The present invention addresses the problem of providing a cleaning liquid composition that has high pH stability and demonstrates good cleaning performance with regard to organic residues and abrasive grains that contain cobalt (Co), on a substrate that has a cobalt (Co) contact hole and/or cobalt (Co) wiring. The present invention relates to a cleaning liquid composition for cleaning a substrate that has a cobalt (Co) contact plug and/or cobalt (Co) wiring, said cleaning liquid composition including one or more types of hydroxylamine derivatives as a reducing agent, one or more types of surfactants, one or more types of pH adjusting agents, and water, wherein the pH is 3 to 9.
The present invention addresses the problem of providing a removal composition which is capable of satisfactorily removing a strong resist, and a polymer residue and a resist residue on a substrate for the semiconductor device production, while reducing the toxicity to humans, and which is also capable of suppressing damage on a wiring metal. The present invention relates to a nonaqueous composition which is used for the purpose of removing a polymer residue, a resist, and/or a resist residue on a substrate for the semiconductor device production by applying ultrasonic waves thereto, and which contains 80% by mass to 100% by mass of diethylene glycol monoethyl ether or triethylene glycol monomethyl ether.
Provided is a cleaning composition for manganese contamination of a silicon carbide substrate, the cleaning composition having high stability and enabling transport of a product in the form of a solution. A cleaning liquid composition for cleaning a silicon carbide substrate polished by an abrasive containing a manganese compound or a silicon carbide substrate etched by an etching liquid containing a manganese compound, the cleaning liquid composition containing a reducing agent, a pH adjusting agent, and water, having a pH of less than 5, and the reducing agent being at least one selected from the group consisting of glyoxylic acid, diethylhydroxylamine, and six-membered ring compounds in which two or more hydroxyl groups are directly bonded to a ring.
It is known that when etching gold films using etching solutions containing iodine and iodide, N-methyl-2-pyrrolidinone (NP) is added to improve the etching solution's wettability, microfabrication property, and solution life. However, in recent years, the use of NMP has been regulated due to its adverse effects on human health. The present invention provides an etching solution and etching method for gold film that improves wettability, microfabrication property, and solution life without containing NP. In order to address the problem of the prior art, the present invention provides etching solutions and etching methods for gold films that improve wettability, microfabrication property, and liquid life without NMP, characterized by the inclusion of a specific organic solvent in the etching solution containing iodine and iodide.
[Problem] The present invention addresses the problem of providing a silicon nitride etching liquid composition which, for production of 3D non-volatile memory cells, or the like, is capable of suppressing the regrowth of silicon oxide in a step for selectively etching silicon nitride with a practical etching selectivity of silicon oxide, and which does not allow alcohol elimination to occur. [Solution] Provided is a silicon nitride etching liquid composition which comprises phosphoric acid, hydrolyzate of a water-soluble silicon compound and water, and which is for producing 3D non-volatile memory cells, and the like.
H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique en utilisant des masques
H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique
H01L 21/336 - Transistors à effet de champ à grille isolée
H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante
H01L 29/792 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à isolant de grille à emmagasinage de charges, p.ex. transistor de mémoire MNOS
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
6.
ANTI-SARS-CoV-2 ANTIBODY AGAINST SARS-CoV-2 ANTIGEN IN BODY FLUID, INCLUDING MUTANT; METHOD FOR DETECTING SARS-CoV-2 USING ANTIBODY; AND KIT CONTAINING ANTIBODY
PUBLIC UNIVERSITY CORPORATION YOKOHAMA CITY UNIVERSITY (Japon)
KANTO KAGAKU KABUSHIKI KAISHA (Japon)
Inventeur(s)
Ryo, Akihide
Mihana, Yusaku
Yamaoka, Yutaro
Abrégé
The present invention addresses the problem of providing a highly sensitive and highly specific means for detecting a protein constituting a nucleocapsid derived from SARS-CoV-2. The above problem has been solved by, for example, an antibody binding to a protein constituting the nucleocapsid derived from SARS-CoV-2 or a fragment thereof, or a combination thereof; a method for detecting, from a sample, a protein constituting the nucleocapsid derived from SARS-CoV-2 using said antibody or a fragment thereof, or a combination thereof; and a kit for detecting a protein constituting the nucleocapsid derived from SARS-CoV-2, the kit containing said antibody or a fragment thereof, or a combination thereof.
C07K 16/10 - Immunoglobulines, p.ex. anticorps monoclonaux ou polyclonaux contre du matériel provenant de virus de virus à ARN
G01N 33/531 - Production de matériaux de tests immunochimiques
G01N 33/543 - Tests immunologiques; Tests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet avec un support insoluble pour l'immobilisation de composés immunochimiques
G01N 33/569 - Tests immunologiques; Tests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet pour micro-organismes, p.ex. protozoaires, bactéries, virus
C12N 15/50 - Coronaviridae, p.ex. virus de la bronchite infectieuse, virus de la gastro-entérite transmissible
7.
ETCHING SOLUTION COMPOSITION, PRODUCTION METHOD FOR SAID ETCHING SOLUTION COMPOSITION, AND ETCHING METHOD USING SAID ETCHING SOLUTION COMPOSITION
The present invention addresses the problem of providing an etching solution composition that imparts a good etched surface shape to a metal to be etched at a controlled etch rate. The present invention relates to an etching solution composition obtained by blending at least (A) nitric acid, (B) acetic acid, (C) a phosphorous compound, and (D) water, wherein the water concentration after blending is at most 3.0 M.
The present invention addresses the problem of providing an etching solution composition that imparts a good etched surface shape to a metal to be etched at a controlled etch rate. The present invention relates to an etching solution composition that contains (A) nitric acid, (B) acetic acid, (C) nitrilotris(methylenephosphonic acid), (D) a halogen compound, and (E) water.
C23F 1/26 - Compositions acides pour les métaux réfractaires
H01L 21/28 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes
H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique
H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 21/336 - Transistors à effet de champ à grille isolée
H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante
H01L 29/792 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à isolant de grille à emmagasinage de charges, p.ex. transistor de mémoire MNOS
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
The present invention addresses the problem of providing a photoresist remover composition which has the high ability to remove cured resists and is effective in inhibiting the corrosion of substrate-constituting metals in contact therewith, such as Cu and Al, and in inhibiting the Cu and other metals from being excessively oxidized during the removal process. This photoresist remover composition comprises (A) a quaternary ammonium hydroxide, (B) diethylene glycol monoethyl ether, (C) glycerin, and (D) water, wherein the content of (A) is 0.5-5 mass% with respect to the whole mass of the composition, the content of (B) is 50-95 mass% with respect to the whole mass of the composition, the content of (C) is 0.5-20 mass% with respect to the whole mass of the composition, and the content of (D) is less than 20 mass% with respect to the whole mass of the composition.
PUBLIC UNIVERSITY CORPORATION YOKOHAMA CITY UNIVERSITY (Japon)
KANTO KAGAKU KABUSHIKI KAISHA (Japon)
Inventeur(s)
Ryo, Akihide
Yamaoka, Yutaro
Kikuchi, Sayaka
Abrégé
The present invention addresses the problem of providing a means for detecting a constituting protein of nucleocapsid derived from SARS-CoV-2. This problem has been solved by providing an antibody binding to a constituting protein of nucleocapsid derived from SARS-CoV-2 or a fragment of the antibody, a method for detecting a constituting protein of the SARS-CoV-2-derived nucleocapsid with the use of the antibody or a fragment thereof, a kit for detecting a constituting protein of the SARS-CoV-2-derived nucleocapsid, said kit containing the antibody or a fragment thereof, etc.
C07K 16/10 - Immunoglobulines, p.ex. anticorps monoclonaux ou polyclonaux contre du matériel provenant de virus de virus à ARN
G01N 33/569 - Tests immunologiques; Tests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet pour micro-organismes, p.ex. protozoaires, bactéries, virus
The present invention addresses the problem of providing a photoresist stripping composition that exhibits a high stripping performance even with respect to a hardened resist, and that, even when the amount of water in the make-up is small, experiences little decrease in stripping performance when water evaporates and makes it possible to inhibit corrosion of a substrate-constituting metal that comes into contact with a liquid, such as Cu, Al, or Si. The above is accomplished by a photoresist stripping composition containing (A) a quaternary ammonium hydroxide, (B) a sugar alcohol, (C) an amine, (D) water, (E) DMSO, and (F) ethylene glycol, the (D) water content being 1.0-10 mass% relative to the total mass of the composition.
H05K 3/06 - Elimination du matériau conducteur par voie chimique ou électrolytique, p.ex. par le procédé de photo-décapage
12.
INDROPHENOXAZINE-BASED COMPOUND, ELECTRON-BLOCKING MATERIAL CONTAINING SAID COMPOUND, AND ORGANIC PHOTOELECTRIC CONVERSION ELEMENT IN WHICH SAID COMPOUND IS INCLUDED IN ELECTRON-BLOCKING LAYER
The present invention provides a novel compound represented by general formula (1), the compound exhibiting an effect for reducing dark current in a photoelectric conversion element. (R1to R14, independently of each other, are hydrogen, a straight-chain alkyl group that may have a substituent, a branched alkyl group that may have a substituent, a cyclic alkyl group that may have a substituent, or a phenyl group that may have a substituent; Ar, independently of each other, are one or more aromatic hydrocarbon groups that may have a substituent, one or more aromatic heterocyclic groups that may have a substituent, one or more condensed polycyclic aromatic groups that may have a substituent, one or more condensed polycyclic aromatic heterocyclic groups that may have a substituent, or a group that is a combination thereof).
C07D 519/00 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs systèmes de plusieurs hétérocycles déterminants condensés entre eux ou condensés avec un système carbocyclique commun non prévus dans les groupes ou
H01L 31/10 - Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement e; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails dans lesquels le rayonnement commande le flux de courant à travers le dispositif, p.ex. photo-résistances caractérisés par au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. photo-transistors
H10K 30/60 - Dispositifs organiques sensibles au rayonnement infrarouge, à la lumière, au rayonnement électromagnétique de plus courte longueur d'onde ou au rayonnement corpusculaire dans lesquels le rayonnement commande le flux de courant à travers les dispositifs, p. ex. photorésistances
The present invention addresses the problem of providing a decomposition inhibitor for inhibiting the decomposition of hydrogen peroxide included in an etching liquid composition for titanium nitride.
