical processing and electrical processing device and a signal acquisition and analysis device. The measurement path refers to the combustion field to be measured. The interference signal detecting device outputs an interference signal. The optical processing and electrical processing device includes several optic elements and electrical elements, and outputs an adaptive compensation signal and an asynchronous sampling clock signal after a series of processing on output of the two pulse laser devices and two continuous laser devices. The signal acquisition and analysis device outputs the measurement result based on the adaptive compensation signal, the asynchronous sampling clock signal and a stable interference signal.

Classes IPC  ?

  • G01N 21/31 - CouleurPropriétés spectrales, c.-à-d. comparaison de l'effet du matériau sur la lumière pour plusieurs longueurs d'ondes ou plusieurs bandes de longueurs d'ondes différentes en recherchant l'effet relatif du matériau pour les longueurs d'ondes caractéristiques d'éléments ou de molécules spécifiques, p. ex. spectrométrie d'absorption atomique
  • G01J 5/58 - Pyrométrie des radiations, p. ex. thermométrie infrarouge ou optique en utilisant l’absorptionPyrométrie des radiations, p. ex. thermométrie infrarouge ou optique en utilisant un effet d’extinction
  • G01N 33/00 - Recherche ou analyse des matériaux par des méthodes spécifiques non couvertes par les groupes

40.

Laser gain optical fiber heat-dissipating device

      
Numéro d'application 17144327
Numéro de brevet 11621534
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-01-08
Date de la première publication 2021-07-15
Date d'octroi 2023-04-04
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • ROI OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO, LTD. (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Zhang, Qingshan
  • Hu, Mengyun
  • Xu, Shuai

Abrégé

The present disclosure relates to a gain optical fiber heat-dissipating device for high power ultra-fast laser, including a gain optical fiber and a heat-dissipating structure. The heat-dissipating structure includes a metal tube, a flexible heat-conducting layer and a water-cooling structure. The gain optical fiber is passed through the metal tube, and the flexible heat-conducting layer is provided between the metal tube and the gain optical fiber. The water-cooling structure is provided on the metal tube to reduce temperature of the gain optical fiber. The gain optical fiber heat-dissipating device according to the present disclosure can dissipate the heat through a water-cooling mode, and realize rapid heat dissipation, thus improving heat-dissipating efficiency.

Classes IPC  ?

  • H01S 3/04 - Dispositions pour la gestion thermique
  • H01S 3/067 - Lasers à fibre optique
  • H01S 3/042 - Dispositions pour la gestion thermique pour des lasers à l'état solide

41.

Time and frequency method and system for optical comb

      
Numéro d'application 17113041
Numéro de brevet 11664635
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-12-05
Date de la première publication 2021-06-10
Date d'octroi 2023-05-30
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • ROI OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO, LTD. (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Wu, Xiuqi
  • Li, Shuang
  • Shen, Xuling

Abrégé

Provided are a time and frequency control method and system for optical comb. The method includes: controlling an optical comb measuring system to start and to generate an optical comb; obtaining monitoring data, wherein the monitoring data comprises a working temperature, a mode-locked frequency and a light pump power, wherein the mode-locked frequency comprises a repetition frequency and a carrier envelope phase locked at the end of starting the optical comb measuring system; determining whether an offset of the mode-locked frequency exceeds a self-feedback adjustment range of a hardware adjustment circuit; and in response to any of the repetition frequency and the carrier envelope phase exceeds the self-feedback adjustment range, adjusting the working temperature and the light pump power until the mode-locked frequency returns back into the self-feedback adjustment range.

Classes IPC  ?

  • H01S 3/13 - Stabilisation de paramètres de sortie de laser, p. ex. fréquence ou amplitude
  • H01S 3/00 - Lasers, c.-à-d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet
  • H01S 3/1106 - Blocage de modes
  • H01S 3/131 - Stabilisation de paramètres de sortie de laser, p. ex. fréquence ou amplitude par commande du milieu actif, p. ex. par commande des procédés ou des appareils pour l'excitation

42.

Three-port silicon beam splitter chip and its fabrication method

      
Numéro d'application 17038732
Numéro de brevet 11500218
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-09-30
Date de la première publication 2021-05-06
Date d'octroi 2022-11-15
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • UNIVERSITY OF SHANGHAI FOR SCIENCE AND TECHNOLOGY (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Feng, Jijun
  • Wu, Xinyao

Abrégé

A three-port silicon beam splitter chip includes an input waveguide, three output waveguides, and a coupling region disposed between the input waveguide and the output waveguides and being in a square shape. The input waveguide and the output waveguide have a same width K, where 490 nm

Classes IPC  ?

  • G02B 27/10 - Systèmes divisant ou combinant des faisceaux
  • G02B 6/125 - Courbures, branchements ou intersections
  • G02B 6/13 - Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication

43.

