- Sections
- H - Électricité
- H05H - Technique du plasma production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutronsproduction ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 1/16 - Dispositions pour confiner le plasma au moyen de champs électriques ou magnétiquesDispositions pour chauffer le plasma utilisant des champs électriques et magnétiques
Détention brevets de la classe H05H 1/16
Brevets de cette classe: 85
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tae Technologies, Inc. | 254 |
16 |
| University of Washington | 2477 |
5 |
| N.t. TAO Ltd. | 10 |
5 |
| Lawrence Livermore National Security, LLC | 1988 |
4 |
| General Fusion Inc. | 81 |
4 |
| Alpha Ring International, Ltd. | 35 |
4 |
| Tokamak Energy Ltd | 203 |
3 |
| Tibbar Plasma Technologies, Inc. | 7 |
3 |
| Lockheed Martin Corporation | 3265 |
2 |
| Advanced Energy Industries, Inc. | 474 |
2 |
| Helion Energy, Inc. | 50 |
2 |
| Nihon University | 266 |
2 |
| Tri Alpha Energy, Inc. | 7 |
2 |
| University of New Hampshire | 169 |
2 |
| Fuse Energy Technologies Corp | 29 |
2 |
| Spacewave, LLC | 2 |
2 |
| Jupiter Volta Inc. | 4 |
2 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 159755 |
1 |
| Tokyo Electron Limited | 14026 |
1 |
| Massachusetts Institute of Technology | 10324 |
1 |
| Autres propriétaires | 20 |