Produits et services

Gases for general industrial use, namely, 1,1,1,2-tetrafluoroethane; 1,1,1-trichioro-2,2,2-trifluoroethane; 1,1,1-trichloroethane; 1,1,2,2-tetrachloroethane; 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane; 1,1,2-trichloroethane; 1,1-dichloroethylene; 1,1-difluoroethane; 1,2-dichiorotetrafluoroethane; 1,3 butadiene; 1-butene; 1-chloro-2-propanol; 1-chloropropane; 1-hexene; 1-octene; 1-pentene; 2,2,4-trimethylpentane; 2,3-dimethylbutane; 2,4-dimethylpentane; 2,5-dimethyithiophene; 2-ethylbutene-1; 2-hexene; 2-methyl butraldehyde; 2-methyl-1-butene; 2-methyl-2-butene; 2-methylbutane; 2-methyihexane; 2-methylpentane; 2-methyithiophene; 2-pentene; 2-propanol; 3,3-dimethyl-1-butene; 3-methyl-1-butene; 3-methylpentane; 4-methyl-1-pentene; 4-vinylcyclohexene; carbon monoxide; carbon dioxide and nitrogen; ethanol in air; acetaldehyde; acetone; acetonitrile; acetylacetone; acetylene; acrolein; acrylonitrile; acrylonitrile; compressed air; allene; ammonia; antimony pentafluoride; argon; argon and carbon dioxide mixture; argon and helium mixture; argon and oxygen mixture; arsenic fluoride; arsenic pentafluoride; arsine; benzene; benzoic acid; benzyl-D7 chionde; bis, 2-methoxyethyl adipate; boron trichloride; boron trifluoride; bromine pentafluoride; bromine trifluoride; bromochiorodifluoromethane; bromotrifluoroethylene; butadiene; butyl benzene; butyl mercaptan; butyl nitrate; calibration gas; carbon dioxide; carbon dioxide in argon and helium mixture; carbon disulfide; carbon monoxide; carbon monoxide in air; carbon monoxide in nitrogen; carbontetrachloride; carbonyl fluoride; carbonyl sulfide; alpha-hydro-omega-hydroxy-poly(oxy-1,2-ethanediyl); chlorine; chlorine trifluoride; multi component mixture containing volatile organics in trace quantities with balance gas nitrogen; chlorobenzene; chlorodifluoromethane; chloroform; chloroiodomethane; chloropentafluoroethane; chlorotrifluoromethane; cinnamaldehyde; cis-1,2-dichloroethylene; cis-2-butene; cis-2-pentene; cumene; cyanogen; cyanogen chloride; cyclohexane; cyclohexanone; cyclopentane; cyclopropane; deuterium; diborane; dibromomethane; dibutyl ether; dichlorodifluoromethane; dichloromethane; dichloromonofluoromethane; dichiorosilane; dichlorotetrafluoroethane; diethyl disufide; diethyl telluride; difluorodibromomethane; difluoromonochloroethane; digermane; dimethyl ether; dimethyl sulfate; dimethyl sulfide; dimethyl sulfoxide; dimethylamine; dimethyl zinc; dipropyl ether; disilane; dodecane; 2-chloro-1-difluoromethoxy-1,1,2-trifluoroethane; ethane; ethanol; ethyl acetate; ethyl acetylene; ethyl acrylate; ethyl alcohol; ethyl benzene; ethyl chloride; ethyl cyclohexane; ethyl ether; ethyl formate; ethyl mercaptan; ethyl methyl sulfide; ethyl sulfide; ethylamine; ethylene; ethylene dichloride; ethylene glycol; ethylene glycol dimethyl ether. ethylene glycol monomethyl ether; ethylene oxide and nitrogen; ethyleneoxide; fluorine; trifluoromethane; fluorotrichloromethane; 2-chloro-2-difluoromethoxy-1,1,1-trifluoroethane; formaldehyde gas; furan; furfuryl alcohol; germanium tetrachloride; germanium tetrahydride; trichlorofluoromethane; chlorotrifluoroethylene; trichlorotrifluoroethane; 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetrafluoroethane; hexafluoroethane; dichlorodifluoromethane; chlorotrifluoromethane;1,1,1,2-tetrafluoroethane; bromotrifluoromethane; carbon tetrafluoride; monochlorodifluoromethane; trifluoromethane; octafluorocyclobutane; 1,1,1-trifluoro-2-chloro-2-bromoethane; helium; heptane; hexafluoroethane; hexafluoropropene; hexafluorpropylene; hydriodic acid; hydrogen; hydrogen bromide; hydrogen chloride; hydrogen cyanide; hydrogen fluoride; hydrogen selenide; hydrogen sulfide; hydrogen iodide; iodine pentafluoride; isobutane; isobutene; isobutyl alcohol; isobutyl nitrate; isobutylene; isohexene; isopentane; isoprene; isopropyl alcohol; isopropyl chloride; isopropyl ether; isopropyl mercaptan; krypton; methane; methane in argon, helium and nitrogen or air mixture; methane; methane and hydrogen gas mixture; methanol; methoxyflurane; methyl acetate; methyl acetylene; methyl acrylate; methyl alcohol; methyl bromide; methyl chloride; methyl chloroform; methyl disulfide; methyl ethyl ketone; methyl fluoride; methyl formate; methyl iodide; methyl isobutyl ketone; methyl mercaptan; methyl methacrylate; methyl propionate; methyl salicylate; methyl tert-butyl ether; methyl vinyl ketone; dimethoxymethane; methylamine; methylcyclopentane; methylene bromide; methylene fluoride; monomethylamine; m-xylene; n-amylamine; metal oxides and metal chlorides; metal oxides, metal bromides absorbed hydrogen bromide on compound, and hydrogen bromide vapor; metal oxides, metal chlorides, absorbed hydrogen chloride on compound, and hydrogen chloride vapor; organolithium polymer, lithium amide, and anhydrous ammonia; organolithium, sulfur hexafluoride, and lithium hydride; organolithium polymer and lithium hydride; metal oxides; naphthalene; n-butane; n-butyl acetate; n-butyl alcohol; n-butyl sulfide; n-butyraldehyde; n-decane; neohexane; neon; neopentane; n-heptane; n-hexane; nickel carbonyl; nitric oxide; nitric oxide and nitrogen mixture; nitric oxide and sulfur dioxide and nitrogen gas mixture; nitrogen dioxide; nitrogen trifluoride; nitrosyl chloride; nitrous oxide; n-octane; nonane; n-pentane; n-propyl acetate; n-propyl alcohol; octafluorocyclobutane; octafluorocyclopentene. octane; o-dichlorobenzene; oxides of nitrogen in nitrogen; oxygen in nitrogen; oxygen, compressed gas; oxygen and nitrogen gas mixture; o-xylene; pentane; perfluoro-2-butene; perfluoropropane; permanganate and alkali impregnated diatomaceous earth; phosgene; phosphine; phosphine pentafluoride; phosphorus pentafluoride; phosphorus trifluoride, piperidine; tetraethylene glycol dimethyl ether and sodium naphthalene complex; ethylene glycol dimethyl ether and sodium naphthalene complex; propane; propane in air; propane in nitrogen; propionaldehyde; propyl mercaptan; propylene; propylene oxide; p-xylene; pyridine; arsenic fluoride; arsine; boron trifluoride; germanium tetrafluoride; phosphine; silicon tetrafluoride; sec-butyl alcohol; silane; silicon tetrachloride; silicon tetrafluoride; sodium dichromate; sodium dispersion in mineral spirits; sodium dispersion in naphthalene; sodium dispersion in transformer oil; sodium metal dispersion in organic solvent; sodium metal; sodium methylate; sodium shot; styrene; styrene monomer; sulfur dioxide; sulfur dioxide in air; sulfur dioxide in nitrogen; sulfur dioxide and nitrogen mixture; sulfur hexafluoride; sulfur tetrafluoride; sulfuryl fluoride; tert-butyl chloride; tert-butyl mercaptan; tetrachloroethylene; tetraethylene glycol dimethyl ether; tetraethylorthosilicate; tetrafluoroethylene; tetrafluoromethane; tetrahydrofuran; tetrahydronaplithalene; thiophene; titanium tetrachloride; toluene; trans-1,2-dichloroethylene; trans-2-butene; trans-2-pentene; trans-3-hexene; trans-3-hexene; transition metal salt impregnated diatomaceous earth; trichioroethylene; trichlorsilane; triethyl phosphite; triethylene glycol; trifluorochloroethylene; trifluoromonobromomethane; trimethyl phosphite; trimethylamine; tungsten hexafluoride; undecane; valeraldehyde; vinyl acetate; vinyl bromide; vinyl chloride; vinyl fluoride; vinyl methyl ether; vinylidene chloride; vinylidene fluoride; xenon; zinc arsenide; enriched stable isotopes; stable isotope labeled compounds; and liquefied gases, namely, argon, carbon dioxide, nitrogen oxide, oxygen, and o-dichlorobenzene. Gases used as fuel. Gases for medical use

Abrégé

The techniques described herein relate to hydrogen peroxide plasma surface modification. In some embodiments, a method includes providing a mixture including hydrogen peroxide vapor from a source, wherein a concentration of the hydrogen peroxide vapor in the mixture is substantially stable over time. The method further includes forming a hydrogen peroxide plasma from the mixture and exposing a material to the hydrogen peroxide plasma in a chamber.

Classes IPC  ?

• C08J 7/12 - Modification chimique
• C09C 1/28 - Composés du silicium
• C09C 3/04 - Traitement physique, p.ex. broyage, traitement par des vibrations ultrasoniques
• C23C 14/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
• C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir

Abrégé

The techniques described herein relate to hydrogen peroxide plasma surface modification. In some embodiments, a method includes providing a mixture including hydrogen peroxide vapor from a source, wherein a concentration of the hydrogen peroxide vapor in the mixture is substantially stable over time. The method further includes forming a hydrogen peroxide plasma from the mixture and exposing a material to the hydrogen peroxide plasma in a chamber.

Classes IPC  ?

• C23C 16/513 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques utilisant des jets de plasma
• C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
• C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
• C23C 16/22 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le dépôt de matériaux inorganiques, autres que des matériaux métalliques
• C08J 7/12 - Modification chimique
• H01L 21/30 - Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes

Abrégé

The techniques described herein relate to a method for etching an ashable hard mask (AHM) on a substrate. The method includes forming a plasma from a gas mixture, wherein the gas mixture includes hydrogen peroxide vapor with a concentration greater than 0.1% by volume, wherein the concentration of the hydrogen peroxide vapor in the gas mixture is substantially stable over time, and wherein the plasma comprises hydrogen peroxide species. The method further includes etching the AHM by exposing the AHM to the plasma.

Classes IPC  ?

• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse

Abrégé

The techniques described herein relate to a method for etching an ashable hard mask (AHM) on a substrate. The method includes forming a plasma from a gas mixture, wherein the gas mixture includes hydrogen peroxide vapor with a concentration greater than 0.1% by volume, wherein the concentration of the hydrogen peroxide vapor in the gas mixture is substantially stable over time, and wherein the plasma comprises hydrogen peroxide species. The method further includes etching the AHM by exposing the AHM to the plasma.

Classes IPC  ?

• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
• H01L 21/3065 - Gravure par plasma; Gravure au moyen d'ions réactifs
• H01L 21/66 - Test ou mesure durant la fabrication ou le traitement

Abrégé

The present disclosure relates to gas recovery systems and methods, and systems including gas recovery systems. In some embodiments, a gas recovery system includes a gas inlet, a compressor, a buffer tank, a variable speed microturbine, one or more sensors, and a control system. A gas input into the gas inlet can be output from a processing tool, and the gas can include hydrogen or ammonia gas. The gas can be used to produce electrical power using the first variable speed microturbine. The sensor, for example, a gas analyzer, a flow meter, or a pressure sensor, can be between the gas inlet and the variable speed microturbine. The control system can be configured to control a speed of the variable speed microturbine in response to a measurement from the sensor.

