- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C01G - Composés contenant des métaux non couverts par les sous-classes ou
- C01G 19/02 - Oxydes
Détention brevets de la classe C01G 19/02
Brevets de cette classe: 288
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Mitsubishi Materials Corporation | 2482 |
19 |
| HHeLi, LLC | 77 |
13 |
| Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | 1064 |
8 |
| National Institute of Advanced Industrial Science and Technology | 3790 |
5 |
| Soochow University | 1788 |
5 |
| FUJIFILM Corporation | 30689 |
4 |
| Korea Advanced Institute of Science and Technology | 4708 |
4 |
| Cornell University | 3455 |
4 |
| JX Nippon Mining & Metals Corporation | 1454 |
4 |
| Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd. | 143 |
4 |
| SICPA Holding SA | 961 |
4 |
| Centre National de La Recherche Scientifique | 11111 |
3 |
| Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | 11896 |
3 |
| Commissariat à l'énergie atomique et aux energies alternatives | 11130 |
3 |
| Essilor International (compagnie Generale D'optique) | 3001 |
3 |
| FPInnovations | 224 |
3 |
| Korea Research Institute of Chemical Technology | 1490 |
3 |
| University of Houston System | 1130 |
3 |
| Unigrid, Inc. | 17 |
3 |
| Mitsui Kinzoku Company, Limited | 484 |
3 |
| Autres propriétaires | 187 |