The present description concerns a method of manufacturing a device comprising at least one radio frequency component on a semiconductor substrate comprising: a) a laser anneal of a first thickness of the substrate on the upper surface side of the substrate; b) the forming of an insulating layer on the upper surface of the substrate; and c) the forming of said at least one radio frequency component on the insulating layer.
A vertical semiconductor triode includes a first layer of semiconductor material, the first layer including first and second surfaces, the first surface being in contact with a first electrode forming a Schottky contact.
H10D 18/80 - Dispositifs bidirectionnels, p. ex. triacs
H10D 62/83 - Corps semi-conducteurs, ou régions de ceux-ci, de dispositifs ayant des barrières de potentiel caractérisés par les matériaux étant des matériaux du groupe IV, p. ex. Si dopé B ou Ge non dopé
H10D 64/23 - Électrodes transportant le courant à redresser, à amplifier, à faire osciller ou à commuter, p. ex. sources, drains, anodes ou cathodes
H10D 64/62 - Électrodes couplées de manière ohmique à un semi-conducteur
Disclosed herein is a voltage converter including input nodes configured to receive an input voltage, output nodes configured to deliver an output voltage, a rectifying bridge coupled between the input nodes and the output nodes, a capacitor and a resistor series-coupled between the output nodes, and a thyristor coupled between one terminal of the resistor and a given one of the output nodes, wherein the thyristor is configured to allow flow of a positive current from the resistor to the given one of the output nodes. A control input is configured to receive a control signal, wherein the control signal biases a gate of the thyristor to control the flow of current through the thyristor. transient voltage suppressor circuit is coupled to the gate of the thyristor, configured to activate the thyristor upon exceeding a threshold voltage.
H02M 7/06 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge sans électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs sans éléctrode de commande
H02M 1/32 - Moyens pour protéger les convertisseurs autrement que par mise hors circuit automatique
H02M 1/36 - Moyens pour mettre en marche ou arrêter les convertisseurs
The present disclosure relates to a method of forming an HEMT transistor, comprising the following successive steps: a) providing a stack comprising a semiconductor channel layer, a semiconductor barrier layer on top of and in contact with the semiconductor channel layer, and a semiconductor gate layer arranged on top of and in contact with the semiconductor barrier layer, the semiconductor gate layer comprising P-type dopant elements; and b) compensating for the P-type doping with oxygen atoms, in an upper portion of the semiconductor gate layer, by an oxygen anneal, so as to define a PN junction at the interface between the upper portion and a central portion of the semiconductor gate layer.
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
A device includes a diode. The anode of the diode includes first, second, and third areas. The first area partially covers the second area and has a forst doping level greater than a second doping level of the second area. The second area partially covers the third area and has the second doping level greater than a third doping level of the third area. A first insulating layer partially overlaps the first and second areas.
Overvoltage protection circuits are provided. In some embodiments, an overvoltage protection circuit includes a first diode made of a first semiconductor material having a bandgap width greater than that of silicon. A second diode is included and is electrically cross-coupled with the first diode. The second diode is made of a second semiconductor material different from the first semiconductor material.
H10D 62/83 - Corps semi-conducteurs, ou régions de ceux-ci, de dispositifs ayant des barrières de potentiel caractérisés par les matériaux étant des matériaux du groupe IV, p. ex. Si dopé B ou Ge non dopé
H10D 62/832 - Corps semi-conducteurs, ou régions de ceux-ci, de dispositifs ayant des barrières de potentiel caractérisés par les matériaux étant des matériaux du groupe IV, p. ex. Si dopé B ou Ge non dopé étant des matériaux du groupe IV comprenant deux éléments ou plus, p. ex. SiGe
H10D 62/85 - Corps semi-conducteurs, ou régions de ceux-ci, de dispositifs ayant des barrières de potentiel caractérisés par les matériaux étant des matériaux du groupe III-V, p. ex. GaAs
H10D 64/23 - Électrodes transportant le courant à redresser, à amplifier, à faire osciller ou à commuter, p. ex. sources, drains, anodes ou cathodes
H10D 89/60 - Dispositifs intégrés comprenant des dispositions pour la protection électrique ou thermique, p. ex. circuits de protection contre les décharges électrostatiques [ESD].
The present disclosure relates to a capacitor including a first conductive layer over which is formed a stack, comprising from the upper face of the first layer, a first electrode, a first dielectric layer, a second electrode, and a second conductive layer, the stack comprising a stair step within the second conductive layer, the second electrode, and a part of the thickness of the first dielectric layer, the stair step being filled with a second dielectric layer so that the sidewalls of the first electrode are aligned with respect to the sidewalls of the second dielectric layer.
H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p. ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
A method for controlling a MOS transistor compares a first voltage between a drain and a source of the MOS transistor to a second controllable threshold voltage. When the first voltage is smaller than a third voltage, a fourth control voltage is applied to the MOS transistor that is greater than a fifth threshold voltage of the MOS transistor. When the first voltage is greater than the second voltage, the fourth control voltage applied to the MOS transistor is smaller than the fifth voltage. The second voltage is equal to a first constant value between a first time and a second time, and is equal to a second variable value between the second time and a third time. The second value is equal to a sum of the first voltage and a sixth positive voltage. The third time corresponds to a time when the first voltage inverts.
