- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C25D - Procédés pour la production électrolytique ou électrophorétique de revêtementsgalvanoplastiejonction de pièces par électrolyseappareillages à cet effet
- C25D 1/20 - Séparation d'avec les électrodes des objets formés par celles-ci
Détention brevets de la classe C25D 1/20
Brevets de cette classe: 156
Historique des publications depuis 10 ans
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20
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27
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1
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| SK Nexilis Co., Ltd. | 83 |
18 |
| FUJIFILM Corporation | 29992 |
5 |
| TGO Tech. Corporation | 26 |
5 |
| POSCO | 2154 |
4 |
| Apple Inc. | 56767 |
3 |
| International Business Machines Corporation | 61850 |
3 |
| Sumitomo Electric Industries, Ltd. | 15898 |
3 |
| American Superconductor Corporation | 149 |
3 |
| Chang Chun Petrochemical Co., Ltd. | 119 |
3 |
| Nivarox-FAR S.A. | 282 |
3 |
| Pure Lithium Corporation | 41 |
3 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 36963 |
2 |
| The Regents of the University of California | 20329 |
2 |
| Omron Corporation | 7328 |
2 |
| Glencore Technology Pty Ltd | 52 |
2 |
| Japan Aviation Electronics Industry, Limited | 1787 |
2 |
| Korea University Research and Business Foundation | 3102 |
2 |
| Kyoto University | 2872 |
2 |
| Modumetal, Inc. | 71 |
2 |
| Nan Ya Plastics Corporation | 474 |
2 |
| Autres propriétaires | 85 |