- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C11D - Compositions détergentesemploi d'une substance, utilisée seule, comme détergentsavon ou fabrication du savonsavons de résinerécupération de la glycérine
- C11D 1/18 - Esters des acides sulfoniques ou de l'acide sulfuriqueLeurs sels dérivés d'aminoalcools
Détention brevets de la classe C11D 1/18
Brevets de cette classe: 25
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Shiseido Company, Ltd. | 4261 |
5 |
| Kao Corporation | 5073 |
3 |
| L'OREAL, Société Anonyme | 16319 |
2 |
| Henkel AG & Co. KGaA | 10770 |
2 |
| Kemira Oyj | 1258 |
2 |
| The Procter & Gamble Company | 21861 |
1 |
| FUJIFILM Corporation | 30512 |
1 |
| Mitsubishi Chemical Corporation | 4721 |
1 |
| ISP Investments LLC | 430 |
1 |
| Kemira Water Solutions, Inc. | 38 |
1 |
| KOSE Corporation | 309 |
1 |
| NOK Corporation | 2296 |
1 |
| Osaka Organic Chemical Industry Ltd. | 141 |
1 |
| Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | 1501 |
1 |
| R.i.t.a. Corporation | 21 |
1 |
| Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | 1044 |
1 |
| Autres propriétaires | 0 |