Classes IPC  ?

• B01D 53/047 - Adsorption à pression alternée
• B01D 53/14 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par absorption
• B01D 53/78 - Procédés en phase liquide avec un contact gaz-liquide
• B01D 53/30 - Commande par appareil d'analyse des gaz

Abrégé

The present disclosure relates to gas recovery systems and methods, and systems including gas recovery systems. In some embodiments, a gas recovery system includes a gas inlet, a compressor, a buffer tank, a variable speed microturbine, one or more sensors, and a control system. A gas input into the gas inlet can be output from a processing tool, and the gas can include hydrogen or ammonia gas. The gas can be used to produce electrical power using the first variable speed microturbine. The sensor, for example, a gas analyzer, a flow meter, or a pressure sensor, can be between the gas inlet and the variable speed microturbine. The control system can be configured to control a speed of the variable speed microturbine in response to a measurement from the sensor.

Classes IPC  ?

• C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement
• B01D 53/047 - Adsorption à pression alternée
• B01D 53/14 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par absorption
• G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
• F02C 9/16 - Commande du débit du fluide de travail
• F02C 1/00 - Ensembles fonctionnels de turbines à gaz caractérisés par l'utilisation de gaz chauds ou de gaz sous pression non chauffés, comme fluide de travail

Abrégé

The present invention relates to cylinder packages utilized in the delivery of highly toxic and/or flammable compounds to semiconductor manufacturers. More specifically, the present invention provides a cartridge adapted to removably attach to the gas outlet of a gas discharge passageway in a cylinder valve provided on a toxic gas containing cylinder package, the cartridge comprising a cylindrically shaped housing having at least one end fitted with a barrier member permeable to the toxic gas contained within the cylinder package and the housing containing a toxic-gas getter material.

Classes IPC  ?

• A61M 16/00 - Dispositifs pour agir sur le système respiratoire des patients par un traitement au gaz, p.ex. bouche-à-bouche; Tubes trachéaux
• A61M 16/04 - Tubes trachéaux

Abrégé

The present invention relates to cylinder packages utilized in the delivery of highly toxic and/or flammable compounds to semiconductor manufacturers. More specifically, the present invention provides a cartridge adapted to removably attach to the gas outlet of a gas discharge passageway in a cylinder valve provided on a toxic gas containing cylinder package, the cartridge comprising a cylindrically shaped housing having at least one end fitted with a barrier member permeable to the toxic gas contained within the cylinder package and the housing containing a toxic-gas getter material.

Classes IPC  ?

• F17C 13/04 - Disposition ou montage des soupapes
• F16K 24/04 - Dispositifs, p.ex. soupapes, pour la mise à l'air libre ou l'aération d'enceintes pour la mise à l'air libre uniquement
• F17C 11/00 - Utilisation de solvants ou d'absorbants des gaz dans les récipients
• B01J 20/28 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation caractérisées par leur forme ou leurs propriétés physiques
• B01J 20/08 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation contenant une substance inorganique contenant des oxydes ou des hydroxydes des métaux non prévus dans le groupe contenant de la bauxite
• B01J 20/02 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation contenant une substance inorganique
• B01J 20/04 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation contenant une substance inorganique contenant des composés des métaux alcalins, des métaux alcalino-terreux ou du magnésium
• B01J 20/22 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation contenant une substance organique
• B01J 20/10 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation contenant une substance inorganique contenant de la silice ou un silicate
• B01J 20/20 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation contenant une substance inorganique contenant du carbone obtenu par des procédés de carbonisation
• B01J 20/18 - Tamis moléculaires zéolitiques synthétiques

Abrégé

The present disclosure provides techniques for suppression of hydrogen degradation. In some embodiments, a method for decreasing an amount or rate of hydrogen degradation of a material, includes: (a) exposing a material to gaseous hydrogen peroxide; and (b) forming a hydroxyl layer on the surface of the material within a chamber. The hydroxyl layer can decrease an amount or rate of hydrogen degradation of the material when exposed to hydrogen. In some embodiments, a system includes: a chamber; a material within the chamber; an inlet to the chamber; a hydrogen peroxide source coupled to the inlet via a conduit; and an outlet from the chamber for removing species from the chamber. The system can be configured to perform the method for decreasing an amount or rate of hydrogen degradation of a material.

Classes IPC  ?

• C23F 11/18 - Inhibition de la corrosion de matériaux métalliques par application d'inhibiteurs sur la surface menacée par la corrosion ou par addition d'inhibiteurs à l'agent corrosif dans d'autres liquides au moyen d'inhibiteurs inorganiques

Abrégé

The present disclosure provides techniques for suppression of hydrogen degradation. In some embodiments, a method for decreasing the amount or rate of hydrogen degradation of a material, includes: (a) exposing a material to gaseous hydrogen peroxide; (b) forming a hydroxyl layer on the surface of the material within a chamber; and (c) after forming the hydroxyl layer, exposing the material to hydrogen during a controlled process or application.

Classes IPC  ?

• C23F 11/18 - Inhibition de la corrosion de matériaux métalliques par application d'inhibiteurs sur la surface menacée par la corrosion ou par addition d'inhibiteurs à l'agent corrosif dans d'autres liquides au moyen d'inhibiteurs inorganiques

Abrégé

The present disclosure provides techniques for suppression of hydrogen degradation. In some embodiments, a method for decreasing the amount or rate of hydrogen degradation of a material, includes: (a) exposing a material to gaseous hydrogen peroxide; (b) forming a hydroxyl layer on the surface of the material within a chamber; and (c) after forming the hydroxyl layer, exposing the material to hydrogen during a controlled process or application.

Classes IPC  ?

• H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
• C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement
• H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
• G03F 7/20 - Exposition; Appareillages à cet effet

Abrégé

Provided herein are methods, systems, and devices incorporating use of materials to store, ship, and deliver process gases to micro-electronics fabrication processes and other critical process applications.

Classes IPC  ?

• F17C 11/00 - Utilisation de solvants ou d'absorbants des gaz dans les récipients
• B01D 15/00 - Procédés de séparation comportant le traitement de liquides par des adsorbants ou des absorbants solides; Appareillages pour ces procédés
• B01D 19/00 - Dégazage de liquides
• B01J 20/26 - Composés macromoléculaires synthétiques
• B01J 20/28 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation caractérisées par leur forme ou leurs propriétés physiques
• C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction

Abrégé

Provided herein are methods, systems, and device for control, delivery, and purification of low vapor pressure gases in conjunction with carrier gas in micro-electronics and other critical process applications. The present invention is based on the observation that when temperature and pressure of a device for delivering a gas stream are held constant, the concentration of vapor in the gas stream may be modulated based on the level of liquid within the chamber thereof.

Classes IPC  ?

• B01D 1/14 - SÉPARATION Évaporation avec gaz ou vapeurs chauffés en contact avec le liquide
• B01D 1/00 - SÉPARATION Évaporation
• C23C 16/448 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p.ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs

Abrégé

Provided herein are methods, systems, and devices incorporating use of materials to store, ship, and deliver process gases to micro-electronics fabrication processes and other critical process applications.

Classes IPC  ?

• F17C 11/00 - Utilisation de solvants ou d'absorbants des gaz dans les récipients
• C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
• C09K 13/00 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage
• C08K 5/14 - Peroxydes
• C08L 27/18 - Homopolymères ou copolymères du tétrafluoro-éthylène
• C08L 71/02 - Oxydes des polyalkylènes

Abrégé

Provided herein are methods, systems, and devices incorporating use of materials to store, ship, and deliver process gases to micro-electronics fabrication processes and other critical process applications.

Classes IPC  ?

• F17C 11/00 - Utilisation de solvants ou d'absorbants des gaz dans les récipients
• C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
• C09K 13/00 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage
• C08K 5/14 - Peroxydes
• C08L 27/18 - Homopolymères ou copolymères du tétrafluoro-éthylène
• C08L 71/02 - Oxydes des polyalkylènes

Produits et services

Gas detectors for detecting the presence of gas

Abrégé

Provided herein are methods, systems, and apparatus for measuring and/or controlling mass flow/concentration of a catalytically reactive gas within a mixed gas stream by determining thermal rise due to decomposition.

Classes IPC  ?

• B01J 4/00 - Dispositifs d'alimentation; Dispositifs de commande d'alimentation ou d'évacuation
• B01J 8/00 - Procédés chimiques ou physiques en général, conduits en présence de fluides et de particules solides; Appareillage pour de tels procédés
• B01J 19/00 - Procédés chimiques, physiques ou physico-chimiques en général; Appareils appropriés
• A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contact; Accessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p.ex. des vapeurs
• A61L 2/24 - Appareils utilisant des opérations programmées ou automatiques

Abrégé

Provided herein are methods, systems, and device for control, delivery, and purification of low vapor pressure gases in conjunction with carrier gas in micro-electronics and other critical process applications. The present invention is based on the observation that when temperature and pressure of a device for delivering a gas stream are held constant, the concentration of vapor in the gas stream may be modulated based on the level of liquid within the chamber thereof.

Classes IPC  ?

• B01B 1/00 - PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL ÉBULLITION; CHAUDIÈRES Ébullition; Appareils à ébullition en vue d'applications physiques ou chimiques
• B01D 19/00 - Dégazage de liquides
• C23C 16/448 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p.ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs

Abrégé

Provided herein are methods, systems, and devices incorporating use of materials to store, ship, and deliver process gases to micro-electronics fabrication processes and other critical process applications.

Classes IPC  ?

• B01D 5/00 - Condensation de vapeurs; Récupération de solvants volatils par condensation
• B01F 3/02 - Mélange, p.ex. dispersion, émulsion, selon les phases à mélanger de gaz avec des gaz ou des vapeurs
• C10J 1/08 - Carburation de l'air au moyen de substances qui sont liquides à la température ordinaire par passage de l'air à travers de liquide (barbotage) ou à la surface du liquide
• C23C 16/442 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement utilisant des procédés à lits fluidisés
• H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p.ex. gravure électrolytique
• H01L 21/54 - Remplissage des conteneurs, p.ex. remplissage en gaz
• H01L 23/20 - Matériaux de remplissage caractérisés par le matériau ou par ses propriétes physiques ou chimiques, ou par sa disposition à l'intérieur du dispositif complet gazeux à la température normale de fonctionnement du dispositif

Abrégé

Provided herein are methods, systems, and apparatus for measuring and/or controlling mass flow/concentration of a catalytically reactive gas within a mixed gas stream by determining thermal rise due to decomposition.

Classes IPC  ?

• A61L 2/24 - Appareils utilisant des opérations programmées ou automatiques
• A61L 2/00 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contact; Accessoires à cet effet
• A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contact; Accessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p.ex. des vapeurs
• B01J 4/00 - Dispositifs d'alimentation; Dispositifs de commande d'alimentation ou d'évacuation
• B01J 23/00 - Catalyseurs contenant des métaux, oxydes ou hydroxydes métalliques non prévus dans le groupe

Abrégé

Methods for the gas-phase delivery of gases, such as process gases, from the gas phase of a multicomponent source liquid are provided. The methods are generally directed to the generation of process gases having mass flow rates which are proportional to the input power delivered to the multicomponent source liquid containers. The methods may be used to deliver process gases to critical process applications.

Classes IPC  ?

