There are provided compounds comprising optionally substituted (FORMULA I) fused with one or two optionally substituted (FORMULA II), wherein A and E each independently represent -CH 2 -, -NH-, -O-, -S-, or -C(=O)- and B represents a bond, -CH 2 -, -NH-, -O-, -S-, or - C(=O)-, said compound having directly or indirectly attached thereto at least one acyl and/or oxime ester group. Such compounds are useful inter alias as photoinitiators.
C07D 209/86 - Carbazoles; Carbazoles hydrogénés avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du système cyclique
C07C 13/62 - Hydrocarbures polycycliques ou leurs dérivés hydrocarbonés acycliques à cycles condensés à plus de trois cycles condensés
C07C 251/66 - Oximes ayant des atomes d'oxygène de groupes oxyimino estérifiés par des acides carboxyliques avec les groupes carboxyle estérifiants liés à des atomes d'hydrogène, à des atomes de carbone acycliques ou à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
C07C 323/47 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant au moins un des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, lié de plus à d'autres hétéro-atomes à des atomes d'oxygène
C07C 49/665 - Composés non saturés comportant un groupe cétone faisant partie d'un cycle contenant des cycles aromatiques à six chaînons un groupe cétone faisant partie d'un système cyclique condensé
C07C 49/792 - Cétones comportant un groupe cétone lié à un cycle aromatique à six chaînons polycycliques contenant des cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
C07C 49/84 - Cétones comportant un groupe cétone lié à un cycle aromatique à six chaînons contenant des groupes éther, des groupes , des groupes ou des groupes
C07D 221/18 - Systèmes cycliques d'au moins quatre cycles
C07D 307/93 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à cinq chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle condensés en ortho ou en péri avec des carbocycles ou avec des systèmes carbocycliques condensés avec un cycle autre qu'un cycle à six chaînons
C07D 333/22 - Radicaux substitués par des hétéro-atomes liés par une liaison double ou par deux hétéro-atomes, autres que des halogènes, liés au même atome de carbone par des liaisons simples
C07D 333/78 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à cinq chaînons comportant un atome de soufre comme unique hétéro-atome du cycle condensés avec des carbocycles ou avec des systèmes carbocycliques condensés avec des cycles autres que des cycles à six chaînons ou avec des systèmes cycliques contenant de tels cycles
A thermal lithographic printing plate overcoat composition comprising (a) a water- soluble polymeric dye having an absorption band between about 300 and about 600 nm; and (b) micro-particles or nano-particles is provided. A negative-working thermal lithographic printing plate comprising (a) a hydrophilic substrate; (b) a near infrared imaging layer disposed on the hydrophilic substrate; and (c) an overcoat layer disposed on the imaging layer, said overcoat layer comprising a water-soluble polymeric dye having an absorption band between about 300 and about 600 nm; and micro-particles or nano-particles is also provided. Finally, a water-soluble polymeric dye having an absorption band between about 300 and about 600 nm is provided.
C09D 151/06 - Compositions de revêtement à base de polymères greffés dans lesquels le composant greffé est obtenu par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères greffés sur des homopolymères ou des copolymères d'hydrocarbures aliphatiques ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone
B41C 1/10 - Préparation de la forme ou du cliché pour l'impression lithographique; Feuilles-mère pour le report d'une image sur la forme
B41M 5/36 - Thermographie utilisant une pellicule polymère qui peut être sous forme de particules et qui est soumise à une modification de forme ou de structure avec modification de ses caractéristiques, p.ex. de ses caractéristiques d'hydrophobie-hydrophilie, de ses caractér
C09B 46/00 - Colorants azoïques non prévus par les groupes
C09D 137/00 - Compositions de revêtement à base d'homopolymères ou de copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chacun ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un hétéroc; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
There is provided polymeric particles having a particle size between about 60 nm and about 1000 nm and comprising a polymer, the polymer comprising a hydrophobic backbone, a near infrared absorbing segment having attached thereto a near infrared absorbing chromophore having an absorption peak between about 700 nm and about 1100 nm; and a near infrared transparent segment. Method of manufacture these particles are also provided. A coating composition comprising the above-polymeric particles and a reactive iodonium oligomer is also provided. Finally, a negative-working lithographic offset printing plate comprising a substrate; a hydrophilic under layer; and a laser imageable upper layer, wherein the laser imageable upper layer comprises the above polymeric particle is also provided.
