- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 122/14 - Esters ne contenant pas de groupes acide carboxylique libres
Détention brevets de la classe C08F 122/14
Brevets de cette classe: 30
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Hubei Gurun Technology Co., Ltd | 48 |
4 |
| Namics Corporation | 483 |
3 |
| PolyCharge America Inc. | 5 |
3 |
| 3m Innovative Properties Company | 17481 |
2 |
| LG Chem, Ltd. | 17929 |
2 |
| Nippon Shokubai Co., Ltd. | 1542 |
2 |
| Sirrus, Inc. | 47 |
2 |
| Merck Patent GmbH | 5729 |
1 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 10624 |
1 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4723 |
1 |
| Henkel AG & Co. KGaA | 10762 |
1 |
| BenQ Materials Corporation | 169 |
1 |
| Dexerials Corporation | 1995 |
1 |
| Osaka Gas Chemicals Co., Ltd. | 144 |
1 |
| PTT Global Chemical PCL | 121 |
1 |
| Seeo, Inc. | 149 |
1 |
| Taoka Chemical Co., Ltd. | 60 |
1 |
| Rolic Technologies AG | 51 |
1 |
| Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | 3754 |
1 |
| Autres propriétaires | 0 |