H03K 17/06 - Modifications pour assurer un état complètement conducteur
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
A control circuit for controlling a first transistor includes a diode for suppressing transient voltages. A cathode of the diode is coupled to a first conduction terminal of the first transistor, and an anode of the diode is coupled to a first node. A first resistor is coupled between the first node and a control terminal of the first transistor. A second transistor has a control terminal coupled to the first node, a first conduction terminal configured to receive a first supply voltage, and a second conduction terminal coupled to the control terminal of the first transistor.
H03K 17/0812 - Modifications pour protéger le circuit de commutation contre la surintensité ou la surtension sans réaction du circuit de sortie vers le circuit de commande par des dispositions prises dans le circuit de commande
The present disclosure relates to a die comprising metal pillars extending from a surface of the die, the height of each pillar being substantially equal to or greater than 20 μm, the pillars being intended to raise the die when fastening the die by means of a bonding material on a surface of a support. The metal pillars being inserted into the bonding material at which point the bonding material is annealed to be cured and hardened solidifying the bonding material to couple the die to the surface of the support.
H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 25/10 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs ayant des conteneurs séparés
11.
MONOLITHIC COMPONENT COMPRISING A GALLIUM NITRIDE POWER TRANSISTOR
A monolithic component includes a field-effect power transistor and at least one first Schottky diode inside and on top of a gallium nitride substrate.
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/8252 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie III-V
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
The present description concerns a method for manufacturing a protection device against overvoltages, comprising the following successive steps: a) epitaxially forming, on a semiconductor substrate, a semiconductor layer; b) submitting the upper surface of the semiconductor layer to a fluorinated-plasma process; and c) forming an electrically-insulating layer over and contacting the upper surface of the semiconductor layer.
A control device includes a triac and a first diode that is series-connected between the triac and a first terminal of the device that is configured to be connected to a cathode gate of a thyristor. A second terminal of the control device is configured to be connected to an anode of the thyristor. The triac has a gate connected to a third terminal of the device that is configured to receive a control signal. The thyristor is a component part of one or more of a rectifying bridge circuit, an in-rush current limiting circuit or a solid-state relay circuit.
A thin-film lithium ion battery includes a negative electrode layer, a positive electrode layer, an electrolyte layer disposed between the positive and negative electrode layers, and a lithium layer with lithium pillars extending therefrom formed in the negative electrode layer adjoining the electrolyte layer.
H01M 10/0585 - Structure ou fabrication d'accumulateurs ayant uniquement des éléments de structure plats, c.-à-d. des électrodes positives plates, des électrodes négatives plates et des séparateurs plats
An ESD protection circuit includes a terminal connected to the cathode of a first diode and to the anode of a second diode, where the cathode of the second diode is not made of epitaxial silicon.
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H01L 29/16 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée
A rectifying element includes a MOS transistor series-connected with a Schottky diode. A bias voltage is applied between the control terminal of the MOS transistor and the terminal of the Schottky diode opposite to the transistor. A pair of the rectifying elements are substituted for diodes of a rectifying bridge circuit. Alternatively, the control terminal bias is supplied from a cross-coupling against the Schottky diodes. In another implementation, the Schottky diodes are omitted and the bias voltage applied to control terminals of the MOS transistors is switched in response to cross-coupled divided source-drain voltages of the MOS transistors. The circuits form components of a power converter.
H02M 7/219 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans une configuration en pont
H02M 7/5387 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant alternatif sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs, p. ex. onduleurs à impulsions à un seul commutateur dans une configuration en pont
G05F 3/20 - Régulation de la tension ou du courant là où la tension ou le courant sont continus utilisant des dispositifs non commandés à caractéristiques non linéaires consistant en des dispositifs à semi-conducteurs en utilisant des combinaisons diode-transistor
H02M 7/217 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
The present disclosure concerns a method of manufacturing an electronic component and the obtained component, comprising a substrate, comprising the successive steps of: depositing a first layer of a first resin activated by abrasion to become electrically conductive, on a first surface of said substrate comprising at least one electric contact and, at least partially, on the lateral flanks of said substrate; partially abrading said first layer on the flanks of said substrate.
H01L 23/498 - Connexions électriques sur des substrats isolants
H01L 23/29 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par le matériau
H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
H01L 21/48 - Fabrication ou traitement de parties, p. ex. de conteneurs, avant l'assemblage des dispositifs, en utilisant des procédés non couverts par l'un uniquement des groupes ou
H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
The present description concerns a method of forming a cavity in a substrate comprising: the forming of an etch mask comprising, opposite the location of the cavity, a plurality of sets of openings, the ratio between the openings and the mask of each set being selected according to the desired profile of the cavity opposite the surface of the mask having the set inscribed therein; and the wet etching of the substrate through the openings.
A circuit device includes a directional coupler with a first port receiving a radiofrequency signal, a second port outputting a signal in response to signal received by the first port, and a third port outputting a signal in response to a reflection of the signal at the second port. An impedance matching network is connected between the second port and an antenna. The impedance matching network includes fixed inductive and capacitive components and a single variable inductive or capacitive component. A diode coupled to the third port of the coupler generates a voltage at a measurement terminal which is processed in order to select and set the inductance or capacitance value of the variable inductive or capacitive component.
A device includes a semiconductor substrate. A step is formed at a periphery of the semiconductor substrate. A first layer, made of polysilicon doped in oxygen, is deposited on top of and in contact with a first surface of the substrate. This first layer extends at least on a wall and bottom of the step. A second layer, made of glass, is deposited on top of the first layer and the edges of the first layer. The second layer forms a boss between the step and a central area of the device.
