- Sections
- C - Chimie; métallurgie
- C07D - Composés hétérocycliques
- C07D 213/54 - Radicaux substitués par des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p.ex. radicaux ester ou nitrile
Détention brevets de la classe C07D 213/54
Brevets de cette classe: 64
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Fortephest Ltd. | 8 |
5 |
| Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. | 861 |
4 |
| Toyama Chemical Co., Ltd. | 108 |
4 |
| Abbvie Inc. | 1781 |
3 |
| Shenzhen Chipscreen Biosciences Ltd. | 26 |
3 |
| VALO Health, Inc. | 167 |
3 |
| The Regents of the University of California | 19479 |
2 |
| Genentech, Inc. | 3864 |
2 |
| Bayer Pharma AG | 1085 |
2 |
| Epizyme, Inc. | 386 |
2 |
| MedImmune Limited | 624 |
2 |
| Nippon Shinyaku Co., Ltd. | 317 |
2 |
| Calico Life Sciences LLC | 81 |
2 |
| Glaxo Group Limited | 4286 |
1 |
| Bristol-myers Squibb Company | 4886 |
1 |
| Boehringer Ingelheim International GmbH | 4762 |
1 |
| Syngenta Crop Protection AG | 4885 |
1 |
| Syngenta Limited | 482 |
1 |
| DSM IP Assets B.V. | 5817 |
1 |
| Aston University | 128 |
1 |
| Autres propriétaires | 21 |