- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 20/02 - Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carboneLeurs dérivés
Détention brevets de la classe C08F 20/02
Brevets de cette classe: 81
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Nippon Shokubai Co., Ltd. | 1530 |
9 |
| FUJIFILM Corporation | 30388 |
7 |
| BASF SE | 21244 |
3 |
| LG Chem, Ltd. | 17903 |
3 |
| Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | 1042 |
3 |
| Cytec Technology Corp. | 260 |
2 |
| Maruzen Petrochemical Co., Ltd. | 188 |
2 |
| Mitsubishi Chemical UK Limited | 85 |
2 |
| Resonac Corporation | 3371 |
2 |
| Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | 1169 |
1 |
| 3m Innovative Properties Company | 17492 |
1 |
| Ricoh Company, Ltd. | 13331 |
1 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 33726 |
1 |
| Massachusetts Institute of Technology | 10223 |
1 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9022 |
1 |
| Kao Corporation | 5066 |
1 |
| Futurewei Technologies, Inc. | 3779 |
1 |
| Omron Corporation | 7346 |
1 |
| Toray Industries, Inc. | 7075 |
1 |
| Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | 860 |
1 |
| Autres propriétaires | 37 |