An integrated circuit device includes at least one inductive component with at least one integrated metal winding that is at least partially embedded in a coating. The coating includes at least one ferromagnetic material. The coating optionally includes a non-magnetic material, for example a dielectric.
H01F 41/04 - Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication ou à l'assemblage des aimants, des inductances ou des transformateursAppareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication des matériaux caractérisés par leurs propriétés magnétiques pour la fabrication de noyaux, bobines ou aimants pour la fabrication de bobines
H01L 23/498 - Connexions électriques sur des substrats isolants
H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
A method for manufacturing electronic chips includes forming, on the side of a first face of a semiconductor substrate, in and on which a plurality of integrated circuits has been formed beforehand, metallizations coupling contacts of adjacent integrated circuits to one another. The method further includes forming, on the side of the first face of the substrate, first trenches extending through the first face of the substrate and laterally separating the adjacent integrated circuits. The first trenches extend through the metallizations to form at least a portion of metallizations at each of the adjacent circuits.
H01L 21/4763 - Dépôt de couches non isolantes, p. ex. conductrices, résistives sur des couches isolantesPost-traitement de ces couches
H01L 21/48 - Fabrication ou traitement de parties, p. ex. de conteneurs, avant l'assemblage des dispositifs, en utilisant des procédés non couverts par l'un uniquement des groupes ou
H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
Overvoltage protection circuits are provided. In some embodiments, an overvoltage protection circuit includes a first diode made of a first semiconductor material having a bandgap width greater than that of silicon. A second diode is included and is electrically cross-coupled with the first diode. The second diode is made of a second semiconductor material different from the first semiconductor material.
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H01L 29/04 - Corps semi-conducteurs caractérisés par leur structure cristalline, p.ex. polycristalline, cubique ou à orientation particulière des plans cristallins
H01L 29/16 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
The present description concerns a device comprising at least one chip in a package, the package comprising a support, having the at least one chip resting thereon, and a protection layer covering the at least one chip, the support comprising a stack of layers made of an insulating material, a transformer being formed in the support by first and second conductive tracks.
H05K 1/16 - Circuits imprimés comprenant des composants électriques imprimés incorporés, p. ex. une résistance, un condensateur, une inductance imprimés
The present disclosure concerns a switching device comprising a first phosphorus-doped silicon layer on top of and in contact with a second arsenic-doped silicon layer. The present disclosure also concerns a method of making a switching device that includes forming a phosphorus-doped silicon layer in an arsenic-doped silicon layer.
H01L 27/07 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive les composants ayant une région active en commun
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
H01L 21/266 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions en utilisant des masques
26.
Voltage converter with thyristor gate controlled to conduct a reverse current
A converter includes first and second transistors coupled between first and second nodes, and first and second thyristors coupled between the first and second nodes. The converter is controlled for operation to: in first periods, turn the first transistor and second thyristor on and turn the second transistor and the first thyristor off, and in second periods, turn the first transistor and the second thyristor off and turn the second transistor and the first thyristor on. Further control of converter operation includes, for a third period following each first period, turning the first and second transistors off, turning the second thyristor off, and injecting a current into the gate of the first thyristor. Additional control of converter operation includes, for a fourth period following each second period, turning the first and second transistors off, turning the first thyristor off, and injecting a current into the gate of the second thyristor.
H02M 7/219 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans une configuration en pont
H02M 1/00 - Détails d'appareils pour transformation
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
H02M 7/162 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans une configuration en pont
H02M 7/757 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continuTransformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant alternatif avec possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
The present disclosure relates to a method for manufacturing electronic chips comprising, in order:
a. forming metal contacts on the side of a first face of a semiconductor substrate, in and on which a plurality of integrated circuits have been previously formed;
b. depositing a first protective resin on the metal contacts and the first face of the semiconductor substrate;
c. forming first trenches of a first width on the side of a second face of the semiconductor substrate;
d. depositing a second protective resin in the first trenches and on the second face of the semiconductor substrate;
e. forming second trenches of a second width, less than the first width, opposite the first trenches up to the metal contacts; and
f. forming third trenches opposite the second trenches, the third trenches extending through the metal contacts.
The present description concerns a method of manufacturing a device comprising at least one radio frequency component on a semiconductor substrate comprising: a) a laser anneal of a first thickness of the substrate on the upper surface side of the substrate; b) the forming of an insulating layer on the upper surface of the substrate; and c) the forming of said at least one radio frequency component on the insulating layer.
H01L 21/32 - Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes pour former des couches isolantes en surface, p. ex. pour masquer ou en utilisant des techniques photolithographiquesPost-traitement de ces couchesEmploi de matériaux spécifiés pour ces couches en utilisant des masques
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/324 - Traitement thermique pour modifier les propriétés des corps semi-conducteurs, p. ex. recuit, frittage
The present description concerns an electronic die manufacturing method comprising: a) the deposition of an electrically-insulating resin layer on the side of a first surface of a semiconductor substrate, inside and on top of which have been previously formed a plurality of integrated circuits, the semiconductor substrate supporting on a second surface, opposite to the first surface, contacting pads; and b) the forming, on the side of the second surface of the semiconductor substrate, of first trenches, electrically separating the integrated circuits from one another, the first trenches vertically extending in the semiconductor substrate and emerging into or on top of the resin layer.
H01L 21/84 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant autre chose qu'un corps semi-conducteur, p.ex. étant un corps isolant
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
A vertical semiconductor triode includes a first layer of semiconductor material, the first layer including first and second surfaces, the first surface being in contact with a first electrode forming a Schottky contact.
