- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25B - Procédés électrolytiques ou électrophorétiques pour la production de composés organiques ou minéraux, ou de non-métauxappareillages à cet effet
- C25B 13/02 - DiaphragmesÉléments d'espacement caractérisés par la configuration ou la forme
Détention brevets de la classe C25B 13/02
Brevets de cette classe: 815
Historique des publications depuis 10 ans
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | 2833 |
40 |
| Reinz-Dichtungs-GmbH | 282 |
32 |
| LG Chem, Ltd. | 17921 |
30 |
| Agfa-Gevaert | 299 |
21 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 33997 |
16 |
| Samsung Electro-mechanics Co., Ltd. | 6083 |
15 |
| Toray Industries, Inc. | 7113 |
15 |
| Toshiba Corporation | 12560 |
14 |
| Robert Bosch GmbH | 44160 |
12 |
| de Nora Permelec Ltd | 164 |
12 |
| Uop LLC | 4393 |
11 |
| Kolon Industries, Inc. | 1844 |
11 |
| Tokuyama Corporation | 1477 |
11 |
| Twelve Benefit Corporation | 152 |
11 |
| Johnson Matthey Hydrogen Technologies Limited | 140 |
11 |
| FUJIFILM Corporation | 30514 |
10 |
| NGK Insulators, Ltd. | 5236 |
10 |
| Agc, Inc. | 5524 |
10 |
| Hysata Pty Ltd | 41 |
10 |
| Kyocera Corporation | 14359 |
9 |
| Autres propriétaires | 504 |