- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/28 - Masques à décalage de phase [PSM phase shift mask]Substrats pour PSMLeur préparation avec trois phases différentes ou plus sur le même PSMLeur préparation
Détention brevets de la classe G03F 1/28
Brevets de cette classe: 19
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 49440 |
3 |
| Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 4282 |
3 |
| SK Hynix Inc. | 12769 |
2 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6173 |
2 |
| ULVAC Coating Corporation | 15 |
2 |
| Shanghai Chuanxin Semiconductor Co., Ltd. | 19 |
2 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 159755 |
1 |
| Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 34685 |
1 |
| Eulitha AG | 31 |
1 |
| Kioxia Corporation | 11031 |
1 |
| Panasonic Semiconductor Solutions Co., Ltd. | 719 |
1 |
| Autres propriétaires | 0 |