Coherent anti-Stokes Raman scattering imaging method, and light source for the same

      
Numéro d'application 17013749
Numéro de brevet 11085824
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-09-07
Date de la première publication 2021-04-15
Date d'octroi 2021-08-10
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • UNIVERSITY OF SHANGHAI FOR SCIENCE AND TECHNOLOGY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Yang, Kangwen
  • Chen, Xu
  • Shen, Yue
  • Zheng, Shikai

Abrégé

The disclosure provides a super-resolution fast-scanning coherent Raman scattering imaging method. The method: using pump light and Stokes light; combining the pump light and the Stokes light to obtain combined light; expanding/collimating the combined light; the combined light after the expanding/collimating entering a galvanometer, passing through a group of a scanning lens/a tube lens and being focused on a back focal plane of a microobjective and incidenting into a biological sample, such that the biological sample is excited to emit anti-Stokes light; collecting the excited anti-Stokes light by a detector. This method is characterized by deflecting, at different angles, a single light spot focused on the microobjective through a diffractive optics group including DOE and a dispersive element, into a plurality of 1×N light spots to incident into the biological sample, such that the anti-Stokes light excited from smaller molecules and being condensed and filtered, is collected by the detector.

Classes IPC  ?

44.

Method and system for measuring transient time width of ultrashort pulse

      
Numéro d'application 16895550
Numéro de brevet 11143558
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-06-08
Date de la première publication 2021-03-11
Date d'octroi 2021-10-12
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Yan, Ming
  • Wang, Yinqi
  • Wang, Xiaoyue

Abrégé

Provided are a method and a system for measuring a transient time width of an ultrashort pulse in real time. The method includes: performing an interaction of a laser pulse to be measured with a linear chirped pulse in a second-order non-linear medium, to generate a sum-frequency beam, wherein an intensity sag occurs in the chirped pulse after the interaction; performing a time spreading by a time stretching system on the chirped pulse with the intensity sag; detecting the spread chirped pulse with the spread intensity sag by a photoelectric detector, and measuring and recording a time width τ′ of the spread intensity sag by an oscilloscope; and obtaining the transient time width τ of the laser pulse to be measured according to a formula of τ=τ′/M, where M is an amplification coefficient of the time stretching system.

Classes IPC  ?

  • G01J 11/00 - Mesure des caractéristiques d'impulsions lumineuses individuelles ou de trains d'impulsions lumineuses

45.

Stealth dicing method including filamentation and apparatus thereof

      
Numéro d'application 16926842
Numéro de brevet 11646228
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-07-13
Date de la première publication 2021-03-11
Date d'octroi 2023-05-09
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • UNIVERSITY OF SHANGHAI FOR SCIENCE AND TECHNOLOGY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Yuan, Shuai
  • Du, Yingsheng
  • Xu, Hui
  • Nie, Yuan
  • Wang, Yong
  • Wang, Jin
  • Yu, Jue
  • Ma, Yanying

Abrégé

The present disclosure provides a stealth dicing method and apparatus. With the method, the focusing element focuses the laser beam on the surface of material to be diced, and the dynamic-equilibrium plasma channel is formed in the material to be diced by means of self-focusing and defocusing effect of plasma generated by ionizing the material to be diced. The modified layer may be formed in the material to be diced throughout the plasma channel, so as to realize stealth dicing.

Classes IPC  ?

  • H01L 21/78 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels
  • H01L 21/268 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée les radiations étant électromagnétiques, p. ex. des rayons laser
  • B23K 26/064 - Mise en forme du faisceau laser, p. ex. à l’aide de masques ou de foyers multiples au moyen d'éléments optiques, p. ex. lentilles, miroirs ou prismes
  • B23K 26/08 - Dispositifs comportant un mouvement relatif entre le faisceau laser et la pièce
  • B23K 26/06 - Mise en forme du faisceau laser, p. ex. à l’aide de masques ou de foyers multiples
  • B23K 26/0622 - Mise en forme du faisceau laser, p. ex. à l’aide de masques ou de foyers multiples par commande directe du faisceau laser par impulsions de mise en forme
  • B23K 26/402 - Enlèvement de matière en tenant compte des propriétés du matériau à enlever en faisant intervenir des matériaux non métalliques, p. ex. des isolants
  • B23K 26/53 - Travail par transmission du faisceau laser à travers ou dans la pièce à travailler pour modifier ou reformer le matériau dans la pièce à travailler, p. ex. pour faire des fissures d'amorce de rupture
  • B23K 26/073 - Détermination de la configuration du spot laser
  • B23K 103/00 - Matières à braser, souder ou découper

46.

