- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 20/00 - Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
Détention brevets de la classe C08F 20/00
Brevets de cette classe: 440
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30424 |
40 |
| LG Chem, Ltd. | 17913 |
18 |
| DIC Corporation | 3953 |
14 |
| BASF SE | 21261 |
13 |
| Nippon Shokubai Co., Ltd. | 1532 |
13 |
| Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | 1044 |
10 |
| Nitto Denko Corporation | 8519 |
9 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9029 |
8 |
| Alcon, Inc. | 5811 |
8 |
| Sekisui Chemical Co., Ltd. | 3593 |
7 |
| 3m Innovative Properties Company | 17478 |
6 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4697 |
6 |
| Kuraray Co., Ltd. | 3586 |
6 |
| Toagosei Co., Ltd. | 1023 |
6 |
| Resonac Corporation | 3456 |
6 |
| Lanxess Deutschland GmbH | 1144 |
5 |
| Nissan Chemical Corporation | 2207 |
5 |
| Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 4218 |
4 |
| Agency for Science, Technology and Research | 3713 |
4 |
| Adeka Corporation | 1376 |
4 |
| Autres propriétaires | 248 |