- Sections
- H - Électricité
- H05H - Technique du plasma production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutronsproduction ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 1/16 - Dispositions pour confiner le plasma au moyen de champs électriques ou magnétiquesDispositions pour chauffer le plasma utilisant des champs électriques et magnétiques
Détention brevets de la classe H05H 1/16
Brevets de cette classe: 79
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tae Technologies, Inc. | 236 |
19 |
| General Fusion Inc. | 76 |
4 |
| University of Washington | 2297 |
4 |
| Alpha Ring International, Ltd. | 34 |
4 |
| N.t. TAO Ltd. | 7 |
4 |
| Lawrence Livermore National Security, LLC | 1918 |
3 |
| Tokamak Energy Ltd | 185 |
3 |
| University of New Hampshire | 172 |
3 |
| Tibbar Plasma Technologies, Inc. | 6 |
3 |
| Lockheed Martin Corporation | 3276 |
2 |
| Advanced Energy Industries, Inc. | 465 |
2 |
| Helion Energy, Inc. | 41 |
2 |
| Nihon University | 292 |
2 |
| Tri Alpha Energy, Inc. | 7 |
2 |
| Spacewave, LLC | 2 |
2 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 143555 |
1 |
| Tokyo Electron Limited | 12477 |
1 |
| The United States of America as represented by the Secretary of the Navy | 2734 |
1 |
| The Regents of the University of Michigan | 4660 |
1 |
| EMC2 | 1 |
1 |
| Autres propriétaires | 15 |