- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
Détention brevets de la classe C08F 220/18
Brevets de cette classe: 4274
Historique des publications depuis 10 ans
|
245
|
301
|
328
|
336
|
402
|
433
|
387
|
332
|
308
|
261
|
| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Rohm and Haas Company | 2923 |
214 |
| 3m Innovative Properties Company | 17737 |
193 |
| BASF SE | 21072 |
191 |
| Dow Global Technologies LLC | 10518 |
155 |
| LG Chem, Ltd. | 17682 |
151 |
| FUJIFILM Corporation | 29797 |
106 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5773 |
103 |
| JSR Corporation | 2537 |
76 |
| Zeon Corporation | 4113 |
62 |
| Henkel AG & Co. KGaA | 10645 |
58 |
| Arkema France | 4169 |
58 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4604 |
52 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9110 |
45 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1550 |
44 |
| Evonik Operations GmbH | 4163 |
42 |
| Canon Inc. | 41007 |
34 |
| Kuraray Co., Ltd. | 3537 |
34 |
| SWIMC, LLC | 2513 |
34 |
| Tesa SE | 1072 |
33 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 9032 |
32 |
| Autres propriétaires | 2557 |