- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C07D - Composés hétérocycliques
- C07D 235/16 - Radicaux substitués par des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile
Détention brevets de la classe C07D 235/16
Brevets de cette classe: 184
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Cephalon LLC | 121 |
8 |
| Cephalon, Inc. | 104 |
5 |
| Purdue Pharmaceutical Products L.P. | 33 |
5 |
| Drexel University | 996 |
4 |
| Gilead Sciences, Inc. | 2226 |
4 |
| Jiangsu Hengrui Medicine Co., Ltd. | 690 |
4 |
| Kinki University | 248 |
4 |
| Nippon Chemiphar Co., Ltd. | 226 |
4 |
| Rutgers, The State University of New Jersey | 1972 |
4 |
| Terns Pharmaceuticals, Inc. | 86 |
4 |
| Abbvie Inc. | 1824 |
3 |
| Mayo Foundation for Medical Education and Research | 3386 |
3 |
| Canopy Growth Corporation | 212 |
3 |
| Fresenius Kabi Oncology Limited | 70 |
3 |
| Shanghai Hengrui Pharmaceutical Co., Ltd. | 718 |
3 |
| University of Massachusetts | 2317 |
3 |
| LG Chem, Ltd. | 17929 |
2 |
| FUJIFILM Corporation | 30516 |
2 |
| President and Fellows of Harvard College | 6092 |
2 |
| The Board of Trustees of the University of Illinois | 2746 |
2 |
| Autres propriétaires | 112 |