H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
A circuit includes two input nodes and two output nodes. A rectifier bridge is coupled to the input and output nodes. The rectifier bridge includes a first and second thyristors and a third thyristor coupled in series with a resistor in series. The series coupled third thyristor and resistor are coupled in parallel with one of the first and second thyristors. The first and second thyristors are controlled off, with the third thyristor controlled on, during start up with resistor functioning as an in in-rush current limiter circuit. In normal rectifying operation mode, the first and second thyristors are controlled on, with the third thyristor controlled off.
H02M 7/162 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans une configuration en pont
H02M 1/00 - Détails d'appareils pour transformation
H02M 7/06 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge sans électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs sans éléctrode de commande
32.
CHARGE COUPLED FIELD EFFECT RECTIFIER DIODE AND METHOD OF MAKING
A trench in a semiconductor substrate is lined with a first insulation layer. A hard mask layer deposited on the first insulation layer is used to control performance of an etch that selectively removes a first portion of the first insulating layer from an upper trench portion while leaving a second portion of first insulating layer in a lower trench portion. After removing the hard mask layer, an upper portion of the trench is lined with a second insulation layer. An opening in the trench that includes a lower open portion delimited by the second portion of first insulating layer in the lower trench portion and an upper open portion delimited by the second insulation layer at the upper trench portion, is then filled by a single deposition of polysilicon material forming a unitary gate/field plate conductor of a field effect rectifier diode.
H01L 29/739 - Dispositifs du type transistor, c.à d. susceptibles de répondre en continu aux signaux de commande appliqués commandés par effet de champ
The present disclosure relates to an electronic chip comprising a semiconductor substrate carrying at least one metal contact extending, within the thickness of the substrate, along at least one flank of the chip.
The present disclosure relates to a transient voltage suppression device comprising a single crystal semiconductor substrate doped with a first conductivity type comprising first and second opposing surfaces, a semiconductor region doped with a second conductivity type opposite to the first conductivity type extending into the substrate from the first surface, a first electrically conductive electrode on the first side contacting the semiconductor region and a second electrically conductive electrode on the second side contacting the substrate, a first interface between the substrate and the semiconductor region forming the junction of a TVS diode and a second interface between the first electrically conductive electrode and the semiconductor region or between the substrate and the second electrically conductive electrode forming the junction of a Schottky diode.
H02H 9/04 - Circuits de protection de sécurité pour limiter l'excès de courant ou de tension sans déconnexion sensibles à un excès de tension
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H02H 9/00 - Circuits de protection de sécurité pour limiter l'excès de courant ou de tension sans déconnexion
A method for manufacturing electronic chips includes depositing, on a side of an upper face of a semiconductor substrate, in and on which a plurality of integrated circuits has been formed, a protective resin. The method includes forming, in the protective resin, at least one cavity per integrated circuit, in contact with an upper face of the integrated circuit. Metal connection pillars are formed by filling the cavities with metal. The integrated circuits are separated into individual chips by cutting the protective resin along cut lines extending between the metal connection pillars.
H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 21/78 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels
A vertical capacitor includes a stack of layers conformally covering walls of a first material. The walls extend from a substrate made of a second material different from the first material.
The disclosure relates to microbattery devices and assemblies. In an embodiment, a device includes a plurality of microbatteries, a first flexible encapsulation film, and a second flexible encapsulation film. Each of the microbatteries includes a first contact terminal and a second contact terminal spaced apart from one another. The first flexible encapsulation film includes a first conductive layer electrically coupled to the first contact terminal of each of the microbatteries, and a first insulating layer on the first conductive layer. The second flexible encapsulation film includes a second conductive layer electrically coupled to the second contact terminal of each of the microbatteries, and a second insulating layer on the second conductive layer.
H01M 50/209 - Bâtis, modules ou blocs de multiples batteries ou de multiples cellules caractérisés par leur forme adaptés aux cellules prismatiques ou rectangulaires
H01M 10/46 - Accumulateurs combinés par structure avec un appareil de charge
H01M 50/10 - Boîtiers primairesFourreaux ou enveloppes
H01M 50/116 - Boîtiers primairesFourreaux ou enveloppes caractérisés par le matériau
H01M 50/124 - Boîtiers primairesFourreaux ou enveloppes caractérisés par le matériau ayant une structure en couches
H01M 50/502 - Interconnecteurs pour connecter les bornes des batteries adjacentesInterconnecteurs pour connecter les cellules en dehors d'un boîtier de batterie
38.
Integrated circuit comprising a three-dimensional capacitor
The present disclosure concerns an integrated circuit comprising a substrate, the substrate comprising a first region having a first thickness and a second region having a second thickness smaller than the first thickness, the circuit comprising a three-dimensional capacitor formed inside and on top of the first region, and at least first and second connection terminals formed on the second region, the first and second connection terminals being respectively connected to first and second electrodes of the three-dimensional capacitor.
H01L 27/08 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 49/02 - Dispositifs à film mince ou à film épais
39.
Protection against electrostatic discharges and filtering
A protection device includes a first inductive element connecting first and second terminals and a second inductive element connecting third and fourth terminals. A first component includes a first avalanche diode connected in parallel with a first diode string, anodes of the first avalanche diode and a last diode in the string being connected to ground, cathodes of the first avalanche diode and a first diode in the string being connected, and a tap of the first diode string being connected to the first terminal. A second protection component includes a second avalanche diode connected in parallel with a second diode string, anodes of the second avalanche diode and a last diode in the string being connected to ground, cathodes of the second avalanche diode and a first diode in the string being connected, and a tap of the second diode string being connected to the third terminal.