The present invention relates to a decomposition inhibitor that is used to inhibit the decomposition of hydrogen peroxide included in an etching liquid composition for titanium nitride and that includes at least one compound selected from among azole compounds, aminocarboxylic acid compounds, and phosphonic acid compounds as an active component.
C09K 13/06 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage contenant un acide inorganique avec une substance organique
C09K 15/20 - Compositions anti-oxydantes; Compositions inhibant les modifications chimiques contenant des composés organiques contenant de l'azote et de l'oxygène
C09K 15/30 - Compositions anti-oxydantes; Compositions inhibant les modifications chimiques contenant des composés organiques contenant un hétérocycle avec au moins un azote comme membre du cycle
C09K 15/32 - Compositions anti-oxydantes; Compositions inhibant les modifications chimiques contenant des composés organiques contenant du bore, du silicium, du phosphore, du sélénium, du tellure ou un métal
[Problem] Adding N-methyl-2-pyrrolidinone (NMP) in order to improve the wettability, microfabrication properties and solution lifespan of an etching solution when etching a gold film by using an etching solution which contains iodine and an iodide is well known. However, restrictions on the use of NMP from the perspective of the negative effect thereof on human health have, in recent years, posed a problem. The present invention provides a gold film etching solution and etching method which improve wettability, microfabrication properties and solution lifespan without including NMP in said solution. [Solution] Provided are a gold film etching solution and etching method which improve wettability, microfabrication properties and solution lifespan without including NMP in the solution as a result of said gold film etching solution, which contains iodine and an iodide, being characterized by containing a specific organic solvent.
Provided is a method for culturing hepatocytes, the method being characterized by comprising a step for culturing hepatocytes in a medium including cAMP, a cAMP analog, or a substance that increases the cAMP concentration in cells, for the purpose of improving adhesiveness of hepatocytes.
An object of the present invention is to provide a cleaning liquid that effectively removes in a short time organic residues and abrasive grains derived from a slurry in a semiconductor substrate in which a Co contact plug and/or Co wiring are present.
The present invention relates to a cleaning liquid composition for cleaning a substrate having a Co contact plug and/or Co wiring, which contains one or more reducing agents and water. Furthermore, the present invention relates to a cleaning liquid composition for cleaning a substrate having Co and not having Cu, which contains one or more reducing agents and water and has a pH of 3 or more and less than 12.
The present invention addresses the problem of providing: a culture medium that is for adherent culturing of pluripotent stem cells exhibiting high growth ability and that does not contain serum or albumin; and a highly versatile method for adherent culturing of pluripotent stem cells using the culture medium. According to the present invention, by adding, to a culture medium, a hydrophilic polymer that is conventionally known to inhibit adhesion of cells to the surface of a cell culture base material, so that the adhesion of pluripotent stem cell to the surface of the cell culture base material is enhanced, high growth ability is imparted in adherent culturing of pluripotent stem cells without adding serum or albumin thereto. In addition, by adding an antioxidant substance along with such a polymer to a culture medium, very high growth ability is imparted in adherent culturing of pluripotent stem cells.
4 gas. The remover composition, which is for removing ruthenium remaining on substrates, has a pH at 25° C. of 8 or higher and includes one or more pH buffer ingredients.
C23F 1/30 - Compositions acides pour les autres matériaux métalliques
H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p.ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
19.
ANTIBODY AGAINST SARS-COV-2, METHOD FOR DETECTING SARS-COV-2 USING ANTIBODY AND KIT CONTAINING ANTIBODY
PUBLIC UNIVERSITY CORPORATION YOKOHAMA CITY UNIVERSITY (Japon)
KANTO KAGAKU KABUSHIKI KAISHA (Japon)
Inventeur(s)
Ryo, Akihide
Yamaoka, Yutaro
Kikuchi, Sayaka
Abrégé
The present invention addresses the problem of providing a means for detecting a constituting protein of nucleocapsid derived from SARS-CoV-2. This problem has been solved by providing an antibody binding to a constituting protein of nucleocapsid derived from SARS-CoV-2 or a fragment of the antibody, a method for detecting a constituting protein of the SARS-CoV-2-derived nucleocapsid with the use of the antibody or a fragment thereof, a kit for detecting a constituting protein of the SARS-CoV-2-derived nucleocapsid, said kit containing the antibody or a fragment thereof, etc.
C12N 15/50 - Coronaviridae, p.ex. virus de la bronchite infectieuse, virus de la gastro-entérite transmissible
G01N 33/53 - Tests immunologiques; Tests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet
G01N 33/543 - Tests immunologiques; Tests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet avec un support insoluble pour l'immobilisation de composés immunochimiques
20.
METHOD FOR PRODUCING INTESTINAL CELLS FROM PLURIPOTENT STEM CELLS
As a method for producing enterocytes derived from pluripotent stem cells and having functions corresponding to those of actual enterocytes, a method for producing enterocytes using an enterocyte differentiation medium containing a GSK3 inhibitor, and at least one selected from the group consisting of an activator of a hepatocyte growth factor receptor, an adrenal cortex hormone, calcitriol, and dimethyl sulfoxide is provided.
PUBLIC UNIVERSITY CORPORATION YOKOHAMA CITY UNIVERSITY (Japon)
KANTO KAGAKU KABUSHIKI KAISHA (Japon)
Inventeur(s)
Ryo, Akihide
Yamaoka, Yutaro
Aizawa, Daisuke
Abrégé
The present invention addresses the problem of providing a means for accurately, easily and quickly detecting an anti-SARS-CoV-2-antibody. A solution to this problem is achieved by providing a SARS-CoV-2-derived nucleocapsid fragment, a method and a kit for detecting an anti-SARS-CoV-2-antibody from human-derived blood, plasma and/or serum with the use of the fragment, etc.
C07K 14/165 - Coronaviridae, p.ex. virus de la bronchite infectieuse aviaire
C07K 16/10 - Immunoglobulines, p.ex. anticorps monoclonaux ou polyclonaux contre du matériel provenant de virus de virus à ARN
C12M 1/34 - Mesure ou test par des moyens de mesure ou de détection des conditions du milieu, p.ex. par des compteurs de colonies
C12N 15/50 - Coronaviridae, p.ex. virus de la bronchite infectieuse, virus de la gastro-entérite transmissible
G01N 33/53 - Tests immunologiques; Tests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet
G01N 33/533 - Production de composés immunochimiques marqués avec un marqueur fluorescent
G01N 33/535 - Production de composés immunochimiques marqués avec un marqueur enzymatique
G01N 33/543 - Tests immunologiques; Tests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques; Matériaux à cet effet avec un support insoluble pour l'immobilisation de composés immunochimiques
22.
Method for inducing differentiation of pluripotent stem cells into hepatocytes
The present invention provides, in order to prepare matured hepatocytes analogous in various points to primary hepatocytes, a method for preparing hepatocytes or cells that can be differentiated into hepatocytes from pluripotent stem cells, comprising the steps of: (1) culturing the pluripotent stem cells in a medium containing an activator of an activin receptor-like kinase-4,7; (2) culturing the cells obtained in the step (1) in a medium containing a bone morphogenetic factor and a fibroblast growth factor; (3) culturing the cells obtained in the step (2) in a medium containing an activator of a hepatocyte growth factor receptor and an activator of an oncostatin M receptor; and (4) culturing the cells obtained in the step (3) to obtain hepatocytes or cells that can be differentiated into hepatocytes, wherein in at least one of the steps (2), (3) and (4), cells are cultured on a high-density collagen gel membrane.
An etchant composition that is capable of batch etching treatment of a tungsten film and a titanium nitride film and a method for etching using said etchant composition are provided. The etching composition of the present invention is an etchant composition comprising nitric acid and water for batch etching treatment of a tungsten film and a titanium nitride film.
C23F 1/26 - Compositions acides pour les métaux réfractaires
H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p.ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique en utilisant des masques
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
The present invention addresses the problem of providing a decomposition inhibitor for inhibiting the decomposition of hydrogen peroxide included in an etching liquid composition for titanium nitride. The present invention relates to a decomposition inhibitor that is used to inhibit the decomposition of hydrogen peroxide included in an etching liquid composition for titanium nitride and that includes at least one compound selected from among azole compounds, aminocarboxylic acid compounds, and phosphonic acid compounds as an active component.
342222 film in the production of a 3D nonvolatile memory cell. A silicon nitride etching liquid composition for producing a 3D nonvolatile memory cell, which contains phosphoric acid, one or more silane coupling agents and water, but which does not contain ammonium ions.
H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique
H01L 27/11556 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par des agencements tridimensionnels, p.ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H01L 27/11582 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec isolateurs de grille à piégeage de charge, p.ex. MNOS ou NROM caractérisées par des agencements tridimensionnels, p.ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. canaux en forme de U
H01L 21/336 - Transistors à effet de champ à grille isolée
H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante
H01L 29/792 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à isolant de grille à emmagasinage de charges, p.ex. transistor de mémoire MNOS
C23C 18/16 - Revêtement chimique par décomposition soit de composés liquides, soit de solutions des composés constituant le revêtement, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement; Dépôt par contact par réduction ou par substitution, p.ex. dépôt sans courant électrique
C23C 18/52 - Revêtement chimique par décomposition soit de composés liquides, soit de solutions des composés constituant le revêtement, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement; Dépôt par contact par réduction ou par substitution, p.ex. dépôt sans courant électrique en utilisant des agents réducteurs pour le revêtement avec des matériaux métalliques non prévus par un seul des groupes
27.
UNDIFFERENTIATED STATE-MAINTAINING CULTURE MEDIUM FOR PLURIPOTENT STEM CELLS
The present invention addresses the problem of providing: a culture medium that is for adherent culturing of pluripotent stem cells exhibiting high growth ability and that does not contain serum or albumin; and a highly versatile method for adherent culturing of pluripotent stem cells using the culture medium. According to the present invention, by adding, to a culture medium, a hydrophilic polymer that is conventionally known to inhibit adhesion of cells to the surface of a cell culture base material, so that the adhesion of pluripotent stem cell to the surface of the cell culture base material is enhanced, high growth ability is imparted in adherent culturing of pluripotent stem cells without adding serum or albumin thereto. In addition, by adding an antioxidant substance along with such a polymer to a culture medium, very high growth ability is imparted in adherent culturing of pluripotent stem cells.
44 gas. The remover composition, which is for removing ruthenium remaining on substrates, has a pH at 25°C of 8 or higher and includes one or more pH buffer ingredients.