B41C 1/10 - Préparation de la forme ou du cliché pour l'impression lithographique; Feuilles-mère pour le report d'une image sur la forme
B41N 1/00 - Clichés ou plaques d'impression; Matériaux à cet effet
B41N 1/08 - Clichés ou plaques d'impression; Matériaux à cet effet métalliques pour l'impression lithographique
C08F 212/14 - Monomères contenant un seul radical aliphatique non saturé contenant un cycle substitué par des hétéro-atomes ou des groupes contenant des hétéro-atomes
C08J 3/14 - Pulvérisation ou granulation par précipitation à partir de solutions
C08J 3/24 - Réticulation, p.ex. vulcanisation, de macromolécules
C09D 133/14 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters contenant des atomes d'halogène, d'azote, de soufre ou d'oxygène en plus de l'oxygène du radical carboxyle
This invention relates to iodonium salts, acetal copolymers and polymer binders comprising functional groups capable of undergoing cationic or radical polymerization, their method of preparation and their use in the preparation of coatings. This invention also relates to coating solutions and coatings containing the iodonium salts, acetal copolymers and/or polymer binders and to negative working lithographic printing plates comprising these coatings.
C08B 11/193 - Ethers mixtes, c. à d. éthers à plusieurs groupes éthérifiants différents
C08F 220/00 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, im
C08G 61/02 - Composés macromoléculaires contenant uniquement des atomes de carbone dans la chaîne principale de la molécule, p.ex. polyxylylènes
Described herein are novel thermally reactive near-infrared absorbing acetal copolymers that undergo chemical and physical changes upon exposure to near-infrared radiation. Also described are the methods of preparation of the novel acetal copolymers starting either with vinyl-alcohol polymers or with acetal copolymers. Also described are the methods of use of the new near-infrared absorbing acetal copolymers in coatings used in lithographic offset printing plates that can be directly imaged with near-infrared laser imaging devices in computer-to-plate and digital offset printing technologies. The novel acetal copolymers are also useful in photoresist applications, rapid prototyping of printed circuit boards and chemical sensor development.
A method, apparatus and system for analysing and authenticating a luminescent tag are provided wherein a luminescence is triggered in the tag and relative light intensities emitted thereby measured within at least two luminescence bands. The measured intensities are compared with at least one reference tag representative of relative intensities emitted by an authentic tag to determine whether the luminescent tag corresponds with any of the at least one reference tag. If the measured intensities match the representative intensities, the luminescent tag is authenticated. A computer program to be implemented by the apparatus and system is also disclosed. Further, a method and system for verifying the authenticity of one or plural objects are disclosed, wherein each of the objects is to be associated with a respective tag. The respective tags are coded to emit light, when triggered, within at least two luminescence bands at respective predetermined relative light intensities. Having access to a reference tag representative of the predetermined intensities, the authenticity of a luminescent tag is verified by measuring intensities emitted thereby within the luminescence bands and comparing the measured intensities with the predetermined intensities.
Described herein is a method for recording information in luminescent compounds, comprising: a) providing a luminescent composition which comprises at least a first and second luminescent compound, wherein the first luminescent compound is a donor compound having a peak luminescent emission spectrum at a given wavelength, wherein the second luminescent compound is an acceptor compound having a peak absorption spectrum at a longer wavelength than the given wavelength, and wherein the emission spectrum of the donor compound at least partially overlaps the absorption spectrum of the acceptor compound; b) combining the composition with a substrate, so that at least a portion of the composition is available for exposure to a photon source; and c) embedding information at predetermined sites in the combined composition by localized exposure to a photon source, the embedding resulting in an information pattern when exposed to a luminescence deciphering device, and uses of said information pattern.