H02H 9/00 - Circuits de protection de sécurité pour limiter l'excès de courant ou de tension sans déconnexion
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 23/60 - Protection contre les charges ou les décharges électrostatiques, p. ex. écrans Faraday
H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante
H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
A device includes a diode. The anode of the diode includes first, second, and third areas. The first area partially covers the second area and has a first doping level greater than a second doping level of the second area. The second area partially covers the third area and has the second doping level greater than a third doping level of the third area. A first insulating layer partially overlaps the first and second areas.
A voltage converter includes a circuit formed by a parallel association, connected between first and second nodes, of a first branch and a second branch. The first branch includes a first controlled rectifying element having a first impedance. The second branch includes a resistor associated in series with a second rectifying element having a second impedance substantially equal to the first impedance. The second rectifying element may, for example, be a triac having its gate coupled to receive a signal from an intermediate node in the series association of the second branch. Alternatively, the second rectifying element may be a thyristor having its gate coupled to receive a signal at the anode of the thyristor.
H02M 1/36 - Moyens pour mettre en marche ou arrêter les convertisseurs
H02M 1/32 - Moyens pour protéger les convertisseurs autrement que par mise hors circuit automatique
H02M 7/06 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge sans électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs sans éléctrode de commande
H02M 7/12 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande
H02M 7/219 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans une configuration en pont
The present description concerns a capacitor manufacturing method, including the successive steps of: a) forming a stack including, in the order from the upper surface of a substrate, a first conductive layer made of aluminum or an aluminum-based alloy, a first electrode, a first dielectric layer, and a second electrode; b) etching, by chemical plasma etching, an upper portion of the stack, said chemical plasma etching being interrupted before the upper surface of the first conductive layer; and c) etching, by physical plasma etching, a lower portion of the stack, said physical plasma etching being interrupted on the upper surface of the first conductive layer.
A voltage converter delivers an output voltage between a first and a second node. The voltage converter includes a capacitor series-coupled with a resistor between the first and second nodes. The resistor is coupled in parallel with a bidirectional switch receiving at its control terminal a positive bias voltage referenced to the second node.
H02M 7/06 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge sans électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs sans éléctrode de commande
H02M 1/32 - Moyens pour protéger les convertisseurs autrement que par mise hors circuit automatique
H02M 1/36 - Moyens pour mettre en marche ou arrêter les convertisseurs
44.
Electronic device including interposer substrate carrying mica substrate with battery layer environmentally sealed thereto
An electronic device includes a base substrate with a mica substrate thereon. A top face of the mica substrate has a surface area smaller than a surface area of a top face of the base substrate. An active battery layer is on the mica substrate and has a top face with a surface area smaller than a surface area of a top face of the mica substrate. An adhesive layer is over the active battery layer, mica substrate, and base substrate. An aluminum film layer is over the adhesive layer, and an insulating polyethylene terephthalate (PET) layer is over the aluminum film layer. A battery pad is on the mica substrate adjacent the active battery layer, and a conductive via extends to the battery pad. A conductive pad is connected to the conductive via. The adhesive, aluminum film, and PET have a hole defined therein exposing the conductive pad.
The present disclosure relates to a structure comprising, in a trench of a substrate, a first conductive region separated from the substrate by a first distance shorter than approximately 10 nm; and a second conductive region extending deeper than the first region.
H10D 30/66 - Transistors FET DMOS verticaux [VDMOS]
H10D 62/17 - Régions semi-conductrices connectées à des électrodes ne transportant pas de courant à redresser, amplifier ou commuter, p. ex. régions de canal
H10D 64/23 - Électrodes transportant le courant à redresser, à amplifier, à faire osciller ou à commuter, p. ex. sources, drains, anodes ou cathodes
46.
Discharge of an AC capacitor using totem-pole power factor correction (PFC) circuitry
An AC capacitor is coupled to a totem-pole type PFC circuit. In response to detection of a power input disconnection, the PFC circuit is controlled to discharge the AC capacitor. The PFC circuit includes a resistor and a first MOSFET and a second MOSFET coupled in series between DC output nodes with a common node coupled to the AC capacitor. When the disconnection event is detected, one of the first and second MOSFETs is turned on to discharge the AC capacitor with a current flowing through the resistor and the turned on MOSFET. Furthermore, a thyristor may be simultaneously turned on, with the discharge current flowing through a series coupling of the MOSFET, resistor and thyristor. Disconnection is detected by detecting a zero-crossing failure of an AC power input voltage or lack of input voltage decrease or input current increase in response to MOSFET turn on for a DC input.
H02M 1/42 - Circuits ou dispositions pour corriger ou ajuster le facteur de puissance dans les convertisseurs ou les onduleurs
H02M 1/32 - Moyens pour protéger les convertisseurs autrement que par mise hors circuit automatique
H02M 7/155 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H02M 7/217 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
A control device includes a triac and a first diode that is series-connected between the triac and a first terminal of the device that is configured to be connected to a cathode gate of a thyristor. A second terminal of the control device is configured to be connected to an anode of the thyristor. The triac has a gate connected to a third terminal of the device that is configured to receive a control signal. The thyristor is a component part of one or more of a rectifying bridge circuit, an in-rush current limiting circuit or a solid-state relay circuit.
