- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
Détention brevets de la classe G03F 7/075
Brevets de cette classe: 1549
Historique des publications depuis 10 ans
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95
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119
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135
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92
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92
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95
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90
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112
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93
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40
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5952 |
158 |
| FUJIFILM Corporation | 30277 |
149 |
| Toray Industries, Inc. | 7045 |
99 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1666 |
57 |
| Merck Patent GmbH | 5663 |
56 |
| JSR Corporation | 2513 |
48 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1545 |
38 |
| Nissan Chemical Corporation | 2170 |
33 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 47419 |
32 |
| Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | 1519 |
29 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 9902 |
26 |
| LG Chem, Ltd. | 17840 |
23 |
| Central Glass Company, Limited | 1286 |
21 |
| Asahi Glass Company, Limited | 2668 |
20 |
| Cheil Industries Inc. | 820 |
19 |
| Carbon, Inc. | 412 |
19 |
| Illumina, Inc. | 3475 |
16 |
| Dow Silicones Corporation | 2065 |
16 |
| Kaneka Corporation | 4639 |
15 |
| Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | 2783 |
15 |
| Autres propriétaires | 660 |