A problem is presented in that conventional photochromic compounds cannot be considered adequate in terms of the colorizing/decolorizing rate and durability, and the production process therefore has many steps. The present invention provides an industrially applicable photochromic compound that has both a rapid colorizing/decolorizing reaction and high durability and can also be synthesized at a low cost. This compound is characterized in that etheric oxygen atoms are bonded to the carbon atoms at position 1 of a pyranoquinazoline (8H-pyrano[3,2-f]quinazoline) skeleton and position 10 of a naphthopyran (3H-naphtho[2,1-b]pyran) skeleton, said compound having photochromic properties and being a photochromic compound that has both a rapid colorizing/decolorizing reaction and high durability. Also provided is an industrially applicable photochromic compound that can be synthesized at a low cost.
C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
C07D 405/10 - Composés hétérocycliques contenant à la fois un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle et un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne carbonée contenant des cycles aromatiques
C07D 491/052 - Systèmes condensés en ortho avec un seul atome d'oxygène comme hétéro-atome du cycle contenant de l'oxygène le cycle contenant de l'oxygène étant à six chaînons
The present invention addresses the problem of providing a cleaning liquid which can, in a short time, effectively remove abrasive grains and organic residues, derived from a slurry, from a semiconductor substrate in which a Co contact plug or a Co wire is present. The present invention relates to a cleaning liquid composition, which is used for cleaning a substrate having a Co contact plug and/or a Co wire, and which contains one or more types of reducing agent and water. The present invention also relates to a cleaning liquid composition, which is used for cleaning a substrate that contains Co but contains no Cu and which contains one or more types of reducing agent and water and has a pH of not less than 3 but less than 12.
Provided is a method for producing intestinal cells derived from pluripotent stem cells, the produced intestinal cells exhibiting functions which are similar to those of actual intestinal cells. This method for producing intestinal cells uses a culture for differentiation into intestinal cells, which is characterized by containing a GSK3 inhibitor and one type selected from the group consisting of an activating agent for hepatocyte growth factor receptors, adrenal cortex hormone, calcitriol, and dimethylsulfoxide.
C12N 5/071 - Cellules ou tissus de vertébrés, p.ex. cellules humaines ou tissus humains
C07K 14/78 - Peptides du tissu connectif, p.ex. collagène, élastine, laminine, fibronectine, vitronectine, globuline insoluble à froid (CIG)
C12N 1/00 - Micro-organismes, p.ex. protozoaires; Compositions les contenant; Procédés de culture ou de conservation de micro-organismes, ou de compositions les contenant; Procédés de préparation ou d'isolement d'une composition contenant un micro-organisme; Leurs milieux de culture
Provided are: an etchant composition for titanium or titanium alloy, the etchant composition being used for selectively etching a titanium layer or titanium-containing layer formed on an oxide semiconductor layer; and an etching method using said etchant composition. The etchant composition according to the present invention, which is used for etching a titanium layer or titanium-containing layer on an oxide semiconductor, comprises: a compound containing ammonium ions; hydrogen peroxide; and a basic compound, wherein the etchant composition has a pH of 7-11.
4, Si, and the like forming a layer on the substrate surface, can be used under processing conditions applicable to a brush scrub cleaning chamber equipped with a CMP apparatus, and can efficiently remove compounds derived from abrasive particles in a slurry. This cleaning solution composition for cleaning the surface of a semiconductor substrate or glass substrate contains: one or two or more fluorine atom-containing inorganic acids or salts thereof; water; one or two or more reducing agents; and one or two or more anionic surfactants, and has a hydrogen ion concentration (pH) of less than 7.
Provided is a cleaning liquid composition which is useful for cleaning of a substrate or the like that has been subjected to a chemical mechanical polishing (CMP) process, etc in the production steps of an electronic device such as a semiconductor element. A cleaning liquid composition according to the present invention is used for the purpose of cleaning a substrate that has a Cu wiring, and comprises one or more basic compounds and one or more nitrogen-containing monocyclic heterocyclic aromatic compounds that contain one or more carboxyl groups or ester groups, provided that in cases where one or more amino groups are contained therein, only amino groups directly bonded to a nitrogen-containing heterocyclic rind are contained. This cleaning liquid composition has a hydrogen ion concentration (pH) of 8-12.
H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux
01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture
Produits et services
Chemical reagents, other than for medical or veterinary
purposes; chemical substances for analyses in laboratories,
other than for medical or veterinary purposes; chemical
preparations for scientific purposes, other than for medical
or veterinary use; industrial chemicals; chemical substances
for preserving foodstuffs; chemical substances used as food
additives.
01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture
05 - Produits pharmaceutiques, vétérinaires et hygièniques
Produits et services
Chemical reagents, other than for medical or veterinary
purposes; chemical substances for analyses in laboratories,
other than for medical or veterinary purposes; chemical
preparations for scientific purposes, other than for medical
or veterinary use; industrial chemicals; chemical substances
for preserving foodstuffs; chemical substances used as food
additives. Pharmaceutical preparations; veterinary preparations;
chemical reagents for medical or veterinary purposes;
diagnostic reagents; clinical diagnostic reagents;
diagnostic preparations for medical purposes; chemical
preparations for pharmaceutical purposes; chemical
preparations for medical purposes; chemical preparations for
veterinary purposes.
01 - Produits chimiques destinés à l'industrie, aux sciences ainsi qu'à l'agriculture
05 - Produits pharmaceutiques, vétérinaires et hygièniques
Produits et services
Chemical reagents, other than for medical or veterinary
purposes; chemical substances for analyses in laboratories,
other than for medical or veterinary purposes; chemical
preparations for scientific purposes, other than for medical
or veterinary use; industrial chemicals; chemical substances
for preserving foodstuffs; chemical substances used as food
additives. Pharmaceutical preparations; veterinary preparations;
chemical reagents for medical or veterinary purposes;
diagnostic reagents; clinical diagnostic reagents;
diagnostic preparations for medical purposes; chemical
preparations for pharmaceutical purposes; chemical
preparations for medical purposes; chemical preparations for
veterinary purposes.
38.
METHOD FOR INDUCING DIFFERENTIATION OF PLURIPOTENT STEM CELLS INTO HEPATOCYTES
Provided is a method for preparing hepatocytes or cells that can be differentiated into hepatocytes from pluripotent stem cells for the purpose of preparing mature hepatocytes that are similar in many respects to primary cultured hepatocytes, wherein the method is characterized by including (1) a step for culturing pluripotent stem cells in a medium that contains an activator of activin receptor-like kinase-4,7, (2) a step for culturing the cells obtained in step (1) in a medium that contains an osteogenic factor and a fibroblast growth factor, (3) a step for culturing the cells obtained in step (2) in a medium that contains a hepatocyte growth factor receptor activator and an oncostatin M receptor activator, and (4) a step for culturing the cells obtained in step (3) and obtaining hepatocytes or cells that can be differentiated into hepatocytes, at least one of steps (2), (3), and (4) involving culturing the cells on a high-density collagen gel membrane.
Provided are: an etchant composition for titanium or titanium alloy, the etchant composition being used for selectively etching a titanium layer or titanium-containing layer formed on an oxide semiconductor layer; and an etching method using said etchant composition. The etchant composition according to the present invention, which is used for etching a titanium layer or titanium-containing layer on an oxide semiconductor, comprises: a compound containing ammonium ions; hydrogen peroxide; and a basic compound, wherein the etchant composition has a pH of 7-11.
2344, Si, etc., forming a layer on the substrate surface, when cleaning a surface of a semiconductor substrate or a glass substrate; can be used under processing conditions applicable to a brush scrub cleaning chamber attached to a CMP device; and exhibits high removal of compounds derived from polishing particles in a slurry. This cleaning solution composition is a cleaning solution composition for cleaning a surface of a semiconductor substrate or a glass substrate, contains water and one or two or more inorganic acids (excluding hydrofluoric acid) or salts thereof containing a fluorine atom in the structure thereof, and has a hydrogen ion concentration (pH) of less than 7.
2344, Si, and the like forming a layer on the substrate surface, can be used under processing conditions applicable to a brush scrub cleaning chamber equipped with a CMP apparatus, and can efficiently remove compounds derived from abrasive particles in a slurry. This cleaning solution composition for cleaning the surface of a semiconductor substrate or glass substrate contains: one or two or more fluorine atom-containing inorganic acids or salts thereof; water; one or two or more reducing agents; and one or two or more anionic surfactants, and has a hydrogen ion concentration (pH) of less than 7.
[Problem] A problem was presented in that conventional photochromic compounds cannot be considered adequate in terms of the coloring/decoloring rate and durability, and the production process therefor has many steps. The present invention provides an industrially applicable photochromic compound that has both a rapid coloring/decoloring reaction and high durability and can also be synthesized at a low cost. [Solution] This compound is characterized in that etheric oxygen atoms are bonded to the carbon atoms at position 1 of a pyranoquinazoline (8H-pyrano[3,2-f]quinazoline) skeleton and position 10 of a naphthopyran (3H-naphtho[2,1-b]pyran) skeleton, said compound having photochromic properties and being a photochromic compound that has both a rapid coloring/decoloring reaction and high durability. Also provided is an industrially applicable photochromic compound that can be synthesized at a low cost.
C07D 491/052 - Systèmes condensés en ortho avec un seul atome d'oxygène comme hétéro-atome du cycle contenant de l'oxygène le cycle contenant de l'oxygène étant à six chaînons
C07D 519/00 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs systèmes de plusieurs hétérocycles déterminants condensés entre eux ou condensés avec un système carbocyclique commun non prévus dans les groupes ou
C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
G02B 1/04 - OPTIQUE ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p.ex. plastiques
Provided is a cleaning liquid composition which is useful for cleaning of a substrate or the like that has been subjected to a chemical mechanical polishing (CMP) process in the production steps of an electronic device such as a semiconductor element. A cleaning liquid composition according to the present invention is used for the purpose of cleaning a substrate that has a Cu wiring line, and comprises one or more basic compounds and one or more nitrogen-containing monocyclic heterocyclic aromatic compounds that contain one or more carboxyl groups or ester groups, provided that in cases where one or more amino groups are contained therein, only amino groups directly bonded to a nitrogen-containing heterocyclic ring are contained. This cleaning liquid composition has a hydrogen ion concentration (pH) of 8-12.