A device includes a controllable current source connected between a first node and a first terminal coupled to a cathode of a controllable diode. A capacitor is connected between the first node and a second terminal coupled to an anode of the controllable diode. A first switch is connected between the first node and a third terminal coupled to a gate of the controllable diode. A second switch is connected between the second and third terminals. A first diode is connected between the third terminal and the second terminal, an anode of the first diode being preferably coupled to the third terminal.
H02M 3/335 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu avec transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrodes de commande pour produire le courant alternatif intermédiaire utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H01L 29/739 - Dispositifs du type transistor, c.à d. susceptibles de répondre en continu aux signaux de commande appliqués commandés par effet de champ
H01L 27/07 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive les composants ayant une région active en commun
H03K 17/74 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de diodes
The present disclosure relates to a die comprising metal pillars extending from a surface of the die, the height of each pillar being substantially equal to or greater than 20 μm, the pillars being intended to raise the die when fastening the die by means of a bonding material on a surface of a support. The metal pillars being inserted into the bonding material at which point the bonding material is annealed to be cured and hardened solidifying the bonding material to couple the die to the surface of the support.
H01L 25/10 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs ayant des conteneurs séparés
H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
50.
Method of forming electronic chip package having a conductive layer between a chip and a support
The invention concerns a device comprising a support, an electrically-conductive layer covering the support, a semiconductor substrate on the conductive layer, and an insulating casing.
H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
H01L 21/78 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels
A circuit device includes a directional coupler with a first port receiving a radiofrequency signal, a second port outputting a signal in response to signal received by the first port, and a third port outputting a signal in response to a reflection of the signal at the second port. An impedance matching network is connected between the second port and an antenna. The impedance matching network includes fixed inductive and capacitive components and a single variable inductive or capacitive component. A diode coupled to the third port of the coupler generates a voltage at a measurement terminal which is processed in order to select and set the inductance or capacitance value of the variable inductive or capacitive component.
An AC capacitor is coupled to a totem-pole type PFC circuit. In response to detection of a power input disconnection, the PFC circuit is controlled to discharge the AC capacitor. The PFC circuit includes a resistor and a first MOSFET and a second MOSFET coupled in series between DC output nodes with a common node coupled to the AC capacitor. When the disconnection event is detected, one of the first and second MOSFETs is turned on to discharge the AC capacitor with a current flowing through the resistor and the turned on MOSFET. Furthermore, a thyristor may be simultaneously turned on, with the discharge current flowing through a series coupling of the MOSFET, resistor and thyristor. Disconnection is detected by detecting a zero-crossing failure of an AC power input voltage or lack of input voltage decrease or input current increase in response to MOSFET turn on for a DC input.
H02M 1/42 - Circuits ou dispositions pour corriger ou ajuster le facteur de puissance dans les convertisseurs ou les onduleurs
H02M 7/155 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H02M 7/217 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H02M 1/32 - Moyens pour protéger les convertisseurs autrement que par mise hors circuit automatique
A device for discharging a capacitor includes a resistive component having a resistance value selectable from among at least three resistance values. The device is configured to be connected in parallel with the capacitor. A circuit operates to select the resistance value of the resistive component.
H02H 9/04 - Circuits de protection de sécurité pour limiter l'excès de courant ou de tension sans déconnexion sensibles à un excès de tension
H02H 3/087 - Circuits de protection de sécurité pour déconnexion automatique due directement à un changement indésirable des conditions électriques normales de travail avec ou sans reconnexion sensibles à une surcharge pour des systèmes à courant continu
H02M 1/088 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques pour la commande simultanée de dispositifs à semi-conducteurs connectés en série ou en parallèle
H02M 1/32 - Moyens pour protéger les convertisseurs autrement que par mise hors circuit automatique
54.
Thyristor, triac and transient-voltage-suppression diode manufacturing
A device includes a semiconductor substrate. A step is formed at a periphery of the semiconductor substrate. A first layer, made of polysilicon doped in oxygen, is deposited on top of and in contact with a first surface of the substrate. This first layer extends at least on a wall and bottom of the step. A second layer, made of glass, is deposited on top of the first layer and the edges of the first layer. The second layer forms a boss between the step and a central area of the device.
ESD protection devices and methods are provided. In at least one embodiment, a device includes a first stack that forms a Zener diode. The first stack includes a substrate of a first conductivity type having a first region of a second conductivity type located therein. The first area is flush with a surface of the substrate. A second stack forms a diode and is located on and in contact with the surface of the substrate. The second stack includes a first layer of the second conductivity type having a second region of the first conductivity type located therein. The second area is flush, opposite the first stack, with the surface of the first layer. A third stack includes at least a second layer made of an oxygen-doped material, on and in contact with the second stack.
H01L 27/00 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H01L 21/22 - Diffusion des impuretés, p. ex. des matériaux de dopage, des matériaux pour électrodes, à l'intérieur ou hors du corps semi-conducteur, ou entre les régions semi-conductricesRedistribution des impuretés, p. ex. sans introduction ou sans élimination de matériau dopant supplémentaire
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
A power supply interface includes a first switch that couples an input terminal to an output terminal. A voltage dividing bridge is coupled to receive a supply potential. A comparator has a first input connected to a first node of the bridge and a second input configured to receive a constant potential. A digital-to-analog converter generates a control voltage that is selectively coupled by a second switch to a second node of the bridge. A circuit control controls actuation of the second switch based on operating mode and generates a digital value input to the converter based on a negotiated set point of the supply potential applied to the input terminal.
