- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C11D - Compositions détergentesemploi d'une substance, utilisée seule, comme détergentsavon ou fabrication du savonsavons de résinerécupération de la glycérine
- C11D 7/50 - Solvants
Détention brevets de la classe C11D 7/50
Brevets de cette classe: 1272
Historique des publications depuis 10 ans
|
90
|
108
|
120
|
116
|
93
|
87
|
108
|
68
|
88
|
36
|
| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| FUJIFILM Corporation | 30514 |
65 |
| The Chemours Company Fc, LLC | 1341 |
59 |
| Central Glass Company, Limited | 1293 |
36 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1562 |
34 |
| FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 343 |
32 |
| Versum Materials US, LLC | 678 |
32 |
| Agc, Inc. | 5524 |
31 |
| Solstice Advanced Materials US, Inc. | 961 |
28 |
| Nissan Chemical Corporation | 2227 |
24 |
| Illinois Tool Works Inc. | 11863 |
22 |
| Mexichem Amanco Holding S.A. de C.V. | 115 |
22 |
| BASF SE | 21303 |
21 |
| Daikin Industries, Ltd. | 10499 |
21 |
| Arkema France | 4242 |
20 |
| 3m Innovative Properties Company | 17478 |
19 |
| E. I. du Pont de Nemours and Company | 3534 |
19 |
| Kao Corporation | 5076 |
16 |
| Mexichem Fluor, Sociedad Anonima de Capital Variable | 204 |
16 |
| DONGWOO FINE-CHEM Co., Ltd. | 1429 |
15 |
| Ecolab USA Inc. | 5796 |
15 |
| Autres propriétaires | 725 |