- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/08 - Originaux utilisant des couches inorganiques formant l'image, p.ex. masques au chrome (G03F 1/12 a priorité);;
Détention brevets de la classe G03F 1/08
Brevets de cette classe: 31
Historique des publications depuis 10 ans
|
0
|
0
|
0
|
0
|
0
|
0
|
0
|
0
|
0
|
0
|
| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| Hoya Corporation | 2690 |
7 |
| Hitachi High-Technologies Corporation | 1986 |
3 |
| KLA-Tencor Corporation | 2517 |
2 |
| Toppan Printing Co., Ltd. | 2080 |
2 |
| Panasonic Corporation | 18751 |
1 |
| Intel Corporation | 46449 |
1 |
| Micron Technology, Inc. | 27726 |
1 |
| Hynix Semiconductor Inc. | 1550 |
1 |
| United Microelectronics Corp. | 4516 |
1 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6134 |
1 |
| Nissin Chemical Industry Co., Ltd. | 116 |
1 |
| LG Innotek Co., Ltd. | 8543 |
1 |
| Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 4263 |
1 |
| Omron Corporation | 7426 |
1 |
| Advantest Corporation | 1672 |
1 |
| European Nano Invest AB | 2 |
1 |
| National University Corporation Hokkaido University | 1384 |
1 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1633 |
1 |
| Tokyo University of Science Educational Foundation Administrative Organization | 96 |
1 |
| V Technology Co., Ltd. | 381 |
1 |
| Autres propriétaires | 1 |