• B01B 1/00 - PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL ÉBULLITION; CHAUDIÈRES Ébullition; Appareils à ébullition en vue d'applications physiques ou chimiques
• C23C 16/448 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p.ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs
• A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contact; Accessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p.ex. des vapeurs
• A61L 2/26 - Accessoires
• F22B 3/02 - Autres méthodes de production de vapeur; Chaudières à vapeur non prévues dans les autres groupes de la présente sous-classe comportant l'emploi d'un fluide énergétique autre que l'eau
• H05B 1/02 - Dispositions de commutation automatique spécialement adaptées aux appareils de chauffage
• G03F 1/82 - Procédés auxiliaires, p.ex. nettoyage ou inspection
• G03F 7/42 - Elimination des réserves ou agents à cet effet
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives

Abrégé

Provided herein are methods, systems, and apparatus for inhibiting decomposition of hydrogen peroxide gas through use of surface modification of production and delivery components.

Classes IPC  ?

• A61C 17/00 - Dispositifs pour nettoyer, polir, rincer ou sécher les dents, les cavités dentaires ou les prothèses; Appareils pour enlever la salive; Réceptacles pour les crachats à usage dentaire

Abrégé

Compositions, methods, devices, and systems for purifying a source liquid from a replenishment stock solution that includes stabilizing agents, such as metal ions, prior to vaporization. Certain embodiments effect the purification with a solid perfluoronated ionomer, such as a perfluoronated ionomer membrane. Advantageously, source liquids purified in this manner provide feed stocks for production of ultra-pure gaseous reagents. As well, performance characteristics of membrane-based vaporizers relying on transport processes are improved.

Classes IPC  ?

• C01B 15/013 - Séparation; Purification; Concentration
• B01J 47/12 - Procédés d'échange d'ions en général; Appareillage à cet effet caractérisés par l'emploi d'une substance échangeur d'ions sous forme de rubans, de filaments, de fibres ou de feuilles, p.ex. sous forme de membranes
• B01J 39/20 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions ne faisant intervenir que des liaisons carbone-carbone non saturées
• B01J 49/53 - Régénération ou réactivation des échangeurs d'ions; Appareillage à cet effet caractérisés par les réactifs de régénération pour échangeurs cationiques
• B01J 3/00 - Procédés utilisant une pression supérieure ou inférieure à la pression atmosphérique pour obtenir des modifications chimiques ou physiques de la matière; Appareils à cet effet
• B01J 39/18 - Composés macromoléculaires
• B01J 47/02 - Procédés sur colonne ou sur lit
• C01B 15/017 - Peroxyde d'hydrogène anhydre; Solutions ou mélanges gazeux anhydres contenant du peroxyde d'hydrogène
• C08L 81/08 - Polysulfonates

Abrégé

The present invention generally relates to the field of gas and liquid phase desiccation. In particular, the present invention relates to methods for removing moisture (and hence oxygen precursors) from hydrazine, thereby providing a high purity source gas suitable for use in vapor deposition processes, such as but not limited to, chemical vapor deposition (CVD) or an atomic layer deposition (ALD).

Classes IPC  ?

• B01D 53/02 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par adsorption, p.ex. chromatographie préparatoire en phase gazeuse
• B01D 53/26 - Séchage des gaz ou vapeurs

Abrégé

A method and chemical delivery system and device are provided. One method useful in the present invention includes contacting a non-aqueous hydrazine solution with a carrier gas and/or vacuum and delivering a substantially dry gas stream comprising hydrazine to a critical process or application. Also disclosed herein are methods of forming nitrogen-containing thin films by atomic layer deposition using hydrazine gas from a non-aqueous hydrazine solution.

Classes IPC  ?

• B01D 19/00 - Dégazage de liquides
• B01D 63/00 - Appareils en général pour les procédés de séparation utilisant des membranes semi-perméables
• B01D 63/06 - Modules à membranes tubulaires

Produits et services

Gases, namely, liquid argon and liquid oxygen for industrial purposes

Abrégé

The present invention generally relates to the field of gas and liquid phase desiccation. In particular, the present invention relates to methods for removing moisture (and hence oxygen precursors) from hydrazine, thereby providing a high purity source gas suitable for use in vapor deposition processes, such as but not limited to, chemical vapor deposition (CVD) or an atomic layer deposition (ALD).

Classes IPC  ?

• B01D 53/26 - Séchage des gaz ou vapeurs
• C01B 21/16 - Hydrazine; Ses sels
• B01D 53/28 - Emploi de substances spécifiées comme agents desséchants
• B01J 20/04 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation contenant une substance inorganique contenant des composés des métaux alcalins, des métaux alcalino-terreux ou du magnésium
• B01J 20/08 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation contenant une substance inorganique contenant des oxydes ou des hydroxydes des métaux non prévus dans le groupe contenant de la bauxite
• B01J 20/10 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation contenant une substance inorganique contenant de la silice ou un silicate
• B01J 20/26 - Composés macromoléculaires synthétiques
• B01J 20/28 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation caractérisées par leur forme ou leurs propriétés physiques
• B01J 20/282 - Absorbants ou adsorbants poreux
• B01J 20/283 - Absorbants ou adsorbants poreux à base de silice
• B01J 20/284 - Absorbants ou adsorbants poreux à base d'alumine
• B01J 20/285 - Absorbants ou adsorbants poreux à base de polymères

Abrégé

The present invention relates to a system for recirculating the gas atmosphere within an excimer laser system, where contaminates, created in the laser's operation, are removed, and the gas concentrations of additive gases, such as Xe, Kr, or others, depleted in the laser operation, are rebalanced to specific lasing mixtures by analyzation and component replenishment from one or more external supplies.

Classes IPC  ?

• H01S 3/036 - Moyens pour obtenir ou maintenir la pression désirée du gaz à l'intérieur du tube, p.ex. au moyen d'un getter ou d'une réactivation; Moyens pour faire circuler le gaz, p.ex. pour uniformiser la pression à l'intérieur du tube
• H01S 3/225 - Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet caractérisés par le matériau utilisé comme milieu actif à gaz le gaz actif étant polyatomique, c. à d. contenant plusieurs atomes comprenant un excimer ou un exciplex
• H01S 3/104 - Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation par commande du milieu actif, p.ex. par commande des procédés ou des appareils pour l'excitation dans des lasers à gaz
• H01S 3/22 - Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet caractérisés par le matériau utilisé comme milieu actif à gaz

Abrégé

A method and chemical delivery system and device are provided. One method includes contacting a non-aqueous hydrazine solution with a carrier gas and/or vacuum and delivering a gas stream comprising hydrazine to a critical process or application. One chemical delivery system and device includes a non-aqueous hydrazine solution having a vapor phase that is in contact with a carrier gas and/or vacuum. One device includes a chamber for containing a liquid comprising at least one volatile process chemical, such as a non-aqueous hydrazine solution, a hydrogen peroxide solution, or another suitable process chemical, and a head space from which the volatile can be drawn using a carrier gas and/or vacuum. Another method useful in the present invention involves drawing a process chemical from a device as a disclosed herein using a carrier or vacuum and delivering the process chemical to a critical process or application.

Classes IPC  ?

• B01D 19/00 - Dégazage de liquides
• B01D 63/06 - Modules à membranes tubulaires
• C01B 21/16 - Hydrazine; Ses sels

Produits et services

vending machines

Abrégé

Provided herein are methods, systems, and devices for the vapor phase delivery of high purity process gases to a critical process or application.

Classes IPC  ?

• B01F 3/02 - Mélange, p.ex. dispersion, émulsion, selon les phases à mélanger de gaz avec des gaz ou des vapeurs
• B01D 53/44 - Composants organiques
• B01D 53/77 - Procédés en phase liquide
• B01J 20/292 - Absorbants ou adsorbants liquides
• H01G 4/06 - Diélectriques solides

Abrégé

A method and chemical delivery system and device are provided. One method useful in the present invention includes contacting a non-aqueous hydrazine solution with a carrier gas and/or vacuum and delivering a gas stream comprising hydrazine to a critical process or application. One chemical delivery system and device useful in the present invention includes a non-aqueous hydrazine solution having a vapor phase that is in contact with a process carrier gas and/or vacuum. One device useful in the present invention includes a chamber for containing a liquid comprising at least one volatile process chemical, such as a non-aqueous hydrazine solution, a hydrogen peroxide solution, or another suitable process chemical, in fluid communication with a permeable or semi-permeable membrane from which the volatile process chemical can be drawn using a carrier gas and/or vacuum. Another method useful in the present invention involves drawing a process chemical from a device as a disclosed herein using a process carrier gas or vacuum and delivering the process chemical to a critical process or application. The system further includes a carrier gas and/or vacuum in fluid contact with the vapor phase and an apparatus for delivering a gas stream comprising at least one component of the solution comprising at least one process chemical to a critical process or application.

Classes IPC  ?

• B01D 53/22 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par diffusion
• B01D 19/00 - Dégazage de liquides
• B01D 63/06 - Modules à membranes tubulaires

Abrégé

Provided herein are methods, systems, and devices for the vapor phase delivery of high purity process gases to a critical process or application.

Classes IPC  ?

• B01D 19/00 - Dégazage de liquides
• B01B 1/00 - PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL ÉBULLITION; CHAUDIÈRES Ébullition; Appareils à ébullition en vue d'applications physiques ou chimiques
• C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
• C01B 15/017 - Peroxyde d'hydrogène anhydre; Solutions ou mélanges gazeux anhydres contenant du peroxyde d'hydrogène
• C23C 16/448 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p.ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs

Abrégé

The present invention generally relates to methods and apparatuses adapted to perform additive manufacturing (AM) processes and the resulting products made therefrom, and specifically, to AM processes that employ an energy beam to selectively fuse a base material to produce an object. More particularly, the invention relates to methods and systems that use reactive fluids to actively manipulate the surface chemistry of the base material prior to, during and/or after the AM process.

Classes IPC  ?

• B05D 3/06 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides par exposition à des rayonnements
• B23K 26/322 - Assemblage tenant compte des propriétés du matériau concerné faisant intervenir des parties métalliques

Abrégé

The present invention generally relates to methods and apparatuses adapted to perform additive manufacturing (AM) processes and the resulting products made therefrom, and specifically, to AM processes that employ an energy beam to selectively fuse a base material to produce an object. More particularly, the invention relates to methods and systems that use reactive fluids to actively manipulate the surface chemistry of the base material prior to, during and/or after the AM process.

Classes IPC  ?

• B22F 3/105 - Frittage seul en utilisant un courant électrique, un rayonnement laser ou un plasma
• B33Y 50/02 - Acquisition ou traitement de données pour la fabrication additive pour la commande ou la régulation de procédés de fabrication additive
• B33Y 30/00 - Appareils pour la fabrication additive; Leurs parties constitutives ou accessoires à cet effet
• B33Y 80/00 - Produits obtenus par fabrication additive
• B22F 3/10 - Frittage seul
• B23K 15/00 - Soudage ou découpage par faisceau d'électrons
• B23K 26/342 - Soudage de rechargement
• B23K 26/60 - Traitement préliminaire
• C23C 8/24 - Nitruration
• C23C 8/20 - Carburation
• C23C 8/10 - Oxydation
• C23C 8/28 - Traitement par plusieurs éléments en une seule étape
• C23C 8/36 - Diffusion à l'état solide uniquement d'éléments non métalliques dans la couche superficielle de matériaux métalliques; Traitement chimique de surface par réaction entre le matériau métallique de la surface et un gaz réactif, laissant dans le revêtement des produits de la réaction, p.ex. revêtement de conversion, passivation des métaux au moyen de gaz au moyen de gaz ionisés, p.ex. nitruration ionique
• C23C 10/08 - Diffusion d'un seul élément
• C23C 12/02 - Diffusion en une seule étape
• B33Y 10/00 - Procédés de fabrication additive

Abrégé

Methods and delivery systems for providing a gas phase of a multi-component liquid source for delivery to a critical process application are provided. The methods include concentration of a component of the liquid source which is less volatile than water for delivery of a gas stream comprising the less volatile component to a critical process application. Critical process applications include decontamination and microelectronic processing applications.

