- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C08F - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
- C08F 224/00 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un hétérocycle contenant de l'oxygène
Détention brevets de la classe C08F 224/00
Brevets de cette classe: 206
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6096 |
22 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1562 |
11 |
| FUJIFILM Corporation | 30514 |
10 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9016 |
8 |
| Daikin Industries, Ltd. | 10499 |
6 |
| JSR Corporation | 2554 |
5 |
| Eastman Kodak Company | 2603 |
4 |
| Drexel University | 1001 |
4 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1645 |
4 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 38627 |
3 |
| BASF SE | 21303 |
3 |
| Asahi Glass Company, Limited | 2622 |
3 |
| Henkel AG & Co. KGaA | 10770 |
3 |
| The United States of America as represented by the Secretary of the Army | 1255 |
3 |
| 3D Systems, Inc. | 584 |
3 |
| Construction Research & Technology GmbH | 602 |
3 |
| Hannanotech Co., Ltd. | 15 |
3 |
| Kuraray Co., Ltd. | 3589 |
3 |
| Jicc-02 Co., Ltd. | 275 |
3 |
| 3m Innovative Properties Company | 17478 |
2 |
| Autres propriétaires | 100 |