H02H 3/20 - Circuits de protection de sécurité pour déconnexion automatique due directement à un changement indésirable des conditions électriques normales de travail avec ou sans reconnexion sensibles à un excès de tension
G06F 1/26 - Alimentation en énergie électrique, p. ex. régulation à cet effet
A method for manufacturing electronic chips includes depositing, on a side of an upper face of a semiconductor substrate, in and on which a plurality of integrated circuits has been formed, a protective resin. The method includes forming, in the protective resin, at least one cavity per integrated circuit, in contact with an upper face of the integrated circuit. Metal connection pillars are formed by filling the cavities with metal. The integrated circuits are separated into individual chips by cutting the protective resin along cut lines extending between the metal connection pillars.
H01L 21/78 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels
H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
A method for manufacturing electronic chips includes forming, on the side of a first face of a semiconductor substrate, in and on which a plurality of integrated circuits has been formed beforehand, metallizations coupling contacts of adjacent integrated circuits to one another. The method further includes forming, on the side of the first face of the substrate, first trenches extending through the first face of the substrate and laterally separating the adjacent integrated circuits. The first trenches extend through the metallizations to form at least a portion of metallizations at each of the adjacent circuits.
H01L 21/44 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes
H01L 21/48 - Fabrication ou traitement de parties, p. ex. de conteneurs, avant l'assemblage des dispositifs, en utilisant des procédés non couverts par l'un uniquement des groupes ou
H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
A method for manufacturing electronic chips includes forming, on a side of an upper face of a semiconductor substrate, in and on which a plurality of integrated circuits has been formed, trenches laterally separating the integrated circuits. At least one metal connection pillar per integrated circuit is deposited on the side of the upper face of the substrate, and a protective resin extends in the trenches and on an upper face of the integrated circuits. The method further includes forming, from an upper face of the protective resin, openings located across from the trenches and extending over a width greater than or equal to that of the trenches, so as to clear a flank of at least one metal pillar of each integrated circuit. The integrated circuits are separated into individual chips by cutting.
H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 21/78 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels
60.
Method for singulating chips with laterally insulated flanks
The present disclosure relates to a method for manufacturing electronic chips. The method includes forming a plurality of trenches on a first face of a semiconductor substrate, in and on which a plurality of integrated circuits has been formed. The trenches delimit laterally a plurality of chips, and each of the chips includes a single integrated circuit. The method further includes electrically isolating flanks of each of the chips by forming an electrically isolating layer on lateral walls of the trenches.
H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
A circuit includes two input nodes and two output nodes. A rectifier bridge is coupled to the input and output nodes. The rectifier bridge includes a first and second thyristors and a third thyristor coupled in series with a resistor in series. The series coupled third thyristor and resistor are coupled in parallel with one of the first and second thyristors. The first and second thyristors are controlled off, with the third thyristor controlled on, during start up with resistor functioning as an in in-rush current limiter circuit. In normal rectifying operation mode, the first and second thyristors are controlled on, with the third thyristor controlled off.
H02M 7/162 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans une configuration en pont
H02M 1/00 - Détails d'appareils pour transformation
H02M 7/06 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge sans électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs sans éléctrode de commande
Methods and devices for protecting against electrical discharges are provided. One such device for protecting against electrical discharges includes a semiconductor substrate and an isolation trench in the semiconductor substrate. The isolation trench includes an enclosed space that contains a gas.
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
The present disclosure provides an electronic device that includes a substrate. The substrate includes a well and a peripheral insulating wall laterally surrounding the well. At least one lateral bipolar transistor is formed in the well, and the at least one transistor has a base region extending under parallel collector and emitter regions. The peripheral insulating wall is widened in a first direction, parallel to the collector and emitter regions, so that the base region penetrates into the peripheral insulating wall.
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
64.
Monolithic component comprising a gallium nitride power transistor
A monolithic component includes a field-effect power transistor and at least one first Schottky diode inside and on top of a gallium nitride substrate.
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
H01L 21/8252 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie III-V
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
A semiconductor substrate of a first conductivity type is coated with a semiconductor layer of a second conductivity type. A buried region of the second conductivity type is formed an interface between the semiconductor substrate and the semiconductor layer. First and second wells of the first conductivity type are provided in the semiconductor layer. A second region of the second conductivity type is formed in the first well. A third region of the second conductivity type is formed in the second well. The first well, the semiconducting layer, the second well and the third region form a first lateral thyristor. The second well, the semiconductor layer, the first well and the second region form a second lateral thyristor. The buried region and semiconductor substrate form a zener diode which sets the trigger voltage for the lateral thyristors.
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
A device of protection against electrostatic discharges is formed in a semiconductor substrate of a first conductivity type that is coated with a semiconductor layer of a second conductivity type. A buried region of the second conductivity type is positioned at an interface between the semiconductor substrate and the semiconductor layer. First and second wells of the first conductivity type are formed in the semiconductor layer and a region of the second conductivity type is formed in the second well. A stop channel region of the second conductivity type is provided in the semiconductor layer to laterally separating the first well from the second well, where no contact is present between this stop channel region and either of the first and second wells.
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H01L 27/08 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type
Overvoltage protection circuits are provided. In some embodiments, an overvoltage protection circuit includes a first diode made of a first semiconductor material having a bandgap width greater than that of silicon. A second diode is included and is electrically cross-coupled with the first diode. The second diode is made of a second semiconductor material different from the first semiconductor material.