Classes IPC  ?

• A61L 2/00 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contact; Accessoires à cet effet
• A61L 9/00 - Désinfection, stérilisation ou désodorisation de l'air
• B01D 47/02 - Séparation de particules dispersées dans l'air, des gaz ou des vapeurs en utilisant un liquide comme agent de séparation par passage de l'air, du gaz ou de la vapeur sur ou à travers un bain liquide
• C12Q 1/6848 - Réactions d’amplification d’acides nucléiques caracterisées par les moyens d’empêcher la contamination ou d’augmenter la spécificité ou la sensibilité d’une réaction d’amplification
• A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contact; Accessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p.ex. des vapeurs
• C12Q 1/6806 - Préparation d’acides nucléiques pour analyse, p.ex. pour test de réaction en chaîne par polymérase [PCR]
• A61L 2/18 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contact; Accessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances liquides

Abrégé

The present invention relates to a system for recirculating the gas atmosphere within an excimer laser system, where contaminates, created in the laser's operation, are removed, and the gas concentrations of additive gases, such as Xe, Kr, or others, depleted in the laser operation, are rebalanced to specific lasing mixtures by analyzation and component replenishment from one or more external supplies.

Classes IPC  ?

• H01S 3/223 - Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet caractérisés par le matériau utilisé comme milieu actif à gaz le gaz actif étant polyatomique, c. à d. contenant plusieurs atomes
• H01S 3/036 - Moyens pour obtenir ou maintenir la pression désirée du gaz à l'intérieur du tube, p.ex. au moyen d'un getter ou d'une réactivation; Moyens pour faire circuler le gaz, p.ex. pour uniformiser la pression à l'intérieur du tube
• H01S 3/22 - Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet caractérisés par le matériau utilisé comme milieu actif à gaz
• H01S 3/104 - Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation par commande du milieu actif, p.ex. par commande des procédés ou des appareils pour l'excitation dans des lasers à gaz
• H01S 3/225 - Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet caractérisés par le matériau utilisé comme milieu actif à gaz le gaz actif étant polyatomique, c. à d. contenant plusieurs atomes comprenant un excimer ou un exciplex

Abrégé

The present invention relates to a system for recirculating the gas atmosphere within an excimer laser system, where contaminates, created in the laser's operation, are removed, and the gas concentrations of additive gases, such as Xe, Kr, or others, depleted in the laser operation, are rebalanced to specific lazing mixtures by analyzation and component replenishment from one or more external supplies.

Classes IPC  ?

• H01S 3/225 - Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet caractérisés par le matériau utilisé comme milieu actif à gaz le gaz actif étant polyatomique, c. à d. contenant plusieurs atomes comprenant un excimer ou un exciplex
• H01S 3/03 - Lasers, c. à d. dispositifs utilisant l'émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme de l’infrarouge, du visible ou de l’ultraviolet - Détails de structure des tubes laser à décharge dans le gaz
• H01S 3/097 - Procédés ou appareils pour l'excitation, p.ex. pompage par décharge dans le gaz d'un laser à gaz

Abrégé

Methods for the gas-phase delivery of gases, such as process gases, from the gas phase of a multicomponent source liquid are provided. The methods are generally directed to the generation of process gases having mass flow rates which are proportional to the input power delivered to the multicomponent source liquid containers. The methods may be used to deliver process gases to critical process applications.

Classes IPC  ?

• C23C 16/448 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p.ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs

Abrégé

Methods, systems, and devices for decontaminating materials containing biological or biologically derived materials, such as microorganisms or DNA products, are provided. The methods, systems, and devices may be used for decontaminating or sterilizing materials, such as surfaces, including, but not limited to reducing the number of viable microorganisms on surfaces. The methods, systems, and devices may further be used for rendering DNA non-amplifiable in nucleic acid amplification reactions that synthesize DNA amplification products.

Classes IPC  ?

• A61L 2/00 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contact; Accessoires à cet effet
• A61L 9/00 - Désinfection, stérilisation ou désodorisation de l'air
• A62B 7/08 - Appareils respiratoires contenant des compositions chimiques dégageant de l'oxygène
• C12Q 1/68 - Procédés de mesure ou de test faisant intervenir des enzymes, des acides nucléiques ou des micro-organismes; Compositions à cet effet; Procédés pour préparer ces compositions faisant intervenir des acides nucléiques
• A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contact; Accessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p.ex. des vapeurs
• A61L 2/18 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contact; Accessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances liquides

Abrégé

Compositions, methods, devices, and systems for purifying a source liquid from a replenishment stock solution that includes stabilizing agents, such as metal ions, prior to vaporization. Certain embodiments effect the purification with a solid perfluoronated ionomer, such as a perfluoronated ionomer membrane. Advantageously, source liquids purified in this manner provide feed stocks for production of ultra-pure gaseous reagents. As well, performance characteristics of membrane-based vaporizers relying on transport processes are improved.

Classes IPC  ?

• C01B 15/01 - Peroxyde d'hydrogène, c. à d. eau oxygénée
• C01B 15/013 - Séparation; Purification; Concentration
• B01F 3/04 - Mélange, p.ex. dispersion, émulsion, selon les phases à mélanger de gaz ou de vapeurs avec des liquides
• B01J 47/00 - Procédés d'échange d'ions en général; Appareillage à cet effet
• B01J 39/00 - Echange de cations; Utilisation d'une substance comme échangeur de cations; Traitement d'une substance en vue d'améliorer ses propriétés d'échange de cations
• B01J 39/18 - Composés macromoléculaires

Abrégé

A method and chemical delivery system and device are provided. One method includes contacting a non-aqueous hydrazine solution with a carrier gas and/or vacuum and delivering a gas stream comprising hydrazine to a critical process or application. One chemical delivery system and device includes a non-aqueous hydrazine solution having a vapor phase that is in contact with a carrier gas and/or vacuum. One device includes a chamber for containing a liquid comprising at least one volatile process chemical, such as a non-aqueous hydrazine solution, a hydrogen peroxide solution, or another suitable process chemical, and a head space from which the volatile can be drawn using a carrier gas and/or vacuum. Another method useful in the present invention involves drawing a process chemical from a device as a disclosed herein using a carrier or vacuum and delivering the process chemical to a critical process or application.

Classes IPC  ?

• B01D 53/44 - Composants organiques
• B01D 53/77 - Procédés en phase liquide
• B01J 20/292 - Absorbants ou adsorbants liquides
• H01G 4/06 - Diélectriques solides

Abrégé

Methods, systems, and devices for decontaminating materials containing biological or biologically derived materials, such as microorganisms or DNA products, are provided. The methods, systems, and devices may be used for decontaminating or sterilizing materials, such as surfaces, including, but not limited to reducing the number of viable microorganisms on surfaces. The methods, systems, and devices may further be used for rendering DNA non-amplifiable in nucleic acid amplification reactions that synthesize DNA amplification products.

Classes IPC  ?

• A61L 9/00 - Désinfection, stérilisation ou désodorisation de l'air
• A62B 7/08 - Appareils respiratoires contenant des compositions chimiques dégageant de l'oxygène
• A61L 2/00 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contact; Accessoires à cet effet
• C12Q 1/68 - Procédés de mesure ou de test faisant intervenir des enzymes, des acides nucléiques ou des micro-organismes; Compositions à cet effet; Procédés pour préparer ces compositions faisant intervenir des acides nucléiques
• A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contact; Accessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p.ex. des vapeurs

Abrégé

Methods and delivery systems for providing a gas phase of a multi-component liquid source for delivery to a critical process application are provided. The methods include concentration of a component of the liquid source which is less volatile than water for delivery of a gas stream comprising the less volatile component to a critical process application. Critical process applications include decontamination and microelectronic processing applications.

Classes IPC  ?

• A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contact; Accessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p.ex. des vapeurs

Produits et services

Anhydrous Chemical for semiconductor wafer and microelectronic processing

Abrégé

3 that has been partially purified to remove light boilers.

Classes IPC  ?

• C01B 35/06 - Composés borohalogénés
• B01J 19/02 - Appareils caractérisés par le fait qu'ils sont construits avec des matériaux choisis pour leurs propriétés de résistance aux agents chimiques
• B01D 9/00 - Cristallisation
• B01D 53/04 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par adsorption, p.ex. chromatographie préparatoire en phase gazeuse avec adsorbants fixes

Abrégé

3 that has been partially purified to remove light boilers.

Classes IPC  ?

• B01J 19/02 - Appareils caractérisés par le fait qu'ils sont construits avec des matériaux choisis pour leurs propriétés de résistance aux agents chimiques
• C01B 31/30 - Carbures
• C01B 35/06 - Composés borohalogénés
• C10G 65/04 - Traitement des huiles d'hydrocarbures, uniquement par plusieurs procédés d'hydrotraitement uniquement par plusieurs étapes en série ne comprenant que des étapes de raffinage
• B01D 9/00 - Cristallisation
• B01D 53/04 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par adsorption, p.ex. chromatographie préparatoire en phase gazeuse avec adsorbants fixes

Abrégé

The present invention relates, in general, to the purification of boron trichloride (BCI3). More particularly, the invention relates to a process for minimizing silicon tetrachloride (SiCI4) formation in BCI3 production and/or the removal of S1CI4 in BCI3 product stream by preventing/minimizing the silicon source in the reaction chambers. In addition, a hydride material may be used to convert any SiCI4 present to S1H4 which is easier to remove. Lastly freeze separation would replace fractional distillation to remove SiCI4 from BCI3 that has been partially purified to remove light boilers.

Classes IPC  ?

• B01D 3/34 - Distillation ou procédés d'échange apparentés dans lesquels des liquides sont en contact avec des milieux gazeux, p.ex. extraction avec une ou plusieurs substances auxiliaires
• C01B 33/035 - Préparation par décomposition ou réduction de composés de silicium gazeux ou vaporisés autres que la silice ou un matériau contenant de la silice par décomposition ou réduction de composés de silicium gazeux ou vaporisés en présence de filaments chauffés de silicium, de carbone ou d'un métal réfractaire, p.ex. de tantale ou de tungstène, ou en présence de tiges de silicium chauffées sur lesque
• C01B 35/06 - Composés borohalogénés
• C01B 35/18 - Composés contenant au moins trois atomes de bore, p.ex. NaB3H8, MgB10Br10

Abrégé

A method and chemical delivery system are provided. The method includes providing a non-aqueous hydrogen peroxide solution having a vapor phase separated from the substantially non-aqueous hydrogen peroxide solution by a membrane. The method further includes contacting a carrier gas or vacuum with the vapor phase and delivering a gas stream comprising hydrogen peroxide to a critical process or application. The chemical delivery system includes a non-aqueous hydrogen peroxide solution having a vapor phase separated from the substantially non-aqueous hydrogen peroxide solution by a membrane. The system further includes a carrier gas or vacuum in fluid contact with the vapor phase and an apparatus for delivering a gas stream comprising at least one component of the hydrogen peroxide solution to a critical process or application.

Classes IPC  ?

