- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C11D - Compositions détergentesemploi d'une substance, utilisée seule, comme détergentsavon ou fabrication du savonsavons de résinerécupération de la glycérine
- C11D 1/18 - Esters des acides sulfoniques ou de l'acide sulfuriqueLeurs sels dérivés d'aminoalcools
Détention brevets de la classe C11D 1/18
Brevets de cette classe: 23
Historique des publications depuis 10 ans
|
1
|
1
|
2
|
5
|
2
|
1
|
2
|
1
|
3
|
0
|
| 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Shiseido Company, Ltd. | 4109 |
5 |
| L'OREAL, Société Anonyme | 15667 |
2 |
| Kao Corporation | 4982 |
2 |
| Henkel AG & Co. KGaA | 10611 |
2 |
| Unilever PLC | 3177 |
1 |
| Unilever N.V. | 3086 |
1 |
| FUJIFILM Corporation | 29586 |
1 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4545 |
1 |
| Hindustan Unilever Limited | 1160 |
1 |
| ISP Investments LLC | 418 |
1 |
| Kemira Oyj | 1212 |
1 |
| Kemira Water Solutions, Inc. | 21 |
1 |
| KOSE Corporation | 550 |
1 |
| NOK Corporation | 2229 |
1 |
| Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | 1492 |
1 |
| R.i.t.a. Corporation | 21 |
1 |
| Autres propriétaires | 0 |