- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C11D - Compositions détergentesemploi d'une substance, utilisée seule, comme détergentsavon ou fabrication du savonsavons de résinerécupération de la glycérine
- C11D 7/50 - Solvants
Détention brevets de la classe C11D 7/50
Brevets de cette classe: 1263
Historique des publications depuis 10 ans
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85
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102
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118
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87
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86
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101
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65
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87
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16
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30206 |
65 |
| The Chemours Company Fc, LLC | 1308 |
59 |
| Honeywell International Inc. | 13543 |
37 |
| Central Glass Company, Limited | 1286 |
35 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1542 |
34 |
| FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 341 |
32 |
| Versum Materials US, LLC | 664 |
32 |
| Agc, Inc. | 5264 |
31 |
| Nissan Chemical Corporation | 2145 |
23 |
| Mexichem Amanco Holding S.A. de C.V. | 121 |
22 |
| Daikin Industries, Ltd. | 10378 |
21 |
| BASF SE | 21127 |
20 |
| Arkema France | 4180 |
20 |
| 3m Innovative Properties Company | 17536 |
19 |
| Illinois Tool Works Inc. | 11710 |
19 |
| E. I. du Pont de Nemours and Company | 3713 |
19 |
| Mexichem Fluor, Sociedad Anonima de Capital Variable | 203 |
17 |
| Kao Corporation | 5019 |
15 |
| DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1404 |
15 |
| Ecolab USA Inc. | 5707 |
15 |
| Autres propriétaires | 713 |