• B01D 19/00 - Dégazage de liquides
• C01B 15/017 - Peroxyde d'hydrogène anhydre; Solutions ou mélanges gazeux anhydres contenant du peroxyde d'hydrogène

Abrégé

A method and chemical delivery system are provided. The method includes providing a vapor phase of a multi-component liquid source. The method further includes contacting a pre-loaded carrier gas with the vapor phase, wherein the pre-loaded carrier gas includes a carrier gas and at least one component of the multi-component liquid source and delivering a gas stream comprising at least one component of the liquid source to a critical process or application, wherein the amount of the component in the carrier gas is sufficient to keep the ratio of components in the multi-component liquid source relatively constant. The chemical delivery system includes a multi-component liquid source having a vapor phase. The system further includes a pre-loaded carrier gas source that is in fluid contact with the vapor phase, wherein the pre-loaded carrier gas includes a carrier gas and at least one component of the liquid source and an apparatus for delivering a gas stream including at least one component of the liquid source, wherein the amount of the component in the pre-loaded carrier gas is sufficient to keep the ratio of components in the multi-component liquid source relatively constant.

Classes IPC  ?

• B01D 53/22 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par diffusion
• B01F 3/02 - Mélange, p.ex. dispersion, émulsion, selon les phases à mélanger de gaz avec des gaz ou des vapeurs
• C23C 16/448 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p.ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs
• B01D 61/24 - Dialyse
• B01D 63/02 - Modules à fibres creuses

Produits et services

Power-operated vaporizers for industrial or commercial use

Abrégé

A method and chemical delivery system are provided. The method includes providing a concentrated aqueous hydrogen peroxide solution in a boiler having a head space, boiling the concentrated aqueous hydrogen peroxide solution to produce a dilute vapor comprising hydrogen peroxide within the head space of the boiler, and adding a dilute aqueous hydrogen peroxide solution to the concentrated aqueous hydrogen peroxide solution within the boiler to maintain the concentration of the aqueous hydrogen peroxide solution in the boiler.

Classes IPC  ?

• C01B 15/01 - Peroxyde d'hydrogène, c. à d. eau oxygénée

Produits et services

Gases for general industrial use, namely, nitrogen

Abrégé

The present invention addresses the key challenges in FinFET fabrication, that is, the fabrications of thin, uniform fins and also reducing the source/drain series resistance. More particularly, this application relates to FinFET fabrication techniques utilizing tetrasilane to enable conformal deposition with high doping using phosphate, arsenic and boron as dopants thereby creating thin fins having uniform thickness (uniformity across devices) as well as smooth, vertical sidewalls, while simultaneously reducing the parasitic series resistance.

Classes IPC  ?

• H01L 21/36 - Dépôt de matériaux semi-conducteurs sur un substrat, p.ex. croissance épitaxiale

Abrégé

The present invention discloses new chamber clean chemistries for low temperature, gas phase, in-situ removal of fluorine doped tin oxide (FTO) films. These new in-situ cleaning chemistries will enable solar glass and low-emissivity glass manufacturers to improve the quality of FTO films produced, as well as reduce costs associated manual cleaning of FTO deposition systems. The end result is increased production throughput and better quality FTO films. This is achieved by using gas phase, in-situ cleaning molecules, such as, but not limited to, HI, CH3I, and HBr, in the FTO deposition chamber to remove unwanted buildup of FTO from chamber walls and components. Significant revenue can be derived from this customer benefit through molecule and technology solution sales related to in-situ FTO TCO chamber cleaning.

Classes IPC  ?

• B08B 5/00 - Nettoyage par des procédés impliquant l'utilisation d'un courant d'air ou de gaz
• C23C 16/448 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p.ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs
• A61L 9/20 - Désinfection, stérilisation ou désodorisation de l'air utilisant des phénomènes physiques des radiations des ultraviolets

Abrégé

The molecular etcher carbonyl fluoride (COF2) or any of its variants, are provided for, according to the present invention, to increase the efficiency of etching and/or cleaning and/or removal of materials such as the unwanted film and/or deposits on the chamber walls and other components in a process chamber or substrate (collectively referred to herein as "materials"). The methods of the present invention involve igniting and sustaining a plasma, whether it is a remote or in-situ plasma, by stepwise addition of additives, such as but not limited to,. a saturated, unsaturated or partially unsaturated perfluorocarbon compound (PFC) having the general formula (CyFz) and/or an oxide of carbon (COx) to a nitrogen trifluoride (NF3) plasma into a chemical deposition chamber (CVD) chamber, thereby generating COF2.

Classes IPC  ?

• B01J 4/00 - Dispositifs d'alimentation; Dispositifs de commande d'alimentation ou d'évacuation

Abrégé

3 and the additive(s) (and any plasma-generated effluents) are present in the CVD chamber during cleaning.

Classes IPC  ?

• C25F 1/00 - Nettoyage, dégraissage, décapage ou enlèvement de battitures par voie électrolytique
• B01J 19/08 - Procédés utilisant l'application directe de l'énergie ondulatoire ou électrique, ou un rayonnement particulaire; Appareils à cet usage
• B01J 19/12 - Procédés utilisant l'application directe de l'énergie ondulatoire ou électrique, ou un rayonnement particulaire; Appareils à cet usage utilisant des radiations électromagnétiques
• B08B 7/00 - Nettoyage par des procédés non prévus dans une seule autre sous-classe ou un seul groupe de la présente sous-classe
• C01B 31/00 - Carbone; Ses composés
• C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) caractérisé par le procédé de revêtement
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes

Abrégé

A method and chemical delivery system are provided. The method includes providing a non-aqueous hydrogen peroxide solution having a vapor phase separated from the substantially non-aqueous hydrogen peroxide solution by a membrane. The method further includes contacting a carrier gas or vacuum with the vapor phase and delivering a gas stream comprising hydrogen peroxide to a critical process or application. The chemical delivery system includes a non-aqueous hydrogen peroxide solution having a vapor phase separated from the substantially non-aqueous hydrogen peroxide solution by a membrane. The system further includes a carrier gas or vacuum in fluid contact with the vapor phase and an apparatus for delivering a gas stream comprising at least one component of the hydrogen peroxide solution to a critical process or application.

Classes IPC  ?

• C01B 15/017 - Peroxyde d'hydrogène anhydre; Solutions ou mélanges gazeux anhydres contenant du peroxyde d'hydrogène

Abrégé

A method and chemical delivery system are provided. The method includes providing a vapor phase of a multi-component liquid source. The method further includes contacting a pre- loaded carrier gas with the vapor phase, wherein the pre-loaded carrier gas includes a carrier gas and at least one component of the multi- component liquid source and delivering a gas stream comprising at least one component of the liquid source to a critical process or application, wherein the amount of the component in the carrier gas is sufficient to keep the ratio of components in the multi- component liquid source relatively constant. The chemical delivery system includes a multi- component liquid source having a vapor phase. The system further includes a pre-loaded carrier gas source that is in fluid contact with the vapor phase, wherein the pre-loaded carrier gas includes a carrier gas and at least one component of the liquid source and an apparatus for delivering a gas stream including at least one component of the liquid source, wherein the amount of the component in the pre-loaded carrier gas is sufficient to keep the ratio of components in the multi-component liquid source relatively constant.

Classes IPC  ?

• B01J 4/00 - Dispositifs d'alimentation; Dispositifs de commande d'alimentation ou d'évacuation

Abrégé

A method and chemical delivery system are provided. The method includes providing a vapor phase of a multi-component liquid source. The method further includes contacting a pre-loaded carrier gas with the vapor phase, wherein the pre-loaded carrier gas includes a carrier gas and at least one component of the multi-component liquid source and delivering a gas stream comprising at least one component of the liquid source to a critical process or application, wherein the amount of the component in the carrier gas is sufficient to keep the ratio of components in the multi-component liquid source relatively constant. The chemical delivery system includes a multi- component liquid source having a vapor phase. The system further includes a pre-loaded carrier gas source that is in fluid contact with the vapor phase, wherein the pre-loaded carrier gas includes a carrier gas and at least one component of the liquid source and an apparatus for delivering a gas stream including at least one component of the liquid source, wherein the amount of the component in the pre-loaded carrier gas is sufficient to keep the ratio of components in the multi-component liquid source relatively constant.

Classes IPC  ?

• B01F 3/04 - Mélange, p.ex. dispersion, émulsion, selon les phases à mélanger de gaz ou de vapeurs avec des liquides