Provided are: a gold precipitation accelerator which is for use in electroless gold plating, and which contains at least one type of alkali metal compound, wherein the alkali metal compound is other than compounds that contain only sodium as the alkali metal or that solely comprise a halide of an alkali metal, potassium sulfite, or potassium sodium tartrate; an electroless gold plating solution containing said gold precipitation accelerator; a gold plating method using same; a gold precipitation acceleration method; and the like.
To provide a composition for removing photoresist residue and/or polymer residue formed in a process for producing a semiconductor circuit element, and a removal method employing same. A composition for removing photoresist residue and/or polymer residue, the composition containing saccharin and water, and the pH being no greater than 9.7.
C11D 11/00 - Méthodes particulières pour la préparation de compositions contenant des mélanges de détergents
H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p.ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
C11D 3/00 - Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe
Provided are: an etching liquid composition which is capable of collectively etching a tungsten film and a titanium nitride film; and an etching method which uses this etching liquid composition. An etching liquid composition according to the present invention contains nitric acid and water, and is used for the purpose of collectively etching a tungsten film and a titanium nitride film.
H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique en utilisant des masques
C23F 1/26 - Compositions acides pour les métaux réfractaires
H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p.ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
47.
Long-term storage medium for culturing obligate anaerobic bacteria or microaerobic bacteria under aerobic environment, and method of detecting obligate anaerobic bacteria or microaerobic bacteria using said medium
[Problem] To provide a medium suitable for long-term storage, i.e., that ensures sufficient quality retention period, for growing obligate anaerobic bacteria or microaerobic bacteria under aerobic environment, and to provide a method of easily detecting obligate anaerobic bacteria or microaerobic bacteria using said medium.
[Means for solving the problem] A long-term storage medium comprising dithiothreitol and/or ascorbic acid as a reducing agent in a basal medium, for culturing obligate anaerobic bacteria or microaerobic bacteria under aerobic environment, and a method of detecting obligate anaerobic bacteria or microaerobic bacteria using said medium.
C12N 1/38 - Stimulation chimique de la croissance ou de l'activité par addition de composés chimiques qui ne sont pas des facteurs essentiels de croissance; Stimulation de la croissance par élimination d'un composé chimique
48.
Pentaarylbiimidazole compound and production method for said compound
In order to address the problems of conventional photochromic compounds, which are the insufficient coloring/discoloring speed and durability exhibited thereby and the large number of production steps, the present invention provides a photochromic compound that exhibits a high speed coloring/discoloring reaction and high durability while it is able to be synthesized in low cost, and that has industrial applicability. The compound of the present invention is characterized by the insertion of a diarylimidazolyl radical into the ortho position of an aryl group. The compound exhibits photochromic properties, and achieves a photochromic compound having both a high speed color switching reaction and high durability. Furthermore low cost synthesis is possible, and the photochromic compound has industrial applicability.
C08K 5/3447 - Cycles à cinq chaînons condensés avec des carbocycles
C07D 233/58 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 3 ou diazole-1, 3 hydrogéné, non condensés avec d'autres cycles comportant deux liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés aux atomes de carbone du cycle avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés aux atomes d'azote du cycle
C07D 233/64 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 3 ou diazole-1, 3 hydrogéné, non condensés avec d'autres cycles comportant deux liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des radicaux hydrocarbonés substitués, liés aux atomes de carbone du cycle, p.ex. histidine
Provided are: a gelling agent for producing a gel that has exceptional conductivity and durability, especially a gel for an aluminum electrolytic capacitor; a method for producing a gel using the gelling agent; and a gel produced using the gelling agent. A gelling agent including a polymer compound and surface-modified inorganic particles that have a group containing at least one selected from the group consisting of optionally substituted amino groups, optionally substituted aliphatic amino groups, and optionally substituted alicyclic amino groups, the gelling agent being capable of forming a network structure due to these forming onium salts.
C08F 20/06 - Acide acrylique; Acide méthacrylique; Leurs sels métalliques ou leurs sels d'ammonium
C08K 9/04 - Ingrédients traités par des substances organiques
C08L 25/18 - Homopolymères ou copolymères de monomères aromatiques contenant des éléments autres que le carbone et l'hydrogène
C08L 33/02 - Homopolymères ou copolymères des acides; Leurs sels métalliques ou d'ammonium
C08L 101/06 - Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés caractérisées par la présence de groupes déterminés contenant des atomes d'oxygène
H01G 11/56 - Condensateurs hybrides, c. à d. ayant des électrodes positive et négative différentes; Condensateurs électriques à double couche [EDL]; Procédés de fabrication desdits condensateurs ou de leurs composants Électrolytes Électrolytes solides, p.ex. gels; Additifs pour ceux-ci
50.
Dehydrogenation catalyst, and carbonyl compound and hydrogen production method using said catalyst
Objects of the present invention are to provide a novel dehydrogenation reaction catalyst, to provide a method that can produce a ketone, an aldehyde, and a carboxylic acid with high efficiency from an alcohol, and to provide a method for efficiently producing hydrogen from an alcohol, formic acid, or a formate, and they are accomplished by a catalyst containing an organometallic compound of Formula (1).
C07F 17/02 - Metallocènes de métaux des groupes 8, 9 ou 10 de la classification périodique
C07C 45/00 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogène; Préparation des chélates de ces composés
C07C 201/12 - Préparation de composés nitrés par des réactions ne créant pas de groupes nitro
B01J 7/02 - Appareillage pour la production de gaz par voie humide
C07C 51/16 - Préparation d'acides carboxyliques, de leurs sels, halogénures ou anhydrides par oxydation
C01B 3/06 - Production d'hydrogène ou de mélanges gazeux contenant de l'hydrogène par réaction de composés inorganiques comportant un hydrogène lié électropositivement, p.ex. de l'eau, des acides, des bases, de l'ammoniac, avec des agents réducteurs inorganiques
C01B 3/32 - Production d'hydrogène ou de mélanges gazeux contenant de l'hydrogène par réaction de composés organiques gazeux ou liquides avec des agents gazéifiants, p.ex. de l'eau, du gaz carbonique, de l'air
C01B 3/00 - Hydrogène; Mélanges gazeux contenant de l'hydrogène; Séparation de l'hydrogène à partir de mélanges en contenant; Purification de l'hydrogène
C01B 3/22 - Production d'hydrogène ou de mélanges gazeux contenant de l'hydrogène par décomposition de composés organiques gazeux ou liquides
C07B 41/06 - Formation ou introduction de groupes fonctionnels contenant de l'oxygène de groupes carbonyle
C07B 41/08 - Formation ou introduction de groupes fonctionnels contenant de l'oxygène de groupes carboxyle ou de leurs sels, halogénures ou anhydrides
C07J 13/00 - Stéroïdes normaux contenant du carbone, de l'hydrogène, un halogène, ou de l'oxygène, ayant une double liaison carbone-carbone à partir de ou vers la position 17
51.
METHOD FOR MANUFACTURING NIOBIC-ACID-BASED FERROELECTRIC THIN-FILM ELEMENT
This manufacturing method for a thin-film element using a niobic-acid-based ferroelectric that does not include lead is characterized by comprising: a step for forming a lower electrode film, wherein a lower electrode film is formed on a substrate; a step for forming a ferroelectric thin film, wherein a niobic-acid-based ferroelectric thin film is formed on the lower electrode film; a step for forming an etching mask pattern, wherein an etching mask is formed on the niobic-acid-based ferroelectric thin film so as to become a desired pattern; and a step for etching a ferroelectric thin film, wherein the desired pattern is microfabricated on the niobic-acid-based ferroelectric thin film by performing wet etching using an etching liquid that includes a predetermined chelating agent in an alkali aqueous solution and H2O2 aq. on the niobic-acid-based ferroelectric thin film. The predetermined chelating agent is at least one selected from EDTMP, NTMP, CyDTA, HEDP, GBMP, DTPMP and citric acid, and the alkali aqueous solution includes NH3 aq.
H01L 41/316 - Application de parties ou de corps piézo-électriques ou électrostrictifs sur un élément électrique ou sur un autre support par dépôt de couches piézo-électriques ou électrostrictives, p.ex. par impression par aérosol ou par sérigraphie par dépôt en phase vapeur
H02N 2/00 - Machines électriques en général utilisant l'effet piézo-électrique, l'électrostriction ou la magnétostriction
52.
ETCHANT COMPOSITION FOR MULTILAYERED METAL FILM OF COPPER AND MOLYBDENUM, METHOD OF ETCHING USING SAID COMPOSITION, AND METHOD FOR PROLONGING LIFE OF SAID COMPOSITION
Provided is an etchant composition for a multilayered metal film comprising both a layer comprising copper and a layer comprising molybdenum, the etchant composition: being capable of etching en bloc a multilayered metal film comprising a layer constituted of copper or an alloy including copper as the main component and a layer constituted of molybdenum or an alloy including molybdenum as the main component; being effective in preventing the molybdenum layer from being undercut; making it easy to regulate the component concentrations so as to accommodate the cross-sectional shape control and cross-section; and being stable. Also provided are a method of etching using the etchant composition and a method for prolonging the life of the etchant composition. The etchant composition according to the present invention is an etchant composition for use in etching en bloc a multilayered metal film comprising a layer constituted of copper or an alloy including copper as the main component and a layer constituted of molybdenum or an alloy including molybdenum as the main component, and comprises hydrogen peroxide, an organic acid, an amine compound, an azole, and a hydrogen peroxide stabilizer (no inorganic acid is contained therein).
Provided are: a composition for removing a photoresist residue and/or a polymer residue that is generated during the production process of a semiconductor circuit element; and a removal method which uses this composition. A composition for removing a photoresist residue and/or a polymer residue, which is characterized by containing saccharin and water and having a pH of 9.7 or less.
The purpose of the invention is to provide a novel organometallic compound that can be utilized as a catalyst having high generality, high activity, and excellent functional group selectivity. The invention pertains to a novel organometallic compound represented by general formula (1) that catalyzes a reductive amination reaction.
