- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 20/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
Détention brevets de la classe C08F 20/18
Brevets de cette classe: 505
Historique des publications depuis 10 ans
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| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| LG Chem, Ltd. | 17682 |
41 |
| FUJIFILM Corporation | 29752 |
20 |
| Zeon Corporation | 4115 |
13 |
| BASF SE | 21080 |
12 |
| Arkema France | 4171 |
9 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4593 |
8 |
| Alcon, Inc. | 5507 |
8 |
| Cheil Industries Inc. | 844 |
7 |
| DIC Corporation | 3830 |
7 |
| Kuraray Co., Ltd. | 3531 |
7 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9095 |
6 |
| Nippon Shokubai Co., Ltd. | 1504 |
6 |
| 3m Innovative Properties Company | 17752 |
5 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 8970 |
5 |
| SWIMC, LLC | 2516 |
5 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 148649 |
4 |
| Philip Morris USA Inc. | 690 |
4 |
| Rohm and Haas Company | 2922 |
4 |
| Dow Global Technologies LLC | 10509 |
4 |
| JSR Corporation | 2535 |
4 |
| Autres propriétaires | 326 |