Produits et services

Gases for general industrial use, namely, 1,1,1,2-tetrafluoroethane; 1,1,1-trichioro-2,2,2-trifluoroethane; 1,1,1-trichloroethane; 1,1,2,2-tetrachloroethane; 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane; 1,1,2-trichloroethane; 1,1-dichloroethylene; 1,1-difluoroethane; 1,2-dichiorotetrafluoroethane; 1,3 butadiene; 1-butene; 1-chloro-2-propanol; 1-chloropropane; 1-hexene; 1-octene; 1-pentene; 2,2,4-trimethylpentane; 2,3-dimethylbutane; 2,4-dimethylpentane; 2,5-dimethyithiophene; 2-ethylbutene-1; 2-hexene; 2-methyl butraldehyde; 2-methyl-1-butene; 2-methyl-2-butene; 2-methylbutane; 2-methyihexane; 2-methylpentane; 2-methyithiophene; 2-pentene; 2-propanol; 3,3-dimethyl-1-butene; 3-methyl-1-butene; 3-methylpentane; 4-methyl-1-pentene; 4-vinylcyclohexene; carbon monoxide; carbon dioxide and nitrogen; ethanol in air; acetaldehyde; acetone; acetonitrile; acetylacetone; acetylene; acrolein; acrylonitrile; acrylonitrile; compressed air; allene; ammonia; antimony pentafluoride; argon; argon and carbon dioxide mixture; argon and helium mixture; argon and oxygen mixture; arsenic fluoride; arsenic pentafluoride; arsine; benzene; benzoic acid; benzyl-D7 chionde; bis, 2-methoxyethyl adipate; boron trichloride; boron trifluoride; bromine pentafluoride; bromine trifluoride; bromochiorodifluoromethane; bromotrifluoroethylene; butadiene; butyl benzene; butyl mercaptan; butyl nitrate; calibration gas; carbon dioxide; carbon dioxide in argon and helium mixture; carbon disulfide; carbon monoxide; carbon monoxide in air; carbon monoxide in nitrogen; carbontetrachloride; carbonyl fluoride; carbonyl sulfide; alpha-hydro-omega-hydroxy-poly(oxy-1,2-ethanediyl); chlorine; chlorine trifluoride; multi component mixture containing volatile organics in trace quantities with balance gas nitrogen; chlorobenzene; chlorodifluoromethane; chloroform; chloroiodomethane; chloropentafluoroethane; chlorotrifluoromethane; cinnamaldehyde; cis-1,2-dichloroethylene; cis-2-butene; cis-2-pentene; cumene; cyanogen; cyanogen chloride; cyclohexane; cyclohexanone; cyclopentane; cyclopropane; deuterium; diborane; dibromomethane; dibutyl ether; dichlorodifluoromethane; dichloromethane; dichloromonofluoromethane; dichiorosilane; dichlorotetrafluoroethane; diethyl disufide; diethyl telluride; difluorodibromomethane; difluoromonochloroethane; digermane; dimethyl ether; dimethyl sulfate; dimethyl sulfide; dimethyl sulfoxide; dimethylamine; dimethyl zinc; dipropyl ether; disilane; dodecane; 2-chloro-1-difluoromethoxy-1,1,2-trifluoroethane; ethane; ethanol; ethyl acetate; ethyl acetylene; ethyl acrylate; ethyl alcohol; ethyl benzene; ethyl chloride; ethyl cyclohexane; ethyl ether; ethyl formate; ethyl mercaptan; ethyl methyl sulfide; ethyl sulfide; ethylamine; ethylene; ethylene dichloride; ethylene glycol; ethylene glycol dimethyl ether. ethylene glycol monomethyl ether; ethylene oxide and nitrogen; ethyleneoxide; fluorine; trifluoromethane; fluorotrichloromethane; 2-chloro-2-difluoromethoxy-1,1,1-trifluoroethane; formaldehyde gas; furan; furfuryl alcohol; germanium tetrachloride; germanium tetrahydride; trichlorofluoromethane; chlorotrifluoroethylene; trichlorotrifluoroethane; 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetrafluoroethane; hexafluoroethane; dichlorodifluoromethane; chlorotrifluoromethane;1,1,1,2-tetrafluoroethane; bromotrifluoromethane; carbon tetrafluoride; monochlorodifluoromethane; trifluoromethane; octafluorocyclobutane; 1,1,1-trifluoro-2-chloro-2-bromoethane; helium; heptane; hexafluoroethane; hexafluoropropene; hexafluorpropylene; hydriodic acid; hydrogen; hydrogen bromide; hydrogen chloride; hydrogen cyanide; hydrogen fluoride; hydrogen selenide; hydrogen sulfide; hydrogen iodide; iodine pentafluoride; isobutane; isobutene; isobutyl alcohol; isobutyl nitrate; isobutylene; isohexene; isopentane; isoprene; isopropyl alcohol; isopropyl chloride; isopropyl ether; isopropyl mercaptan; krypton; methane; methane in argon, helium and nitrogen or air mixture; methane; methane and hydrogen gas mixture; methanol; methoxyflurane; methyl acetate; methyl acetylene; methyl acrylate; methyl alcohol; methyl bromide; methyl chloride; methyl chloroform; methyl disulfide; methyl ethyl ketone; methyl fluoride; methyl formate; methyl iodide; methyl isobutyl ketone; methyl mercaptan; methyl methacrylate; methyl propionate; methyl salicylate; methyl tert-butyl ether; methyl vinyl ketone; dimethoxymethane; methylamine; methylcyclopentane; methylene bromide; methylene fluoride; monomethylamine; m-xylene; n-amylamine; metal oxides and metal chlorides; metal oxides, metal bromides absorbed hydrogen bromide on compound, and hydrogen bromide vapor; metal oxides, metal chlorides, absorbed hydrogen chloride on compound, and hydrogen chloride vapor; organolithium polymer, lithium amide, and anhydrous ammonia; organolithium, sulfur hexafluoride, and lithium hydride; organolithium polymer and lithium hydride; metal oxides; naphthalene; n-butane; n-butyl acetate; n-butyl alcohol; n-butyl sulfide; n-butyraldehyde; n-decane; neohexane; neon; neopentane; n-heptane; n-hexane; nickel carbonyl; nitric oxide; nitric oxide and nitrogen mixture; nitric oxide and sulfur dioxide and nitrogen gas mixture; nitrogen dioxide; nitrogen trifluoride; nitrosyl chloride; nitrous oxide; n-octane; nonane; n-pentane; n-propyl acetate; n-propyl alcohol; octafluorocyclobutane; octafluorocyclopentene. octane; o-dichlorobenzene; oxides of nitrogen in nitrogen; oxygen in nitrogen; oxygen, compressed gas; oxygen and nitrogen gas mixture; o-xylene; pentane; perfluoro-2-butene; perfluoropropane; permanganate and alkali impregnated diatomaceous earth; phosgene; phosphine; phosphine pentafluoride; phosphorus pentafluoride; phosphorus trifluoride, piperidine; tetraethylene glycol dimethyl ether and sodium naphthalene complex; ethylene glycol dimethyl ether and sodium naphthalene complex; propane; propane in air; propane in nitrogen; propionaldehyde; propyl mercaptan; propylene; propylene oxide; p-xylene; pyridine; arsenic fluoride; arsine; boron trifluoride; germanium tetrafluoride; phosphine; silicon tetrafluoride; sec-butyl alcohol; silane; silicon tetrachloride; silicon tetrafluoride; sodium dichromate; sodium dispersion in mineral spirits; sodium dispersion in naphthalene; sodium dispersion in transformer oil; sodium metal dispersion in organic solvent; sodium metal; sodium methylate; sodium shot; styrene; styrene monomer; sulfur dioxide; sulfur dioxide in air; sulfur dioxide in nitrogen; sulfur dioxide and nitrogen mixture; sulfur hexafluoride; sulfur tetrafluoride; sulfuryl fluoride; tert-butyl chloride; tert-butyl mercaptan; tetrachloroethylene; tetraethylene glycol dimethyl ether; tetraethylorthosilicate; tetrafluoroethylene; tetrafluoromethane; tetrahydrofuran; tetrahydronaplithalene; thiophene; titanium tetrachloride; toluene; trans-1,2-dichloroethylene; trans-2-butene; trans-2-pentene; trans-3-hexene; trans-3-hexene; transition metal salt impregnated diatomaceous earth; trichioroethylene; trichlorsilane; triethyl phosphite; triethylene glycol; trifluorochloroethylene; trifluoromonobromomethane; trimethyl phosphite; trimethylamine; tungsten hexafluoride; undecane; valeraldehyde; vinyl acetate; vinyl bromide; vinyl chloride; vinyl fluoride; vinyl methyl ether; vinylidene chloride; vinylidene fluoride; xenon; zinc arsenide; enriched stable isotopes; stable isotope labeled compounds; and liquefied gases, namely, argon, carbon dioxide, nitrogen oxide, oxygen, and o-dichlorobenzene Gases used as fuel Gases for medical use

Produits et services

Instruments, namely, gas detectors, safety analyzers, detection systems primarily comprised of gas detectors, gas monitors, gas calibration kits comprised of pressure regulators and flowmeters for field calibration of gas detection systems or portable instrumentation, and regulators and gauges, and controls and parts thereof for the controlled dispensing and measuring of gases in laboratory and industrial use; flow instrumentation, namely, flow meters, mass flow transducers, blenders, gas standards generators, flow-totalizers, rotameters, and control valves for measuring and controlling the flow of gases and for the monitoring and control of gases; apparatus for the handling, measuring, and controlled dispensing of compressed gases from cylinders, namely, control valves, pressure regulators for regulating the handling, measuring, and controlled dispensing of compresses gases and cryogenic liquids, flow meters, and gauges; equipment for gas containment and distribution, namely, gas panels, gas cabinets, gas manifolds, switchover systems primarily comprised of more than one gas source, two regulators and a common discharge line, point-of-use distribution panels, pressure regulators, flow valves, monitors, pressure transducers, and pressure monitors; gas detectors and monitors; and mass flow meters for flow sensing of gases Apparatus for the handling, measuring, and controlled dispensing of compressed gases in cylinders, namely, separators for filtering and purifying compressed gases

Produits et services

Instruments, namely, gas detectors, safety analyzers, detection systems primarily comprised of gas detectors, gas monitors, gas calibration kits comprised of pressure regulators and flowmeters for field calibration of gas detection systems or portable instrumentation, and regulators and gauges, and controls and parts thereof for the controlled dispensing and measuring of gases in laboratory and industrial use; flow instrumentation, namely, flow meters, mass flow transducers, blenders, gas standards generators, flow-totalizers, rotameters, and control valves for measuring and controlling the flow of gases and for the monitoring and control of gases; apparatus for the handling, measuring, and controlled dispensing of compressed gases from cylinders, namely, control valves, pressure regulators for regulating the handling, measuring, and controlled dispensing of compresses gases and cryogenic liquids, flow meters, and gauges; equipment for gas containment and distribution, namely, gas panels, gas cabinets, gas manifolds, switchover systems primarily comprised of more than one gas source, two regulators and a common discharge line, point-of-use distribution panels, pressure regulators, flow valves, monitors, pressure transducers, and pressure monitors; gas detectors and monitors; and mass flow meters for flow sensing of gases Apparatus for the handling, measuring, and controlled dispensing of compressed gases in cylinders, namely, separators for filtering and purifying compressed gases

Abrégé

A method (500) for cleaning an article such as a EUV (extreme ultraviolet) lithography reticle is provided. The method includes evacuating a cleaning chamber and loading the article to be cleaned into the cleaning chamber (510); preparing the environment of the chamber (520) by connecting the cleaning chamber to a vapor source while controlling pressure in the cleaning chamber to a predetermined pressure; controlling a temperature of the article relative to a temperature of the vapor source so as to form a liquid film (530) over the article and over particles present on the article; isolating the cleaning chamber from the vapor source; evaporating the liquid film (540) by exposing the cleaning chamber to one or more condensing surfaces whose temperature is lower than that of the article, the evaporating liquid transporting at least a portion of the particles away from the article, which is then unloaded from the chamber (560). The cleaning steps (520 to 540) can be repeated (550) as desired.

Classes IPC  ?

• B08B 3/04 - Nettoyage impliquant le contact avec un liquide

Abrégé

The present invention discloses that under modified chemical vapor deposition (mCVD) conditions an epitaxial silicon film may be formed by exposing a substrate contained within a chamber to a relatively high carrier gas flow rate in combination with a relatively low silicon precursor flow rate at a temperature of less than about 550°C and a pressure in the range of about 10 mTorr - 200 Torr. Furthermore, the crystalline Si may be in situ doped to contain relatively high levels of substitutional carbon by carrying out the deposition at a relatively high flow rate using tetrasilane as a silicon source and a carbon-containing gas such as dodecalmethylcyclohexasilane or tetramethyldisilane under modified CVD conditions.

Classes IPC  ?

• C30B 25/02 - Croissance d'une couche épitaxiale

Abrégé

Cyclohexasilane is used in chemical vapor deposition methods to deposit epitaxial silicon-containing films over substrates. Such methods are useful in semiconductor manufacturing to provide a variety of advantages, including uniform deposition over heterogeneous surfaces, high deposition rates, and higher manufacturing productivity. Furthermore, the crystalline Si may be in situ doped to contain relatively high levels of substitutional carbon by carrying out the deposition at a relatively high flow rate using cyclohexasilane as a silicon source and a carbon-containing gas such as dodecalmethylcyclohexasilane or tetramethyldisilane under modified CVD conditions.

Classes IPC  ?

• H01L 21/469 - Traitement de corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes pour changer les caractéristiques physiques ou la forme de leur surface, p.ex. gravure, polissage, découpage pour y former des couches isolantes, p.ex. pour masquer ou en utilisant des techniques photolithographiques; Post-traitement de ces couches

Abrégé

A vaporizing device and method for operating same is provided for control, delivery, and/or purification of a vapor of a liquid, e.g., for use in micro-electronics and other critical process applications.

Classes IPC  ?

• B01D 61/00 - Procédés de séparation utilisant des membranes semi-perméables, p.ex. dialyse, osmose ou ultrafiltration; Appareils, accessoires ou opérations auxiliaires, spécialement adaptés à cet effet

Abrégé

A gas cylinder transport cap is described. The cap has a bottom opening adapted for reversible attachment to a gas cylinder, where the attached cap surrounds a cylinder valve coupled to the gas cylinder. The cap also has a side surface which at least in part defines the perimeter of the bottom opening, where the side surface include a plurality of side openings; and a top surface formed on an opposite side of the cap from the bottom surface, where the top surface includes a top opening. The side openings and top opening improve transmissions of radio-frequency signals from a RFID device positioned inside the cylinder cap when the cap is attached to the gas cylinder. A method of tracking a gas cylinder transported between a first and second location is also described. The method may include the steps of coupling the gas cylinder to a RFID device, loading the gas cylinder on a transportation vehicle, and reading a gas cylinder identification signal transmitted by the RFID device with an RFID signal reader that translates the signal into gas cylinder identification data. The gas cylinder identification data may be associated with location data provided by a GPS device located in the transportation vehicle. The identification and location data may be communicated to gas cylinder tracking system that is remote from the transportation vehicle.