C07C 255/58 - Nitriles d'acides carboxyliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons d'un squelette carboné contenant des groupes cyano et des atomes d'azote, liés par des liaisons simples et n'étant pas liés de plus à d'autres hétéro-atomes, liés au squelette carboné
C07C 209/28 - Préparation de composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné par alkylation réductive, avec des composés carbonylés, d'ammoniac, d'amines ou de composés ayant des groupes réductibles en groupes amino par réduction avec d'autres agents réducteurs
C07F 15/00 - Composés contenant des éléments des groupes 8, 9, 10 ou 18 de la classification périodique
C07C 211/27 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone acycliques d'un squelette carboné non saturé contenant au moins un cycle aromatique à six chaînons ayant des groupes amino reliés au cycle aromatique à six chaînons par l'intermédiaire de chaînes carbonées saturées
C07C 211/29 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone acycliques d'un squelette carboné non saturé contenant au moins un cycle aromatique à six chaînons le squelette carboné étant substitué de plus par des atomes d'halogène ou par des groupes nitro ou nitroso
C07C 211/35 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons d'un squelette carboné saturé contenant uniquement des cycles non condensés
C07C 211/40 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons d'un squelette carboné non saturé contenant uniquement des cycles non condensés
C07C 211/42 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons d'un squelette carboné non saturé contenant des systèmes cycliques condensés avec des cycles aromatiques à six chaînons faisant partie des systèmes cycliques condensés
C07C 213/02 - Préparation de composés contenant des groupes amino et hydroxy, amino et hydroxy éthérifiés ou amino et hydroxy estérifiés liés au même squelette carboné par des réactions impliquant la formation de groupes amino à partir de composés contenant des groupes hydroxy ou des groupes hydroxy éthérifiés ou estérifiés
C07C 215/08 - Composés contenant des groupes amino et hydroxy liés au même squelette carboné ayant des groupes hydroxy et des groupes amino liés à des atomes de carbone acycliques du même squelette carboné le squelette carboné étant saturé et acyclique avec un seul groupe hydroxy et un seul groupe amino liés au squelette carboné
C07C 217/60 - Composés contenant des groupes amino et hydroxy éthérifiés liés au même squelette carboné ayant des groupes hydroxy éthérifiés liés à des atomes de carbone d'au moins un cycle aromatique à six chaînons et des groupes amino liés à des atomes de carbone acycliques ou à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six avec des groupes amino reliés au cycle aromatique à six chaînons, ou au système cyclique condensé contenant ce cycle, par l'intermédiaire de chaînes carbonées qui ne sont pas substituées de plus par des atomes d'oxygène liés par des liaisons simples reliés par l'intermédiaire de chaînes carbonées ayant deux atomes de carbone entre les groupes amino et le cycle aromatique à six chaînons ou le système cyclique condensé contenant ce cycle
C07C 227/08 - Formation de groupes amino dans des composés contenant des groupes carboxyle par des réactions d'addition ou de substitution, sans augmentation du nombre d'atomes de carbone dans le squelette carboné de l'acide par réaction d'ammoniac ou d'amines avec des acides contenant des groupes fonctionnels
C07C 227/32 - Préparation d'isomères optiques par synthèse stéréospécifique
C07C 229/14 - Composés contenant des groupes amino et carboxyle liés au même squelette carboné ayant des groupes amino et carboxyle liés à des atomes de carbone acycliques du même squelette carboné le squelette carboné étant acyclique et saturé ayant un seul groupe amino et un seul groupe carboxyle liés au squelette carboné l'atome d'azote du groupe amino étant lié de plus à des atomes de carbone acycliques ou à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons à des atomes de carbone de squelettes carbonés contenant des cycles
C07C 253/30 - Préparation de nitriles d'acides carboxyliques par des réactions n'impliquant pas la formation de groupes cyano
C07C 213/08 - Préparation de composés contenant des groupes amino et hydroxy, amino et hydroxy éthérifiés ou amino et hydroxy estérifiés liés au même squelette carboné par des réactions n'impliquant pas la formation de groupes amino, de groupes hydroxy ou de groupes hydroxy éthérifiés ou estérifiés
C07D 217/14 - Composés hétérocycliques contenant les systèmes cycliques de l'isoquinoléine ou de l'isoquinoléine hydrogénée avec des radicaux, substitués par des hétéro-atomes, liés aux atomes de carbone du cycle contenant l'azote autres que des radicaux aralkyle
C07D 277/28 - Radicaux substitués par des atomes d'azote
C07D 209/48 - Iso-indoles; Iso-indoles hydrogénés avec des atomes d'oxygène en positions 1 et 3, p.ex. phtalimide
C07D 213/38 - Radicaux substitués par des atomes d'azote liés par des liaisons simples comportant uniquement de l'hydrogène, ou des radicaux hydrocarbonés, liés à l'atome d'azote substituant
C07D 213/42 - Radicaux substitués par des atomes d'azote liés par des liaisons simples comportant des hétéro-atomes liés à l'atome d'azote substituant
B01J 31/18 - Catalyseurs contenant des hydrures, des complexes de coordination ou des composés organiques contenant des complexes de coordination contenant de l'azote, du phosphore, de l'arsenic ou de l'antimoine
C07B 43/04 - Formation ou introduction de groupes fonctionnels contenant de l'azote de groupes amino
55.
Dehydrogenation catalyst, and carbonyl compound and hydrogen production method using said catalyst
Objects of the present invention are to provide a novel dehydrogenation reaction catalyst, to provide a method that can produce a ketone, an aldehyde, and a carboxylic acid with high efficiency from an alcohol, and to provide a method for efficiently producing hydrogen from an alcohol, formic acid, or a formate, and they are accomplished by a catalyst containing an organometallic compound of Formula (1).
C01B 3/32 - Production d'hydrogène ou de mélanges gazeux contenant de l'hydrogène par réaction de composés organiques gazeux ou liquides avec des agents gazéifiants, p.ex. de l'eau, du gaz carbonique, de l'air
C01B 3/06 - Production d'hydrogène ou de mélanges gazeux contenant de l'hydrogène par réaction de composés inorganiques comportant un hydrogène lié électropositivement, p.ex. de l'eau, des acides, des bases, de l'ammoniac, avec des agents réducteurs inorganiques
C07C 45/00 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogène; Préparation des chélates de ces composés
C07F 17/02 - Metallocènes de métaux des groupes 8, 9 ou 10 de la classification périodique
C01B 3/00 - Hydrogène; Mélanges gazeux contenant de l'hydrogène; Séparation de l'hydrogène à partir de mélanges en contenant; Purification de l'hydrogène
C01B 3/22 - Production d'hydrogène ou de mélanges gazeux contenant de l'hydrogène par décomposition de composés organiques gazeux ou liquides
56.
PENTAARYLBIIMIDAZOLE COMPOUND AND PRODUCTION METHOD FOR SAID COMPOUND
In order to address the problems of conventional photochromic compounds, which are the insufficient coloring/discoloring speed and durability exhibited thereby and the large number of production steps, the present invention provides a photochromic compound that exhibits a high-speed coloring/discoloring reaction and high durability, that can be synthesized at low cost, and that has industrial applicability. The compound of the present invention is characterized by the insertion of a diarylimidazolyl radical into the ortho position of an ayrl group. The compound exhibits photochromic properties, and achieves a photochromic compound having both a high-speed coloring/discoloring reaction and high durability. Furthermore, low cost synthesis is possible, and the photochromic compound has industrial applicability.
C07D 233/64 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 3 ou diazole-1, 3 hydrogéné, non condensés avec d'autres cycles comportant deux liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des radicaux hydrocarbonés substitués, liés aux atomes de carbone du cycle, p.ex. histidine
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION HOKKAIDO UNIVERSITY (Japon)
Inventeur(s)
Katayama, Takeaki
Tsutsumi, Kunihiko
Murata, Kunihiko
Ohkuma, Takeshi
Arai, Noriyoshi
Abrégé
Methods are provided for producing an optically active secondary alcohol at a high optical purity by hydrogenating a substrate carbonyl compound at a high efficiency using as a catalyst a ruthenium complex bearing as a ligand certain optically active diphosphine compound and a readily synthesized amine compound. For example, aromatic ketones and heteroaromatic ketones are reacted with hydrogen and/or a hydrogen donating compound in the presence of the ruthenium complex.
C07C 41/26 - Préparation d'éthers par des réactions ne formant pas de liaisons sur l'oxygène de la fonction éther par introduction de groupes hydroxyle ou O-métal
C07C 29/145 - Préparation de composés comportant des groupes hydroxyle ou O-métal liés à un atome de carbone ne faisant pas partie d'un cycle aromatique à six chaînons par réduction d'un groupe fonctionnel contenant de l'oxygène de groupes contenant C=O, p.ex. —COOH de cétones avec de l'hydrogène ou des gaz contenant de l'hydrogène
B01J 31/18 - Catalyseurs contenant des hydrures, des complexes de coordination ou des composés organiques contenant des complexes de coordination contenant de l'azote, du phosphore, de l'arsenic ou de l'antimoine
A dried vitrigel membrane is produced by a method including the following steps of (1) a step of keeping a hydrogel in the inside of a wall surface mold with a shape the same as the desired shape disposed on a substrate, and discharging a part of free water within the hydrogel from a gap between the substrate and the wall surface mold; (2) a step of removing the wall surface mold from the top of the substrate; (3) a step of drying the hydrogel to remove the residual free water, thereby fabricating a vitrified dried hydrogel; (4) a step of rehydrating the dried hydrogel to fabricate a vitrigel membrane; and (5) a step of redrying the vitrigel membrane to remove free water, thereby fabricating a vitrified dried vitrigel membrane.
B29C 39/02 - Moulage par coulée, c. à d. en introduisant la matière à mouler dans un moule ou entre des surfaces enveloppantes sans pression significative de moulage; Appareils à cet effet pour la fabrication d'objets de longueur définie, c. à d. d'objets séparés
B29C 41/02 - Façonnage par revêtement d'un moule, noyau ou autre support, c. à d. par dépôt de la matière à mouler et démoulage de l'objet formé; Appareils à cet effet pour la fabrication d'objets de longueur définie, c. à d. d'objets séparés
C12N 5/00 - Cellules non différenciées humaines, animales ou végétales, p.ex. lignées cellulaires; Tissus; Leur culture ou conservation; Milieux de culture à cet effet
C12M 1/12 - Appareillage pour l'enzymologie ou la microbiologie avec des moyens de stérilisation, filtration ou dialyse
59.
METHOD FOR PRODUCING NOVEL ORGANOMETALLIC COMPLEX AND AMINE COMPOUND
The purpose of the invention is to provide a novel organometallic compound that can be utilized as a catalyst having high generality, high activity, and excellent functional group selectivity. The invention pertains to a novel organometallic compound represented by general formula (1) that catalyzes a reductive amination reaction.
