- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C11D - Compositions détergentesemploi d'une substance, utilisée seule, comme détergentsavon ou fabrication du savonsavons de résinerécupération de la glycérine
- C11D 7/28 - Composés organiques contenant un halogène
Détention brevets de la classe C11D 7/28
Brevets de cette classe: 102
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30514 |
5 |
| Daikin Industries, Ltd. | 10499 |
4 |
| The Chemours Company Fc, LLC | 1341 |
4 |
| Solstice Advanced Materials US, Inc. | 961 |
4 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6096 |
3 |
| Asahi Glass Company, Limited | 2622 |
3 |
| Anji Microelectronics (Shanghai) Co., Ltd. | 149 |
3 |
| Central Glass Company, Limited | 1293 |
3 |
| Ecolab USA Inc. | 5796 |
3 |
| Entegris, Inc. | 2008 |
3 |
| The Procter & Gamble Company | 21855 |
2 |
| 3m Innovative Properties Company | 17478 |
2 |
| Micron Technology, Inc. | 27657 |
2 |
| Showa Denko K.K. | 2069 |
2 |
| The Clorox Company | 947 |
2 |
| DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1429 |
2 |
| Ecolab Inc. | 376 |
2 |
| Kaneko Chemical Co., Ltd. | 4 |
2 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3622 |
2 |
| Tokuyama Corporation | 1477 |
2 |
| Autres propriétaires | 47 |