- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 220/32 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des radicaux époxyde
Détention brevets de la classe C08F 220/32
Brevets de cette classe: 506
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30594 |
20 |
| LG Chem, Ltd. | 17950 |
19 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1638 |
11 |
| Resonac Corporation | 3610 |
10 |
| Nissan Chemical Corporation | 2248 |
9 |
| BASF SE | 21306 |
8 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 8968 |
8 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6120 |
8 |
| Canon Inc. | 44051 |
7 |
| Showa Denko K.K. | 2063 |
7 |
| PPG Industries Ohio, Inc. | 3324 |
7 |
| Dow Global Technologies LLC | 10994 |
6 |
| Hydro-Quebec | 633 |
6 |
| 3m Innovative Properties Company | 17458 |
5 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 38817 |
5 |
| Henkel AG & Co. KGaA | 10758 |
5 |
| Kolon Industries, Inc. | 1850 |
5 |
| Fine-blend Polymer (Shanghai) Co., Ltd | 14 |
5 |
| LG Innotek Co., Ltd. | 8517 |
4 |
| Wisconsin Alumni Research Foundation | 3900 |
4 |
| Autres propriétaires | 347 |