- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 222/14 - Esters ne contenant pas de groupes acide carboxylique libres
Détention brevets de la classe C08F 222/14
Brevets de cette classe: 182
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| DSM IP Assets B.V. | 5801 |
9 |
| Nippon Shokubai Co., Ltd. | 1517 |
9 |
| Sirrus, Inc. | 48 |
8 |
| Tosoh Corporation | 1221 |
7 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5455 |
6 |
| Mankiewicz Gebr. & Co. GmbH & Co. KG | 117 |
6 |
| Covestro (Netherlands) B.V. | 291 |
5 |
| Hilti Aktiengesellschaft | 3391 |
4 |
| FUJIFILM Corporation | 28829 |
3 |
| Align Technology, Inc. | 1975 |
3 |
| Arkema France | 3888 |
3 |
| Beijing University of Chemical Technology | 302 |
3 |
| BASF SE | 20421 |
2 |
| LG Chem, Ltd. | 17643 |
2 |
| Ricoh Company, Ltd. | 13222 |
2 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 8987 |
2 |
| PPG Industries Ohio, Inc. | 3453 |
2 |
| Henkel AG & Co. KGaA | 10357 |
2 |
| Central Glass Company, Limited | 1244 |
2 |
| Jiangnan University | 1483 |
2 |
| Autres propriétaires | 100 |