Classes IPC  ?

• F17C 13/02 - Adaptations spéciales des dispositifs indicateurs, de mesure ou de contrôle
• F17C 13/04 - Disposition ou montage des soupapes

Produits et services

Apparatus and instruments for conducting, switching, transforming, distributing, accumulating, transmitting, regulating or controlling gases and fluids, namely, regulators and gauges, and controls and parts thereof for the controlled dispensing and measuring of gases, flow meters, rotameters, control valves, gas panels, gas manifolds, switchover systems, distribution panels, pressure regulators, and flow valves

Abrégé

Methods of cleaning a process chamber used to fabricate electronics components are described. The methods may include the step of providing a cleaning gas mixture to the process chamber, where the cleaning gas mixture may include a fluorine-containing precursor, and where the cleaning gas mixture removes contaminants from interior surfaces of the processing chamber that are exposed to the cleaning gas mixture. The methods may also include the steps of removing the reaction products of the cleaning gas mixture from the process chamber, and providing a substrate to the process chamber following the evacuation of the reaction products from the process chamber. The cleaning gas mixture may include one or more hydrofluoronated ethers, and the contaminants may include one or more tin-containing contaminants.

Classes IPC  ?

• H01L 21/302 - Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage

Abrégé

Methods of forming a conductive fluorine-doped metal oxide layer on a substrate by chemical vapor deposition are described. The methods may include heating the substrate in a processing chamber, and introducing a metal-containing precursor and a fluorine-containing precursor to the processing chamber. The methods may also include adding an oxygen-containing precursor to the processing chamber. The precursors are reacted to deposit the fluorine-doped metal oxide layer on the substrate. Methods may also include forming the conductive fluorine-doped metal oxide layer by plasma-assisted chemical vapor deposition. These methods may include providing the substrate in a processing chamber, and introducing a metal-containing precursor, and a fluorine-containing precursor to the processing chamber. A plasma may be formed that includes species from the metal-containing precursor and the fluorine-containing precursor. The species may react to deposit the fluorine-doped metal oxide layer on the substrate.

Classes IPC  ?

• C01G 23/053 - Obtention par voie humide, p.ex. par hydrolyse de sels de titane
• C01G 23/00 - Composés du titane
• C09C 1/36 - Composés du titane

Abrégé

Methods of etching high-aspect-ratio features in dielectric materials such as silicon oxide are described. The methods may include a concurrent introduction of a fluorocarbon precursor and an iodo-fluorocarbon precursor into a substrate processing system housing a substrate. The fluorocarbon precursor may have a F:C atomic ratio of about 2:1 or less, and the iodo-fluorocarbon may have a F:C ratio of about 1.75:1 to about 1.5:1. Exemplary precursors may include C4F6, C5F8 and C2F3I, among others. The substrate processing system may be configured to allow creation of a plasma useful for accelerating ions created in the plasma toward the substrate. The substrate may have regions of exposed silicon oxide and an overlying patterned photoresist layer which exposes narrow regions of silicon oxide. The etch process may remove the silicon oxide to a significant depth while maintaining a relatively constant width down the trench.

Classes IPC  ?

• H01L 21/31 - Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes pour former des couches isolantes en surface, p.ex. pour masquer ou en utilisant des techniques photolithographiques; Post-traitement de ces couches; Emploi de matériaux spécifiés pour ces couches
• H01L 23/58 - Dispositions électriques structurelles non prévues ailleurs pour dispositifs semi-conducteurs

Abrégé

Methods of cleaning a processing chamber with nitrogen trifluoride (NF3) are described. The methods involve a concurrent introduction of nitrogen trifluroide and a reactive diluent into the chamber. The NF3 may be excited in a plasma inside the chamber or in a remote plasma region upstream from the chamber. The reactive diluent may be introduced upstream or downstream of the remote plasma such that both NF3 and the reactive diluent (and any plasma-generated effluents) are present in the chamber during cleaning. The presence of the reactive diluent enhances the chamber-cleaning effectiveness of the NF3.

Classes IPC  ?

• B08B 3/00 - Nettoyage par des procédés impliquant l'utilisation ou la présence d'un liquide ou de vapeur d'eau

Produits et services

Compressed gases and gas mixtures for industrial use other than as fuel, namely, stabilized methylacetylene and propadiene mixtures, propylene and acetylene gas, oxygen, breathing air, nitrogen, argon, helium, hydrogen, carbon dioxide, and tri-mix and specialty gas mixtures combining the foregoing; propylene and acetylene gas used in welding and cutting Fuel gases, namely, acetylene, propylene, hydrogen, and a mixture of stabilized methylacetylene and propadiene Maintenance of pressurized gas and liquid containment cylinders, namely, shot blasting of cylinders, painting, internal and external cleaning, neck ring replacement and disposal of condemned cylinders; cylinder requalification, namely, repair of pressurized gas cylinders; cylinder gas conversion, namely, conversion of liquid cylinders to gas and gas cylinders to liquid; filling of gas storage cylinders and containers for others Product testing and inspections, namely, hydrostatic testing for leaks in pressurized gas and liquid containment cylinders; cylinder requalification, namely, material testing to determine the reusability of pressurized gas and liquid containment cylinders; inspection of pressurized gas and liquid containment cylinders

Produits et services

Compressed gases and gas mixtures for industrial use other than as fuel, namely, stabilized methylacetylene and propadiene mixtures, propylene and acetylene gas, oxygen, breathing air, nitrogen, argon, helium, hydrogen, carbon dioxide, and tri-mix and specialty gas mixtures combining the foregoing; propylene and acetylene gas used in welding and cutting Fuel gases, namely, acetylene, propylene, hydrogen, and a mixture of stabilized methylacetylene and propadiene Maintenance of pressurized gas and liquid containment cylinders, namely, shot blasting of cylinders, painting, internal and external cleaning, neck ring replacement and disposal of condemned cylinders; cylinder requalification, namely, repair of pressurized gas cylinders; cylinder gas conversion, namely, conversion of liquid cylinders to gas and gas cylinders to liquid; filling of gas storage cylinders and containers for others Product testing and inspections, namely, hydrostatic testing for leaks in pressurized gas and liquid containment cylinders; cylinder requalification, namely, material testing to determine the reusability of pressurized gas and liquid containment cylinders; inspection of pressurized gas and liquid containment cylinders

Produits et services

Compressed gases and gas mixtures for industrial use other than as fuel, namely, stabilized methyacetylene and propadiene mixtures, propylene and acetylene gas, oxygen, breathing air, nitrogen, argon, helium, hydrogen, carbon dioxide, and tri-mix and specialty gas mixtures combining the foregoing; propylene and acetylene gas used in welding and cutting Fuel gases, namely, acetylene, propylene, hydrogen, and a mixture of stabilized methyacetylene and propadiene Distributorships in the fields of propylene and acetylene gas used in welding and cutting, and cylinder valves

Produits et services

Electronic switchover devices, namely, electronic switches for switching between gas supply units, for use in connection with the supply of gases used for welding purposes; mechanical switches being parts of laser welding devices Gas regulators for use in connection with the supply of gases used for welding and cutting purposes

Produits et services

Welding gases, industrial gases, medical gases, specialty gases (including helium), bulk gases, electronic gases, etch and implant gases; gases for laboratory and industrial purposes, including helium; purification systems; gases used as fuel. Apparatus for handling, measurement and controlled administration of compressed gas; single solenoid valves (electromagnetic switches); natural and synthetic cell signal transduction regulators; gas flow meters and gas measuring instruments. Gas handling equipment and delivery systems, including valves, filters, process components, piping, and instrumentation, hydrogen generators, and high performance delivery systems; Safety equipment and supplies relating to gases; gas generators. Research and design of gas generators.

Abrégé

Methods and systems of purifying an acetylene process gas are described. The methods may include the steps of providing an acetylene vessel containing source acetylene mixed with a solvent impurity, and flowing the source acetylene through a purification container that holds a cooled purifying medium, where at least a portion of the solvent impurity in the source acetylene separates as a liquid impurity on the purifying medium. The method may also include removing the liquid from the purification container and flowing a purified acetylene gas from the purification container. The purified acetylene gas has a concentration of the solvent impurity of about 5 vol.% or less, and the separated liquid impurity is removed without interrupting the flow of the acetylene while the purified acetylene gas flows from the purification container to keep the concentration of the solvent impurity substantially constant in the purified acetylene gas.

Classes IPC  ?

• B01D 53/78 - Procédés en phase liquide avec un contact gaz-liquide
• B01D 53/02 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par adsorption, p.ex. chromatographie préparatoire en phase gazeuse
• B01D 53/38 - Elimination des composants de structure non définie

Produits et services

[ Instruments, namely, gas chromatographs, process analyzers, laboratory analyzers, gas detectors, safety analyzers, spectyophotometers, spectrometers, detection systems primarily comprised of gas detectors, gas monitors, gas calibration kits comprised of pressure regulators and flowmeters for field calibration of gas detection systems or portable instrumentation, and gas analyzers, ] regulators and gauges, and controls and parts thereof for the controlled dispensing and measuring of gases in [ laboratory and ] industrial use; [ flow and level instrumentation, namely, flow meters, mass flow transducers, blenders, gas standards generators, flow-totalizers, rotameters, and control valves for measuring and controlling the flow of gases and for the monitoring and control of gases;] apparatus for the handling, measuring, and controlled dispensing of compressed gases from cylinders, namely, control valves, pressure regulators for regulating the handling, measuring, and controlled dispensing of compresses gases, [ and cryogenic liquids, ] flow meters, and gauges; [ equipment for gas containment and distribution, namely, gas panels, gas cabinets, gas manifolds, switchover systems primarily comprised of more than one gas source, two regulators and a common discharge line, point-of-use distribution panels, pressure regulators, flow valves, monitors, pressure transducers, and pressure monitors; gas detectors and monitors; gas hygrometers; ] welders, in the nature of electric stick metal arc, tungsten inert gas, metal inert gas, plasma, and submerged arc welders, welding electrodes and wire therefor; protective masks, namely, welding masks, gas masks, and dust masks; protective gloves; and mass flow meters for flow sensing of gases

Abrégé

Ionic fluid mixtures are described that include an ionic liquid and a solid-phase material. The ionic liquid and the solid-phase material are selected to convert the solid-phase material into a gas phase material at a temperature that is lower than a conversion of the ionic liquid into a gas phase ionic material. In addition, methods of supplying a gaseous precursor to an application are described. These methods include providing a mixture of an ionic liquid and a solid-phase starting material, heating the mixture to a temperature that vaporizes at least a portion of the solid-phase starting material into the gaseous precursor, and transporting the gaseous precursor from the mixture to the application that utilizes the gaseous precursor.

Classes IPC  ?

• B01J 31/00 - Catalyseurs contenant des hydrures, des complexes de coordination ou des composés organiques
• C23C 16/00 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

Abrégé

Methods of purifying hydrogen-containing materials are described. The methods may include the steps of providing a purifier material comprising silica. The silica may be heated at temperature of about 100° C. or more in a dry atmosphere to form activated silica. The activated silica may be contacted with a starting hydrogen-containing material, where the activated silica reduces a concentration of one or more impurity from the starting hydrogen-containing material to form the purified hydrogen-containing material, and where the activated silica does not decompose the purified hydrogen-containing material.

Classes IPC  ?

• B01D 53/02 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par adsorption, p.ex. chromatographie préparatoire en phase gazeuse

Abrégé

Methods of purifying hydrogen-containing materials are described. The methods may include the steps of providing a purifier material comprising silica. The silica may be heated at temperature of about 100 °C or more in a dry atmosphere to form activated silica. The activated silica may be contacted with a starting hydrogen-containing material, where the activated silica reduces a concentration of one or more impurity from the starting hydrogen-containing material to form the purified hydrogen-containing material, and where the activated silica does not decompose the purified hydrogen-containing material.

