- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C11D - Compositions détergentesemploi d'une substance, utilisée seule, comme détergentsavon ou fabrication du savonsavons de résinerécupération de la glycérine
- C11D 7/28 - Composés organiques contenant un halogène
Détention brevets de la classe C11D 7/28
Brevets de cette classe: 97
Historique des publications depuis 10 ans
|
5
|
6
|
8
|
4
|
14
|
9
|
4
|
6
|
4
|
2
|
| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30206 |
5 |
| Honeywell International Inc. | 13543 |
4 |
| The Chemours Company Fc, LLC | 1308 |
4 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5918 |
3 |
| Asahi Glass Company, Limited | 2683 |
3 |
| Anji Microelectronics (Shanghai) Co., Ltd. | 153 |
3 |
| Central Glass Company, Limited | 1286 |
3 |
| Ecolab USA Inc. | 5707 |
3 |
| Entegris, Inc. | 1970 |
3 |
| The Procter & Gamble Company | 21915 |
2 |
| 3m Innovative Properties Company | 17536 |
2 |
| Micron Technology, Inc. | 27238 |
2 |
| Daikin Industries, Ltd. | 10378 |
2 |
| Showa Denko K.K. | 2110 |
2 |
| The Clorox Company | 953 |
2 |
| DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1404 |
2 |
| Ecolab Inc. | 389 |
2 |
| Kaneko Chemical Co., Ltd. | 5 |
2 |
| Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3576 |
2 |
| Resonac Corporation | 3167 |
2 |
| Autres propriétaires | 44 |