C07C 209/28 - Préparation de composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné par alkylation réductive, avec des composés carbonylés, d'ammoniac, d'amines ou de composés ayant des groupes réductibles en groupes amino par réduction avec d'autres agents réducteurs
C07C 211/27 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone acycliques d'un squelette carboné non saturé contenant au moins un cycle aromatique à six chaînons ayant des groupes amino reliés au cycle aromatique à six chaînons par l'intermédiaire de chaînes carbonées saturées
C07C 211/29 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone acycliques d'un squelette carboné non saturé contenant au moins un cycle aromatique à six chaînons le squelette carboné étant substitué de plus par des atomes d'halogène ou par des groupes nitro ou nitroso
C07C 211/35 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons d'un squelette carboné saturé contenant uniquement des cycles non condensés
C07C 211/40 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons d'un squelette carboné non saturé contenant uniquement des cycles non condensés
C07C 211/42 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons d'un squelette carboné non saturé contenant des systèmes cycliques condensés avec des cycles aromatiques à six chaînons faisant partie des systèmes cycliques condensés
C07C 213/02 - Préparation de composés contenant des groupes amino et hydroxy, amino et hydroxy éthérifiés ou amino et hydroxy estérifiés liés au même squelette carboné par des réactions impliquant la formation de groupes amino à partir de composés contenant des groupes hydroxy ou des groupes hydroxy éthérifiés ou estérifiés
C07C 215/08 - Composés contenant des groupes amino et hydroxy liés au même squelette carboné ayant des groupes hydroxy et des groupes amino liés à des atomes de carbone acycliques du même squelette carboné le squelette carboné étant saturé et acyclique avec un seul groupe hydroxy et un seul groupe amino liés au squelette carboné
C07C 217/60 - Composés contenant des groupes amino et hydroxy éthérifiés liés au même squelette carboné ayant des groupes hydroxy éthérifiés liés à des atomes de carbone d'au moins un cycle aromatique à six chaînons et des groupes amino liés à des atomes de carbone acycliques ou à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six avec des groupes amino reliés au cycle aromatique à six chaînons, ou au système cyclique condensé contenant ce cycle, par l'intermédiaire de chaînes carbonées qui ne sont pas substituées de plus par des atomes d'oxygène liés par des liaisons simples reliés par l'intermédiaire de chaînes carbonées ayant deux atomes de carbone entre les groupes amino et le cycle aromatique à six chaînons ou le système cyclique condensé contenant ce cycle
C07C 227/08 - Formation de groupes amino dans des composés contenant des groupes carboxyle par des réactions d'addition ou de substitution, sans augmentation du nombre d'atomes de carbone dans le squelette carboné de l'acide par réaction d'ammoniac ou d'amines avec des acides contenant des groupes fonctionnels
C07C 227/32 - Préparation d'isomères optiques par synthèse stéréospécifique
C07C 229/14 - Composés contenant des groupes amino et carboxyle liés au même squelette carboné ayant des groupes amino et carboxyle liés à des atomes de carbone acycliques du même squelette carboné le squelette carboné étant acyclique et saturé ayant un seul groupe amino et un seul groupe carboxyle liés au squelette carboné l'atome d'azote du groupe amino étant lié de plus à des atomes de carbone acycliques ou à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons à des atomes de carbone de squelettes carbonés contenant des cycles
C07C 253/30 - Préparation de nitriles d'acides carboxyliques par des réactions n'impliquant pas la formation de groupes cyano
C07C 255/58 - Nitriles d'acides carboxyliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons d'un squelette carboné contenant des groupes cyano et des atomes d'azote, liés par des liaisons simples et n'étant pas liés de plus à d'autres hétéro-atomes, liés au squelette carboné
C07D 213/38 - Radicaux substitués par des atomes d'azote liés par des liaisons simples comportant uniquement de l'hydrogène, ou des radicaux hydrocarbonés, liés à l'atome d'azote substituant
C07D 213/42 - Radicaux substitués par des atomes d'azote liés par des liaisons simples comportant des hétéro-atomes liés à l'atome d'azote substituant
C07D 217/14 - Composés hétérocycliques contenant les systèmes cycliques de l'isoquinoléine ou de l'isoquinoléine hydrogénée avec des radicaux, substitués par des hétéro-atomes, liés aux atomes de carbone du cycle contenant l'azote autres que des radicaux aralkyle
C07D 277/28 - Radicaux substitués par des atomes d'azote
The purpose of the present invention is to provide a cleaning liquid composition useful in cleaning substrates, etc., which have undergone treatment such as chemical mechanical polishing (CMP) in a process for manufacturing electronic devices such as semiconductor elements. This cleaning liquid composition for cleaning substrates having Cu wiring includes one or more basic compounds and one or more heteromonocyclic aromatic compounds containing a nitrogen atom, and has a hydrogen ion concentration (pH) of 8-11.
[Problem]
The present invention aims to provide a novel organometallic compound that can be used as a general-use highly active catalyst with superior selectivity for functional groups.
[Means for Solving Problem]
The present invention relates to an organometallic compound having a novel specific structure of general formula (1):
and to a general-use highly active catalyst used in reductive amination reaction with superior selectivity for functional groups that comprises said organometallic compound, and to a process for preparing amine compounds by reductive amination reaction using said catalyst.
C07F 15/00 - Composés contenant des éléments des groupes 8, 9, 10 ou 18 de la classification périodique
B01J 31/12 - Catalyseurs contenant des hydrures, des complexes de coordination ou des composés organiques contenant des composés organiques ou des hydrures métalliques contenant des composés organométalliques ou des hydrures métalliques
C07C 209/78 - Préparation de composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné à partir d'amines, par des réactions n'impliquant pas de groupes amino, p.ex. réduction d'amines non saturées, aromatisation ou substitution du squelette carboné à partir de composés carbonylés, p.ex. à partir de formaldéhyde, et d'amines ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons, avec formation de méthylène-diarylamines
An aim of the present invention is to provide a compound which can reversibly change the enzyme inhibitory activity in response to light, an enzyme inhibitor comprising the compound and a method of controlling an enzyme substrate reaction using the inhibitor. The above-mentioned problem is solved by providing a compound represented by formula (1).
The purposes of the present invention are: to provide a novel catalyst for a dehydrogenation reaction; to provide a method whereby high-efficiency production is possible of ketone, aldehyde, and carboxylic acid, from alcohols; and to provide a method for efficient production of hydrogen from alcohol, formic acid, or formate. Said purposes are achieved using a catalyst including an organic metal compound indicated by formula (1).
C07C 45/39 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogène; Préparation des chélates de ces composés par oxydation avec l'oxygène moléculaire de groupes fonctionnels C—O— en groupes C=O d'un groupe hydroxyle secondaire
C07C 45/38 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogène; Préparation des chélates de ces composés par oxydation avec l'oxygène moléculaire de groupes fonctionnels C—O— en groupes C=O d'un groupe hydroxyle primaire
C07C 47/02 - Composés saturés comportant des groupes —CHO liés à des atomes de carbone acycliques ou à de l'hydrogène
C07C 47/32 - Composés saturés comportant des groupes —CHO liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons d'un cycle à six chaînons
C07C 47/52 - Composés comportant des groupes —CHO liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons
C07C 49/04 - Composés saturés comportant des groupes cétone liés à des atomes de carbone acycliques
C07C 49/213 - Composés non saturés comportant des groupes cétone liés à des atomes de carbone acycliques contenant des cycles aromatiques à six chaînons
C07C 49/395 - Composés saturés comportant un groupe cétone faisant partie d'un cycle d'un cycle à cinq chaînons
C07C 49/403 - Composés saturés comportant un groupe cétone faisant partie d'un cycle d'un cycle à six chaînons
The purposes of the present invention are: to provide a novel catalyst for a dehydrogenation reaction; to provide a method whereby high-efficiency production is possible of ketone, aldehyde, and carboxylic acid, from alcohols; and to provide a method for efficient production of hydrogen from alcohol, formic acid, or formate. Said purposes are achieved using a catalyst including an organic metal compound indicated by formula (1).
C07C 45/39 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogène; Préparation des chélates de ces composés par oxydation avec l'oxygène moléculaire de groupes fonctionnels C—O— en groupes C=O d'un groupe hydroxyle secondaire
C07C 45/38 - Préparation de composés comportant des groupes C=O liés uniquement à des atomes de carbone ou d'hydrogène; Préparation des chélates de ces composés par oxydation avec l'oxygène moléculaire de groupes fonctionnels C—O— en groupes C=O d'un groupe hydroxyle primaire
C07C 47/02 - Composés saturés comportant des groupes —CHO liés à des atomes de carbone acycliques ou à de l'hydrogène
C07C 47/32 - Composés saturés comportant des groupes —CHO liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons d'un cycle à six chaînons
C07C 47/52 - Composés comportant des groupes —CHO liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons
C07C 49/04 - Composés saturés comportant des groupes cétone liés à des atomes de carbone acycliques
C07C 49/213 - Composés non saturés comportant des groupes cétone liés à des atomes de carbone acycliques contenant des cycles aromatiques à six chaînons
C07C 49/395 - Composés saturés comportant un groupe cétone faisant partie d'un cycle d'un cycle à cinq chaînons
C07C 49/403 - Composés saturés comportant un groupe cétone faisant partie d'un cycle d'un cycle à six chaînons
[Purpose]
To provide a cleaning liquid composition that has excellent removability for metallic impurities and particulates, does not cause corrosion of Cu, and can clean a semiconductor substrate having copper wiring in a production process for an electronic device such as a semiconductor device.
[Solution means]
A cleaning liquid composition for cleaning a semiconductor substrate having copper wiring, the cleaning liquid composition containing one or more types of basic compound containing no metal, and one or more types of phosphonic acid-based chelating agent, and having a hydrogen ion concentration (pH) of 8 to 10.
C11D 7/32 - Composés organiques contenant de l'azote
C11D 7/36 - Composés organiques contenant du phosphore
C11D 11/00 - Méthodes particulières pour la préparation de compositions contenant des mélanges de détergents
C23G 1/18 - Nettoyage ou décapage de matériaux métalliques au moyen de solutions ou de sels fondus avec des solutions alcalines avec emploi d'inhibiteurs d'inhibiteurs organiques
The purpose of the present invention is to provide an etching liquid and an etching method in which a silicon layer can be etched at a practical speed using wet etching, in which low contents of a nitrogen-containing compound and a fluorine compound are used, and minimize the amount of side etching, whereby a satisfactory etching shape can be obtained. An etching liquid for etching a silicon layer, the etching liquid being characterized in containing 0.1-30 wt% of a nitrogen-containing compound, a fluorine compound, and one or more types of acidic solvent selected from the group consisting of a phosphorous-containing compound, a sulfur-containing inorganic compound, and an organic compound having a sulfo group.
