- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 222/16 - Esters contenant des groupes acide carboxylique libres
Détention brevets de la classe C08F 222/16
Brevets de cette classe: 40
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6120 |
3 |
| All-plus Chemical Co., Ltd. | 5 |
3 |
| Corning Incorporated | 10504 |
2 |
| Zeon Corporation | 4161 |
2 |
| Kzj New Materials Group Co., Ltd. | 53 |
2 |
| BASF SE | 21306 |
1 |
| LG Chem, Ltd. | 17950 |
1 |
| Merck Patent GmbH | 5735 |
1 |
| FUJIFILM Corporation | 30594 |
1 |
| Dow Global Technologies Inc. | 642 |
1 |
| PPG Industries Ohio, Inc. | 3324 |
1 |
| a et a Mader | 27 |
1 |
| Beijing University of Chemical Technology | 334 |
1 |
| Celanese Emulsions GmbH | 36 |
1 |
| China Petroleum & Chemical Corporation | 2166 |
1 |
| Construction Research & Technology GmbH | 600 |
1 |
| Denka Company Limited | 2747 |
1 |
| Dongguan Amperex Technology Limited | 302 |
1 |
| The Government of the United States of America, as represented by the Secretary of the Navy | 1455 |
1 |
| Institute of Chemistry, Chinese Academy of Sciences | 238 |
1 |
| Autres propriétaires | 13 |