- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 224/00 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un hétérocycle contenant de l'oxygène
Détention brevets de la classe C08F 224/00
Brevets de cette classe: 198
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5632 |
23 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1549 |
11 |
FUJIFILM Corporation | 29295 |
10 |
Sumitomo Chemical Company, Limited | 9031 |
8 |
Daikin Industries, Ltd. | 9973 |
5 |
Eastman Kodak Company | 2908 |
4 |
JSR Corporation | 2514 |
4 |
Drexel University | 984 |
4 |
Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1721 |
4 |
Samsung Display Co., Ltd. | 34472 |
3 |
BASF SE | 20892 |
3 |
Asahi Glass Company, Limited | 2802 |
3 |
Henkel AG & Co. KGaA | 10525 |
3 |
The United States of America as represented by the Secretary of the Army | 1209 |
3 |
3D Systems, Inc. | 592 |
3 |
Construction Research & Technology GmbH | 643 |
3 |
Hannanotech Co., Ltd. | 16 |
3 |
Kuraray Co., Ltd. | 3502 |
3 |
3m Innovative Properties Company | 17858 |
2 |
Xerox Corporation | 7021 |
2 |
Autres propriétaires | 94 |