- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C01G - Composés contenant des métaux non couverts par les sous-classes ou
- C01G 19/00 - Composés de l'étain
Détention brevets de la classe C01G 19/00
Brevets de cette classe: 370
Historique des publications depuis 10 ans
|
17
|
27
|
26
|
35
|
20
|
22
|
20
|
13
|
21
|
1
|
| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Mitsubishi Materials Corporation | 2406 |
18 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3343 |
11 |
| Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | 11101 |
10 |
| Kyodo Printing Co., Ltd. | 153 |
10 |
| Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd. | 129 |
9 |
| E. I. du Pont de Nemours and Company | 4249 |
7 |
| Nikon Corporation | 7123 |
7 |
| Tohoku University | 2683 |
7 |
| Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | 1426 |
6 |
| Nanoco Technologies Ltd. | 144 |
6 |
| LG Chem, Ltd. | 17639 |
5 |
| Toyota Motor Corporation | 30455 |
5 |
| FUJIFILM Corporation | 28805 |
5 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5446 |
5 |
| NGK Insulators, Ltd. | 4792 |
5 |
| Murata Manufacturing Co., Ltd. | 23702 |
4 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 8988 |
4 |
| Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 4103 |
4 |
| Dowa Electronics Materials Co., Ltd. | 621 |
4 |
| Kyoto University | 2778 |
4 |
| Autres propriétaires | 234 |