The purpose of the present invention is to provide: a gel which can overcome the disadvantages of conventional techniques, has high electrical conductivity, and does not cause the corrosion of a metal part of an electrochemical device or the like which is in contact with the gel; a gelling agent which can be used for the production of the gel; a gel production process which can produce the gel readily; and a crosslinking agent which can be used in the production of the gel. A gel produced using a gelling agent that comprises a specific crosslinking agent and a polymeric compound having an atom capable of forming an onium salt is found, whereby the purpose can be achieved.
NATIONAL INSTITUTE OF AGROBIOLOGICAL SCIENCES (Japon)
Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha (Japon)
Inventeur(s)
Takezawa Toshiaki
Yamaguchi Hiroyuki
Kuroyama Hiroyuki
Sawaguchi Tomoya
Abrégé
Provided is a monocameral cell culture chamber in which a dried vitrigel film is coated and secured to one open end surface of a tubular frame. Further provided is a bicameral cell culture chamber in which two tubular frames having the same planar cross-sectional shape are adhesively secured in a state where a dried vitrigel film is interposed between the opposite-facing open end surfaces of the frames, and the first and second chambers are formed with the dried vitrigel film interposed therebetween.
C12M 3/00 - Appareillage pour la culture de tissus, de cellules humaines, animales ou végétales, ou de virus
C12N 5/00 - Cellules non différenciées humaines, animales ou végétales, p.ex. lignées cellulaires; Tissus; Leur culture ou conservation; Milieux de culture à cet effet
69.
Electroless gold plating solution for forming fine gold structure, method of forming fine gold structure using same, and fine gold structure formed using same
An electroless gold plating solution with which one or more openings formed in a resist overlying a substrate can be filled in a short time, the openings having a width on the order of micrometer, in particular, 100 μm or smaller, in terms of the width of the exposed substrate area, and having a height of 3 μm or larger. The electroless gold plating solution contains a deposition accelerator for deposition in fine areas, and a microfine pattern of 100 μm or finer is formed therefrom.
H01L 23/48 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p.ex. fils de connexion ou bornes
H05K 3/18 - Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés dans lesquels le matériau conducteur est appliqué au support isolant de manière à former le parcours conducteur recherché utilisant la technique de la précipitation pour appliquer le matériau conducteur
C23C 18/16 - Revêtement chimique par décomposition soit de composés liquides, soit de solutions des composés constituant le revêtement, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement; Dépôt par contact par réduction ou par substitution, p.ex. dépôt sans courant électrique
C23C 18/44 - Revêtement avec des métaux nobles en utilisant des agents réducteurs
Provided are a photoresist residue and polymer residue removing liquid composition, and a method of removing the residue used therewith, for removing photoresist residue and polymer residue produced during a process of manufacturing a semiconductor circuit element having metallic wiring. Specifically, the composition does not contain nitrogen-containing organic hydroxyl compounds, ammonia or fluorine compounds, and contains an aliphatic polycarboxylic acid having a melting point of 25 °C or higher with an excellent residue removing property and having a metallic oxide main component as the residue removing component. The photoresist residue and polymer residue removing liquid composition, and the method of removing the residue used therewith, is capable of preventing the aliphatic polycarboxylic acid from being recrystallized by evaporation of water after a solution has adhered around a cleaning device liquid ejecting nozzle or a cleaning tank and a chamber. In the photoresist residue and polymer residue removing liquid composition containing the aliphatic polycarboxylic acid with a melting point of 25 °C or higher, the removing liquid contains an organic solvent that is miscible with water and has a vapor pressure of 17 mm Hg or less at 20 °C and a hydroxyl group within the structure.
NATIONAL INSTITUTE OF AGROBIOLOGICAL SCIENCES (Japon)
Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha (Japon)
Inventeur(s)
Takezawa Toshiaki
Oshikata Ayumi
Kuroyama Hiroyuki
Sawaguchi Tomoya
Yamaguchi Hiroyuki
Abrégé
A dried vitrigel film is produced by a process comprising the following steps: (1) a step in which a hydrogel is held in a casting frame which has been disposed on a substrate and has the same shape as the desired shape, and some of the free water in the hydrogel is caused to flow out through the gap between the substrate and the casting frame; (2) a step in which the casting frame is removed from the substrate; (3) a step in which the hydrogel is dried to remove the remaining free water therefrom and thereby produce a vitrified dried hydrogel; (4) a step in which the dried hydrogel is rehydrated to produce a vitrigel film; and (5) a step in which the vitrigel film is redried to remove the free water therefrom and thereby produce a vitrified dried vitrigel film.
The problem to be resolved by the present invention is to provide a method for efficiently synthesizing optically active lower aliphatic alcohols that have difficulty in separation from organic solvents, without using a special reactor.
The present invention relates to a method for producing an optically active aliphatic alcohol having a fluorine atom at α position, wherein an optically active alcohol is produced by reacting an aliphatic ketone having a fluorine atom at α position in water using a formate, under the presence of an asymmetric catalyst represented by general formula (1) and an acid.
C07C 29/143 - Préparation de composés comportant des groupes hydroxyle ou O-métal liés à un atome de carbone ne faisant pas partie d'un cycle aromatique à six chaînons par réduction d'un groupe fonctionnel contenant de l'oxygène de groupes contenant C=O, p.ex. —COOH de cétones
73.
Asymmetric catalyst and process for preparing optically active alcohols using the same
The present invention provides an organic metal compound, a ligand, an asymmetric catalyst, and a process for preparing optically-active alcohols using the asymmetric catalyst. The organic metal compound of the present invention is expressed by the following general formula (1):
2 are both a phenyl group.
C07F 15/00 - Composés contenant des éléments des groupes 8, 9, 10 ou 18 de la classification périodique
C07C 27/00 - Procédés impliquant la production simultanée de plusieurs classes de composés contenant de l'oxygène
C07C 303/00 - Préparation d'esters ou d'amides d'acides sulfuriques; Préparation d'acides sulfoniques ou de leurs esters, halogénures, anhydrides ou amides
74.
Organic metal complex and process for preparing amine compound
[Problem]
The present invention aims to provide a novel organometallic compound that can be used as a general-use highly active catalyst with superior selectivity for functional groups.
[Means for Solving Problem]
The present invention relates to an organometallic compound having a novel specific structure of general formula (1):
and to a general-use highly active catalyst used in reductive amination reaction with superior selectivity for functional groups that comprises said organometallic compound, and to a process for preparing amine compounds by reductive amination reaction using said catalyst.
C07F 15/00 - Composés contenant des éléments des groupes 8, 9, 10 ou 18 de la classification périodique
B01J 31/12 - Catalyseurs contenant des hydrures, des complexes de coordination ou des composés organiques contenant des composés organiques ou des hydrures métalliques contenant des composés organométalliques ou des hydrures métalliques
75.
ELECTROLESS GOLD PLATING SOLUTION FOR FORMING FINE GOLD STRUCTURE, METHOD OF FORMING FINE GOLD STRUCTURE USING SAME, AND FINE GOLD STRUCTURE FORMED USING SAME
An electroless gold plating solution with which one or more openings formed in a resist overlying a substrate can be filled in a short time, the openings having a width on the order of micrometer, in particular, 100 µm or smaller, in terms of the width of the exposed substrate area, and having a height of 3 µm or larger. The electroless gold plating solution contains a deposition accelerator for deposition in fine areas, and a microfine pattern of 100 µm or finer is formed thereform.
C23C 18/44 - Revêtement avec des métaux nobles en utilisant des agents réducteurs
H01L 21/288 - Dépôt de matériaux conducteurs ou isolants pour les électrodes à partir d'un liquide, p.ex. dépôt électrolytique
H05K 3/18 - Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés dans lesquels le matériau conducteur est appliqué au support isolant de manière à former le parcours conducteur recherché utilisant la technique de la précipitation pour appliquer le matériau conducteur
Disclosed is a microcrystalline-to-amorphous gold alloy-plated film having excellent electrical properties and excellent mechanical properties. Physical properties including both the advantageous properties of a crystalline structure and the advantageous properties of an amorphous structure can be obtained by allowing a microcrystalline phase and an amorphous phase to exist in a mixed state at a specific ratio. The average particle diameter of the microcrystals is 30 nm or smaller, the volume fraction of the microcrystals is 10 to 90%, the knoop hardness is Hk 180 or more, the specific resistivity is 200 μΩ·cm or less. In the film, hardness and abrasion resistance can be improved while maintaining a good specific resistivity value and chemical stability both inherent to gold at practically insignificant levels. Therefore, the film is useful as a material for connecting an electric or electronic component such as a connector and a relay.
Disclosed are etching solution compositions that comprise fluorine compounds and iron ions, which are used for bulk etching of metal laminate films wherein a layer comprising aluminum or an aluminum alloy is laminated on top and a layer comprising titanium or a titanium alloy on bottom, and an etching method using said etching solution compositions.
H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique en utilisant des masques
C23F 1/20 - Compositions acides pour l'aluminium ou ses alliages
C23F 1/26 - Compositions acides pour les métaux réfractaires
G02F 1/1368 - Cellules à adressage par une matrice active dans lesquelles l'élément de commutation est un dispositif à trois électrodes
78.
NOVEL CROSSLINKED HEXAARYL BISIMIDAZOLE COMPOUND AND DERIVATIVE THEREOF, METHOD FOR PRODUCING THE COMPOUND AND PRECURSOR COMPOUND TO BE USED IN THE PRODUCTION METHOD
Provided is a crosslinked hexaaryl bisimidazole compound which can achieve photochromic characteristics, i.e., visually showing decoloring simultaneously with the stop of light irradiation, and enables precise control of color tone, density and so on in coloring. Also provided are a method for producing the aforesaid compound whereby the degrees of freedom in molecular design and synthesis can be increased, and a precursor compound to be used in the production method.
