- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 220/02 - Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carboneLeurs dérivés
Détention brevets de la classe C08F 220/02
Brevets de cette classe: 134
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30155 |
13 |
| Enf Technology Co., Ltd. | 55 |
8 |
| Ubmaterials Inc. | 22 |
8 |
| BASF SE | 21135 |
6 |
| Dow Global Technologies LLC | 10754 |
4 |
| Zeon Corporation | 4126 |
4 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9052 |
3 |
| Rohm and Haas Company | 2950 |
3 |
| Nitto Denko Corporation | 8434 |
2 |
| Boe Technology Group Co., Ltd. | 42723 |
2 |
| Arkema Inc. | 1059 |
2 |
| Contemporary Amperex Technology Co., Limited | 8773 |
2 |
| Nippon Shokubai Co., Ltd. | 1526 |
2 |
| Soprema, Inc. | 13 |
2 |
| Toagosei Co., Ltd. | 987 |
2 |
| The Trustees of Princeton University | 1234 |
2 |
| United States Gypsum Company | 902 |
2 |
| Polyanalytik Inc. | 5 |
2 |
| Halomine Inc. | 15 |
2 |
| Sony Corporation | 30510 |
1 |
| Autres propriétaires | 62 |