Classes IPC  ?

• B01J 20/18 - Tamis moléculaires zéolitiques synthétiques
• B01D 53/04 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par adsorption, p.ex. chromatographie préparatoire en phase gazeuse avec adsorbants fixes

Abrégé

A method and device for storing and dispensing a fluid includes providing a vessel configured for selective dispensing of the fluid therefrom. Provided within a vessel is a nancomposite material comprising an imidazolium surfactant and an integral solvent that is essential to the formation of the nancomposite material. The fluid is contacted with the nanocomposite material for take-up of the fluid by the polymerized nanocomposite material. The fluid is released from the nanocomposite material and dispensed from the vessel.

Classes IPC  ?

• F17C 11/00 - Utilisation de solvants ou d'absorbants des gaz dans les récipients
• B01D 53/14 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par absorption
• C01B 3/00 - Hydrogène; Mélanges gazeux contenant de l'hydrogène; Séparation de l'hydrogène à partir de mélanges en contenant; Purification de l'hydrogène
• C07D 233/56 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 3 ou diazole-1, 3 hydrogéné, non condensés avec d'autres cycles comportant deux liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés aux atomes de carbone du cycle
• C07D 233/58 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 3 ou diazole-1, 3 hydrogéné, non condensés avec d'autres cycles comportant deux liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés aux atomes de carbone du cycle avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés aux atomes d'azote du cycle
• C07D 233/60 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 3 ou diazole-1, 3 hydrogéné, non condensés avec d'autres cycles comportant deux liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés, substitués par des atomes d'oxygène ou de soufre, liés aux atomes d'azote du cycle

Produits et services

Humidifiers for use only in industrial machinery

Abrégé

A fluid handling unit is disclosed and includes a body, a plurality of fluid passage ports formed in the body, and a plurality of orifices formed on surfaces of the body to provide fluid access to the ports from outside the unit. At least two of the orifices may have different cross-sectional areas. A modular fluid handling system is also disclosed and includes a plurality of fluid handling units, wherein adjacent fluid handling units are coupled together to form the fluid handling system. The fluid handling system may deliver fluid from at least one fluid source to fluid utilizing equipment. A plurality of fluid passages may be formed by the fluid handling units, and the diameter of one fluid passage may be greater than the diameter of another fluid passage. At least one control component may be coupled with at least one fluid handling unit.

Classes IPC  ?

• F16K 11/20 - Soupapes ou clapets à voies multiples, p.ex. clapets mélangeurs; Raccords de tuyauteries comportant de tels clapets ou soupapes; Aménagement d'obturateurs et de voies d'écoulement spécialement conçu pour mélanger les fluides dont plusieurs éléments de fermeture ne se déplacent pas comme un tout actionnés par des organes de commande distincts

Abrégé

According to the invention, a system for applying torque to a valve element that stops fluid flow through the valve is disclosed. The system may include an input element, a drive element, and a torque transferring mechanism. The input element may be configured to receive a torque. The drive element may be configured to apply substantially none of the torque, or at least a portion of the torque, to the valve element. The torque transferring mechanism may be configured to receive the torque from the input element, and transfer substantially none of the torque, or at least a portion of the torque, to the drive element based at least in part on a resistance of the valve element to turning.

Classes IPC  ?

• F16K 31/44 - Moyens mécaniques d'actionnement

Abrégé

According to the invention, a system for applying torque to a valve element that stops fluid flow through the valve is disclosed. The system may include an input element, a drive element, and a torque transferring mechanism. The input element may be configured to receive a torque. The drive element may be configured to apply substantially none of the torque, or at least a portion of the torque, to the valve element. The torque transferring mechanism may be configured to receive the torque from the input element, and transfer substantially none of the torque, or at least a portion of the torque, to the drive element based at least in part on a resistance of the valve element to turning.

Classes IPC  ?

• F16K 31/44 - Moyens mécaniques d'actionnement

Abrégé

A method and device for storing and dispensing a fluid includes providing a vessel configured for selective dispensing of the fluid therefrom. Provided within a vessel is a nancomposite material comprising an imidazolium surfactant and an integral solvent that is essential to the formation of the nancomposite material. The fluid is contacted with the nanocomposite material for take-up of the fluid by the polymerized nanocomposite material. The fluid is released from the nanocomposite material and dispensed from the vessel.

Classes IPC  ?

• F17C 11/00 - Utilisation de solvants ou d'absorbants des gaz dans les récipients
• B01D 53/14 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par absorption
• C01B 3/00 - Hydrogène; Mélanges gazeux contenant de l'hydrogène; Séparation de l'hydrogène à partir de mélanges en contenant; Purification de l'hydrogène
• C07D 233/56 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 3 ou diazole-1, 3 hydrogéné, non condensés avec d'autres cycles comportant deux liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés aux atomes de carbone du cycle
• C07D 233/58 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 3 ou diazole-1, 3 hydrogéné, non condensés avec d'autres cycles comportant deux liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés aux atomes de carbone du cycle avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés aux atomes d'azote du cycle
• C07D 233/60 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazole-1, 3 ou diazole-1, 3 hydrogéné, non condensés avec d'autres cycles comportant deux liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés, substitués par des atomes d'oxygène ou de soufre, liés aux atomes d'azote du cycle

Abrégé

A vaporizing device is provided for control, delivery, and purification of low vapor pressure gases in conjunction with carrier gas in micro-electronics and other critical applications.

Classes IPC  ?

• B01F 3/04 - Mélange, p.ex. dispersion, émulsion, selon les phases à mélanger de gaz ou de vapeurs avec des liquides
• C23C 16/00 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

Abrégé

A fluid connector is provided that allows for the simultaneous sealing of multiple tubes within a single outer shell when an external radial compressive force is applied.

Classes IPC  ?

• F16L 25/00 - Structure ou détails de raccords de tuyaux non prévus dans les groupes ou présentant in intérêt autre que celui visé par ces groupes

Produits et services

STEAM GENERATORS, DRYERS, NAMELY, DRYERS FOR THE REMOVAL OF WATER VAPOR FROM COMPRESSED AIR AND GASES, HUMIDIFIERS

Abrégé

In one embodiment, a device to resurface a sealing surface of a fluid connector in a fluid delivery component is provided. The device may include a housing adapted to be reversibly coupled to the fluid connector. Included may be an arbor which is at least partially disposed in the housing, and both rotationally and axially movable within the housing. The arbor may have a first end proximal to the sealing surface and a second distal end adapted to receive rotational actuation. A resurfacing head may be positioned at the first end of the arbor, and may have a resurfacing face that includes a circular resurfacing groove adapted to fit a circular ridge on the sealing surface of the connector. Rotational contact between the groove and the ridge may cause the resurfacing of the sealing surface. The housing may keep the resurfacing head and the sealing surface aligned during the resurfacing.

Classes IPC  ?

• B24B 19/00 - Machines ou dispositifs conçus spécialement pour une opération particulière de meulage non couverte par d'autres groupes principaux

Abrégé

A method of coating an interior of a gas storage container, where the method includes supplying a chemical vapor precursor to the storage container, and forming a metal coating on the interior surface of the container, where the coating is formed from the chemical vapor precursor. Also, a gas storage container that includes a gas storage vessel with an interior surface that has a liner formed on the interior surface of the storage vessel. The liner may include tungsten metal with a purity of about 99%, by weight, or more. Additionally, a system for making a metal lined gas storage container that may include a chemical vapor precursor generator, and a precursor injection assembly for transporting the precursor into a gas storage vessel. The system may also include an exhaust outlet for removing gaseous deposition products from the gas storage vessel.

Classes IPC  ?

• B65D 85/84 - Réceptacles, éléments d'emballage ou paquets spécialement adaptés à des objets ou à des matériaux particuliers pour produits chimiques corrosifs

Abrégé

Methods for the purification of steam, systems for purifying steam, methods for measuring and/or controlling steam flow rates, and uses for purified steam are provide. Also provided are substantially gas-impermeable membranes, such as perfluorinated ionomers (e.g., perfluoroethylene-sulfonic-acid/ tetrafluoroethylene membranes), having a high ratio of water vapor permeation relative to gas permeation through the membrane. Also provided are methods of operation of such membranes at relatively high operating temperatures for the purification of steam and for operation of such membranes at relatively low temperature and sub-atmospheric pressures for the purification of steam. In a preferred embodiment, the system 400 for purifying steam comprises heater 404 for creating a source of a steam feed, and a purification device 416 for housing a substantially gas-impermeable membrane 424. In the operation of system 400, water, such as deionized water, is added to vessel 402 to provide a source of the steam feed.

Classes IPC  ?

• B01D 15/00 - Procédés de séparation comportant le traitement de liquides par des adsorbants ou des absorbants solides; Appareillages pour ces procédés

Abrégé

A method of storing and dispensing a fluid includes providing a vessel configured for selective dispensing of the fluid therefrom. The vessel contains an ionic liquid therein. The fluid is contacted with the ionic liquid for take-up of the fluid by the ionic liquid. There is substantially no chemical change in the ionic liquid and the fluid. The fluid is released from the ionic liquid and dispensed from the vessel.

Classes IPC  ?

• B01D 11/00 - Extraction par solvants

Abrégé

A method of storing and dispensing a fluid includes providing a vessel configured for selective dispensing of the fluid therefrom. A solvent mixture comprising an ionic liquid and a cosolvent is provided within the vessel. The fluid is contacted with the solvent mixture for take-up of the fluid by the solvent mixture. The fluid is released from the ionic liquid and dispensed from the vessel.

Classes IPC  ?

• B01D 11/00 - Extraction par solvants

Abrégé

A system (10) for leak-testing an article (20) required to be fluid leak-tight in use at a fluid contacting region (38) thereof, to determine fluid leakage through the article to a non-fluid contacting region (40) of the article. The system includes a leak-testing fluid held in confinement by the fluid-contacting region of the article, a vacuum assembly (46, 66) arranged for establishing a vacuum environment at the non-fluid-contacting region of the article, and a leak detector (76) arranged to detect presence or absence of the leak-testing fluid in the vacuum environment, to determine fluid leakage through the article. The system enables leak sensitivity significantly below 1 x 10-6 standard atmospheric-cc/sec to be achieved, e.g., sensitivity in a range of from 1 x 10-7 to 1 x 10-11 standard atmospheric-cc/sec, and is useful for quality assurance testing of vessels (118) intended to carry hazardous gases.

Classes IPC  ?

• G01M 3/26 - Examen de l'étanchéité des structures ou ouvrages vis-à-vis d'un fluide par utilisation d'un fluide ou en faisant le vide par mesure du taux de perte ou de gain d'un fluide, p.ex. avec des dispositifs réagissant à la pression, avec des indicateurs de débit

Abrégé

A system and method for processing a matrix fluid to remove one or more impurities (such as moisture from a process gas). The purifier includes a pre-cooler that receives the matrix fluid and cools the matrix fluid to a second, lower temperature. A container is provided to contain a purifier element made up of a high surface area material. The container includes an inlet for receiving the matrix fluid from the pre-cooler and an outlet for outputting the matrix fluid after it is forced to flow through the purifier element. The purifier includes a cooler in thermal contact with an outer surface of the container to cool the outer surface of the container to a purifying temperature, which is selected to be below the ambient temperature and above a phase change point of the matrix fluid and is typically in the range of about 0 to −200° C.

Classes IPC  ?

• B01D 53/04 - SÉPARATION Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par adsorption, p.ex. chromatographie préparatoire en phase gazeuse avec adsorbants fixes