- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C07D - Composés hétérocycliques
- C07D 317/22 - Radicaux substitués par des atomes d'oxygène ou de soufre liés par des liaisons simples éthérifiés
Détention brevets de la classe C07D 317/22
Brevets de cette classe: 97
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| ENI S.p.A. | 1250 |
6 |
| Ambrx, Inc. | 192 |
4 |
| Promega Corporation | 557 |
4 |
| Eisai R&D Management Co., Ltd. | 1274 |
4 |
| FUJIFILM Corporation | 28805 |
3 |
| Gfbiochemicals Limited | 51 |
3 |
| Gilead Sciences, Inc. | 1951 |
3 |
| The Regents of the University of California | 19517 |
2 |
| Bayer Schering Pharma AG | 429 |
2 |
| FMC Corporation | 852 |
2 |
| NOK Corporation | 2166 |
2 |
| Symrise AG | 1678 |
2 |
| Toyo Gosei Co., Ltd. | 109 |
2 |
| University of Connecticut | 816 |
2 |
| Melchior Material and Life Science France | 33 |
2 |
| Berlirem GmbH | 4 |
2 |
| Beijing Tienyi Lufu PharmaTech Co. Ltd. | 6 |
2 |
| NanoVation Therapeutics Inc. | 44 |
2 |
| The Procter & Gamble Company | 22146 |
1 |
| BASF SE | 20432 |
1 |
| Autres propriétaires | 46 |