- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p. ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteursmatériaux à cet effetoriginaux à cet effetappareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
Détention brevets de la classe G03F 7/075
Brevets de cette classe: 1578
Historique des publications depuis 10 ans
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95
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119
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135
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92
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91
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95
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90
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112
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93
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65
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| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6109 |
164 |
| FUJIFILM Corporation | 30516 |
149 |
| Toray Industries, Inc. | 7111 |
102 |
| Merck Patent GmbH | 5729 |
57 |
| Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1643 |
55 |
| JSR Corporation | 2558 |
48 |
| Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1563 |
37 |
| Nissan Chemical Corporation | 2229 |
34 |
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 48438 |
32 |
| Sumitomo Bakelite Co., Ltd. | 1534 |
29 |
| Samsung SDI Co., Ltd. | 10624 |
26 |
| LG Chem, Ltd. | 17929 |
23 |
| Central Glass Company, Limited | 1295 |
21 |
| Asahi Glass Company, Limited | 2619 |
20 |
| Cheil Industries Inc. | 811 |
19 |
| Carbon, Inc. | 415 |
19 |
| Dow Silicones Corporation | 2118 |
16 |
| Kaneka Corporation | 4713 |
15 |
| Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | 2834 |
15 |
| Jicc-02 Co., Ltd. | 275 |
15 |
| Autres propriétaires | 682 |