C07D 233/58 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 3 ou diazole-1, 3 hydrogéné, non condensés avec d'autres cycles comportant deux liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés aux atomes de carbone du cycle avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés aux atomes d'azote du cycle
C07F 7/10 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si azotés
Nagoya Industrial Science Research Institute (Japon)
Inventeur(s)
Noyori, Ryoji
Okuma, Takeshi
Tsutsumi, Kunihiko
Utsumi, Noriyuki
Murata, Kunihiko
Katayama, Takeaki
Abrégé
A novel ruthenium complex which is a highly efficient catalyst useful for the production of optically active 3-quinuclidinols, and a process for production of optically active 3-quinuclidinols using the ruthenium complex as a catalyst, where the optically active 3-quinuclidinols are useful as an optically active, physiologically active compound utilized in medicines and agrichemicals or as a synthetic intermediate such as a liquid crystal material.
C07F 15/00 - Composés contenant des éléments des groupes 8, 9, 10 ou 18 de la classification périodique
C07D 453/02 - Composés hétérocycliques contenant des systèmes cycliques quinuclidine ou isoquinuclidine, p.ex. alcaloïdes de la quinine contenant des systèmes cycliques quinuclidine sans autre condensation
Provided is an etching solution composition for selectively etching a metal film, which is composed of Al, Al alloy or the like and is arranged on an amorphous oxide film, from a laminated film including the metal film and an amorphous oxide film of various types. The etching solution composition is used for selectively etching the metal film from the laminated film which includes the amorphous oxide film and the metal film composed of Al, Al alloy, Cu, Cu alloy, Ag or Ag alloy, and is composed of an aqueous solution containing an alkali.
Provided is a liquid composition for, at a low temperature in a short time, removing a photoresist residue and a polymer residue generated in a semiconductor circuit element manufacturing process. A residue removing method using such composition is also provided. The composition removes the photoresist residue and/or the polymer residue generated in the manufacturing process of a semiconductor circuit element having a metal wiring. The composition includes a fluorine compound of 0.5-3.0 mass% and water not over 30 mass%, and has a pH of 4 or less.
G03F 7/42 - Elimination des réserves ou agents à cet effet
H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
H01L 21/304 - Traitement mécanique, p.ex. meulage, polissage, coupe
H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p.ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
82.
POSITIVE RESIST PROCESSING LIQUID COMPOSITION AND LIQUID DEVELOPER
Disclosed is a positive resist processing liquid composition which is composed of an aqueous solution containing a quaternary ammonium hydroxide represented by the following general formula (I). In the formula, R1 and R3 independently represent a methyl group, and R2 represents an alkyl group having 12-18 carbon atoms.
Disclosed is an iodine-based etching solution for etching a material wherein palladium and gold coexist. This etching solution contains at least one additive selected from the group consisting of nitrogen-containing five-membered ring compounds, alcohol compounds, amide compounds, ketone compounds, thiocyanic acid compounds, amine compounds and imide compounds. The etching rate ratio between palladium and gold (etching rate of palladium/etching rate of gold) is not less than 1.
NAGOYA INDUSTRIAL SCIENCE RESEARCH INSTITUTE (Japon)
Inventeur(s)
Utsumi, Noriyuki
Murata, Kunihiko
Tsutsumi, Kunihiko
Katayama, Takeaki
Ohkuma, Takeshi
Noyori, Ryoji
Abrégé
An optically active alcohol is produced by incorporating in a solvent a ketone compound together with a Lewis acid and a ruthenium complex of the formula: and mixing them together in the presence of hydrogen to thereby hydrogenate the ketone compound.
B01J 31/26 - Catalyseurs contenant des hydrures, des complexes de coordination ou des composés organiques contenant en outre des composés métalliques inorganiques non prévus dans les groupes
C07C 29/149 - Préparation de composés comportant des groupes hydroxyle ou O-métal liés à un atome de carbone ne faisant pas partie d'un cycle aromatique à six chaînons par réduction d'un groupe fonctionnel contenant de l'oxygène de groupes contenant C=O, p.ex. —COOH d'acides carboxyliques ou de leurs dérivés avec de l'hydrogène ou des gaz contenant de l'hydrogène
C07C 33/20 - Alcools monohydroxyliques ne contenant que des cycles aromatiques à six chaînons dans la partie cyclique monocycliques
C07C 35/32 - Composés comportant au moins un groupe hydroxyle ou O-métal lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons polycycliques, avec au moins un groupe hydroxyle lié à un système cyclique condensé le groupe hydroxyle étant sur un système cyclique condensé à deux cycles le système cyclique condensé étant un système [4.3.0], p.ex. indénols
C07D 311/22 - Benzo [b] pyrannes non hydrogénés dans le carbocycle avec des atomes d'oxygène ou de soufre liés directement en position 4
85.
SULFONATE CATALYST AND PROCESS FOR PRODUCING ALCOHOL COMPOUND THEREWITH
NAGOYA INDUSTRIAL SCIENCE RESEARCH INSTITUTE (Japon)
Inventeur(s)
Utsumi, Noriyuki
Murata, Kunihiko
Tsutsumi, Kunihiko
Katayama, Takeaki
Ohkuma, Takeshi
Noyori, Ryoji
Abrégé
An optically active alcohol is produced by incorporating in a solvent a ketone compound and a sulfonate catalyst of the formula: and mixing them together in the presence of hydrogen to thereby hydrogenate the ketone compound.
C07C 29/149 - Préparation de composés comportant des groupes hydroxyle ou O-métal liés à un atome de carbone ne faisant pas partie d'un cycle aromatique à six chaînons par réduction d'un groupe fonctionnel contenant de l'oxygène de groupes contenant C=O, p.ex. —COOH d'acides carboxyliques ou de leurs dérivés avec de l'hydrogène ou des gaz contenant de l'hydrogène
C07C 33/20 - Alcools monohydroxyliques ne contenant que des cycles aromatiques à six chaînons dans la partie cyclique monocycliques
C07C 33/46 - Alcools non saturés halogénés ne contenant que des cycles aromatiques à six chaînons dans la partie cyclique
C07C 35/32 - Composés comportant au moins un groupe hydroxyle ou O-métal lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons polycycliques, avec au moins un groupe hydroxyle lié à un système cyclique condensé le groupe hydroxyle étant sur un système cyclique condensé à deux cycles le système cyclique condensé étant un système [4.3.0], p.ex. indénols
C07D 311/22 - Benzo [b] pyrannes non hydrogénés dans le carbocycle avec des atomes d'oxygène ou de soufre liés directement en position 4
86.
SULFONATE CATALYST AND PROCESS FOR PRODUCING ALCOHOL COMPOUND WITH THE SAME
NAGOYA INDUSTRIAL SCIENCE RESEARCH INSTITUTE (Japon)
Inventeur(s)
Utsumi, Noriyuki
Murata, Kunihiko
Tsutsumi, Kunihiko
Katayama, Takeaki
Watanabe, Masahito
Ohkuma, Takeshi
Noyori, Ryoji
Abrégé
The sulfonate catalyst represented by the following formula and a ketone compound are added to a solvent and the ingredients are mixed together in the presence of hydrogen. Thus, the ketone compound is hydrogenated to produce an optically active alcohol.
C07C 29/145 - Préparation de composés comportant des groupes hydroxyle ou O-métal liés à un atome de carbone ne faisant pas partie d'un cycle aromatique à six chaînons par réduction d'un groupe fonctionnel contenant de l'oxygène de groupes contenant C=O, p.ex. —COOH de cétones avec de l'hydrogène ou des gaz contenant de l'hydrogène
C07C 33/26 - Alcools polyhydroxyliques ne contenant que des cycles aromatiques à six chaînons dans la partie cyclique
C07C 33/46 - Alcools non saturés halogénés ne contenant que des cycles aromatiques à six chaînons dans la partie cyclique
C07C 35/32 - Composés comportant au moins un groupe hydroxyle ou O-métal lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons polycycliques, avec au moins un groupe hydroxyle lié à un système cyclique condensé le groupe hydroxyle étant sur un système cyclique condensé à deux cycles le système cyclique condensé étant un système [4.3.0], p.ex. indénols
C07C 37/00 - Préparation de composés comportant des groupes hydroxyle ou O-métal liés à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons
C07C 39/11 - Hydroxybenzènes alkylés contenant en outre des groupes hydroxyle liés acycliquement, p.ex. saligénol
C07C 41/00 - Préparation d'éthers; Préparation de composés comportant des groupes , des groupes ou des groupes
C07C 43/23 - Ethers une liaison sur l'oxygène de la fonction éther étant sur un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons contenant des groupes hydroxyle ou O-métal
C07C 67/317 - Préparation d'esters d'acides carboxyliques par modification de la partie acide de l'ester sans introduction d'un groupe ester par hydrogénolyse de groupes fonctionnels
C07C 69/732 - Esters d'acides carboxyliques dont le groupe carboxyle estérifié est lié à un atome de carbone acyclique et dont l'un des groupes OH, O-métal, —CHO, céto, éther, acyloxy, des groupes , des groupes ou des groupes se trouve dans la partie acide d'acides non saturés d'acides hydroxycarboxyliques non saturés
C07C 253/30 - Préparation de nitriles d'acides carboxyliques par des réactions n'impliquant pas la formation de groupes cyano
C07C 255/53 - Nitriles d'acides carboxyliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons d'un squelette carboné contenant des groupes cyano et des groupes hydroxy liés au squelette carboné
C07D 311/22 - Benzo [b] pyrannes non hydrogénés dans le carbocycle avec des atomes d'oxygène ou de soufre liés directement en position 4
87.
PROCESS FOR PRODUCTION OF OPTICALLY ACTIVE QUINUCLIDINOL
NAGOYA INDUSTRIAL SCIENCE RESEARCH INSTITUTE (Japon)
Inventeur(s)
Noyori, Ryoji
Okuma, Takeshi
Tsutsumi, Kunihiko
Utsumi, Noriyuki
Murata, Kunihiko
Katayama, Takeaki
Abrégé
A novel ruthenium complex which is a highly efficient catalyst useful for the production of an optically active 3-quinuclidinol, and a process for production of an optically active 3-quinuclidinol using the ruthenium complex as a catalyst, where the optically active 3-quinuclidinol is useful as an optically active, physiologically active compound utilized in medicines and agrichemicals or as a synthetic intermediate such as a liquid crystal material.
C07D 453/02 - Composés hétérocycliques contenant des systèmes cycliques quinuclidine ou isoquinuclidine, p.ex. alcaloïdes de la quinine contenant des systèmes cycliques quinuclidine sans autre condensation
C07F 15/00 - Composés contenant des éléments des groupes 8, 9, 10 ou 18 de la classification périodique