Method for preparing graphene-CCTO based ceramic composite dielectric material

      
Numéro d'application 16910781
Numéro de brevet 11306030
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-06-24
Date de la première publication 2021-02-04
Date d'octroi 2022-04-19
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Huang, Yanwei
  • He, Jiayang

Abrégé

Provided is a method for preparing a graphene-copper calcium titanate CCTO based ceramic composite dielectric material, which includes: dissolving metal ion sources in respective solvents to obtain respective solutions, and mixing the solutions evenly to obtain a precursor collosol of the CCTO based ceramic; allowing the precursor collosol of the CCTO based ceramic to stand for aging, followed by adding a graphene oxide dispersion to mix with the precursor collosol evenly, drying the resulting mixture to obtain dry precursor powders of the graphene-CCTO based ceramic, which are then grinded into fine powders, followed by irradiating by a low-power laser to obtain graphene-CCTO based ceramic composite powders; and compacting and molding the graphene-CCTO based ceramic composite powders, followed by catalytic synthesis with a high-power laser to obtain the graphene-CCTO based ceramic composite dielectric material.

Classes IPC  ?

  • C04B 35/462 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur compositionCompositions céramiquesTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base d'oxydes à base d'oxydes de titane ou de titanates à base de titanates

47.

Method for preparing ceramic material

      
Numéro d'application 16892581
Numéro de brevet 11465911
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-06-04
Date de la première publication 2021-02-04
Date d'octroi 2022-10-11
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Huang, Yanwei
  • He, Jiayang

Abrégé

n to obtain a mixture, ball-milling the mixture until a particle size of the mixture is not greater than 1 μm with a medium selected from a group consisting of ethanol, acetone, deionized water and a combination thereof, to obtain a powder, drying the powder at a temperature in a range of 60 to 80° C., and sintering the powder with a laser irradiation having a laser wavelength of 980 nm, an irradiation power ranging from 50 to 1500 W and an irradiation period of 3 s to 8 min to obtain the ceramic material.

Classes IPC  ?

  • C01G 25/00 - Composés du zirconium
  • H01M 8/1253 - Éléments à combustible avec électrolytes solides fonctionnant à haute température, p. ex. avec un électrolyte en ZrO2 stabilisé caractérisés par le procédé de fabrication ou par le matériau de l’électrolyte l'électrolyte étant constitué d’oxydes l'électrolyte contenant de l’oxyde de zirconium
  • C01B 33/20 - Silicates

48.

Method for preparing carbon-reinforced metal-ceramic composite material

      
Numéro d'application 16899159
Numéro de brevet 11286207
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-06-11
Date de la première publication 2021-02-04
Date d'octroi 2022-03-29
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Huang, Yanwei
  • He, Jiayang

Abrégé

Disclosed is a method for preparing a carbon-reinforced metal-ceramic composite material, including: mixing raw materials of carbon, copper, zinc, titanium, copper oxide, calcium oxide and titanium dioxide, ball-milling the raw materials with a medium of ethanol to obtain a mixture, drying and milling the mixture to obtain a powder, sintering the powder with a laser having an irradiation power ranging from 100 to 600 W and an irradiation period of 3 min to 10 min to obtain a product, and rapidly cooling the product to allow a temperature of the product to be decreased to the room temperature within 5 min to obtain the carbon-reinforced metal-ceramic composite material.

Classes IPC  ?

  • C04B 35/46 - Produits céramiques mis en forme, caractérisés par leur compositionCompositions céramiquesTraitement de poudres de composés inorganiques préalablement à la fabrication de produits céramiques à base d'oxydes à base d'oxydes de titane ou de titanates
  • C04B 35/78 - Produits céramiques contenant des agents de renforcement macroscopiques contenant des matières non métalliques

49.

Method for preparing graphene based composite wave-absorbing composite material

      
Numéro d'application 16928459
Numéro de brevet 11866335
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-07-14
Date de la première publication 2021-02-04
Date d'octroi 2024-01-09
Propriétaire
  • CHONGQING INSTITUTE OF EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
  • EAST CHINA NORMAL UNIVERSITY (Chine)
Inventeur(s)
  • Zeng, Heping
  • Huang, Yanwei
  • He, Jiayang

Abrégé

A method for preparing a graphene based composite wave-absorbing material includes: dissolving a water soluble barium salt and a water soluble iron salt into deionized water, respectively; mixing barium salt solution and iron salt solution according to a molar ratio of Ba:Fe of 1:12 to obtain a precursor solution; dispersing a graphene material in deionized water to form a graphene dispersion; adding citric acid, nitric acid and the graphene dispersion into the precursor solution in sequence to form a mixture solution; stirring the mixture solution at a temperature of 50 to 75° C. to obtain a sol; coating and drying aged sol on a substrate to obtain a coating layer; and sintering the coating layer by a laser irradiation.

Classes IPC  ?

  • C01B 32/198 - Oxyde de graphène
  • C01B 32/194 - Post-traitement
  • B01J 13/00 - Chimie des colloïdes, p. ex. production de substances colloïdales ou de leurs solutions, non prévue ailleursFabrication de microcapsules ou de microbilles
  • B05D 1/00 - Procédés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces
  • B05D 3/06 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliquésTraitement ultérieur des revêtements appliqués, p. ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides par exposition à des rayonnements