- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C07D - Composés hétérocycliques
- C07D 333/22 - Radicaux substitués par des hétéro-atomes liés par une liaison double ou par deux hétéro-atomes, autres que des halogènes, liés au même atome de carbone par des liaisons simples
Détention brevets de la classe C07D 333/22
Brevets de cette classe: 303
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| The Regents of the University of California | 20137 |
9 |
| FUJIFILM Corporation | 29702 |
5 |
| Allergan, Inc. | 2334 |
4 |
| Sumitomo Electric Industries, Ltd. | 15659 |
4 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9086 |
4 |
| Amyris, Inc. | 376 |
4 |
| Kyushu University, National University Corporation | 1660 |
4 |
| Ludwig-Maximilians-Universitat Munchen | 341 |
4 |
| National Institute of Information and Communications Technology | 639 |
4 |
| Nissan Chemical Corporation | 2077 |
4 |
| Novartis AG | 10709 |
3 |
| Centre National de La Recherche Scientifique | 10576 |
3 |
| Corning Incorporated | 10327 |
3 |
| Daikin Industries, Ltd. | 10111 |
3 |
| Katholieke Universiteit Leuven | 1200 |
3 |
| Kureha Corporation | 1040 |
3 |
| Osaka University | 3394 |
3 |
| Saga University | 148 |
3 |
| Sirrus, Inc. | 48 |
3 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1552 |
3 |
| Autres propriétaires | 227 |