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H01L 29/04 - Corps semi-conducteurs caractérisés par leur structure cristalline, p.ex. polycristalline, cubique ou à orientation particulière des plans cristallins
H01L 29/16 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée
H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
The present disclosure concerns an integrated circuit comprising a substrate, the substrate comprising a first region having a first thickness and a second region having a second thickness smaller than the first thickness, the circuit comprising a three-dimensional capacitor formed inside and on top of the first region, and at least first and second connection terminals formed on the second region, the first and second connection terminals being respectively connected to first and second electrodes of the three-dimensional capacitor.
H01L 27/08 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type
H01L 49/02 - Dispositifs à film mince ou à film épais
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
A thyristor or triac control circuit includes a first capacitive element that is series-connected with a first diode between a first terminal and a second terminal intended to be coupled to a gate of the thyristor or triac. A second capacitive element is coupled between the second terminal and a third terminal intended to be connected to a conduction terminal of the thyristor or triac on the gate side of the thyristor or triac. A second diode is coupled between the third terminal and a node of connection of the first capacitive element and first diode.
H03K 17/56 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs
H02M 7/06 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge sans électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs sans éléctrode de commande
H02P 27/04 - Dispositions ou procédés pour la commande de moteurs à courant alternatif caractérisés par le type de tension d'alimentation utilisant une tension d’alimentation à fréquence variable, p. ex. tension d’alimentation d’onduleurs ou de convertisseurs
H02M 5/257 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant alternatif, p. ex. pour changement de la tension, pour changement de la fréquence, pour changement du nombre de phases sans transformation intermédiaire en courant continu par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H03K 17/725 - Dispositifs à semi-conducteurs bipolaires comportant au moins trois jonctions PN, p. ex. thyristors, transistors unijonction programmables, ou comportant au moins quatre électrodes, p. ex. commutateurs commandés au silicium, ou comportant deux électrodes connectées à la même région de conductivité, p. ex. transistors unijonction pour des tensions ou des courants alternatifs
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
H02M 7/155 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H03K 17/722 - Dispositifs à semi-conducteurs bipolaires comportant au moins trois jonctions PN, p. ex. thyristors, transistors unijonction programmables, ou comportant au moins quatre électrodes, p. ex. commutateurs commandés au silicium, ou comportant deux électrodes connectées à la même région de conductivité, p. ex. transistors unijonction avec une isolation galvanique entre le circuit de commande et le circuit de sortie
H03K 17/74 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de diodes
A device comprising a semiconductor substrate, an electrically-conductive layer covering the substrate, and an insulating sheath, the conductive layer being in contact with the insulating sheath on the side opposite to the substrate.
H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
H01L 21/3205 - Dépôt de couches non isolantes, p. ex. conductrices ou résistives, sur des couches isolantesPost-traitement de ces couches
H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
H01L 21/78 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels
A thyristor is formed from a vertical stack of first, second, third, and fourth semiconductor regions of alternated conductivity types. The fourth semiconductor region is interrupted in a gate area of the thyristor. The fourth semiconductor region is further interrupted in a continuous corridor that extends longitudinally from the gate area towards an outer lateral edge of the fourth semiconductor region. A gate metal layer extends over the gate area of the thyristor. A cathode metal layer extends over the fourth semiconductor region but not over the continuous corridor.
H01L 29/74 - Dispositifs du type thyristor, p.ex. avec un fonctionnement par régénération à quatre zones
H01L 29/749 - Dispositifs du type thyristor, p.ex. avec un fonctionnement par régénération à quatre zones amorcés par effet de champ
H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
72.
Rectifying element and voltage converter comprising such a rectifying element
A rectifying element includes a MOS transistor series-connected with a Schottky diode. A bias voltage is applied between the control terminal of the MOS transistor and the terminal of the Schottky diode opposite to the transistor. A pair of the rectifying elements are substituted for diodes of a rectifying bridge circuit. Alternatively, the control terminal bias is supplied from a cross-coupling against the Schottky diodes. In another implementation, the Schottky diodes are omitted and the bias voltage applied to control terminals of the MOS transistors is switched in response to cross-coupled divided source-drain voltages of the MOS transistors. The circuits form components of a power converter.
H02M 7/219 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans une configuration en pont
H02M 7/5387 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant alternatif sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs, p. ex. onduleurs à impulsions à un seul commutateur dans une configuration en pont
G05F 3/20 - Régulation de la tension ou du courant là où la tension ou le courant sont continus utilisant des dispositifs non commandés à caractéristiques non linéaires consistant en des dispositifs à semi-conducteurs en utilisant des combinaisons diode-transistor
H02M 7/217 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H02M 1/00 - Détails d'appareils pour transformation
73.
Switching device and method of manufacturing such a device
The present disclosure concerns a switching device comprising a first phosphorus-doped silicon layer on top of and in contact with a second arsenic-doped silicon layer. The present disclosure also concerns a method of making a switching device that includes forming a phosphorus-doped silicon layer in an arsenic-doped silicon layer.
H01L 27/07 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive les composants ayant une région active en commun
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
H01L 21/266 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions en utilisant des masques
The present disclosure relates to a structure comprising, in a trench of a substrate, a first conductive region separated from the substrate by a first distance shorter than approximately 10 nm; and a second conductive region extending deeper than the first region.
H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
The present description concerns an electronic device comprising a stack of a Schottky diode and of a bipolar diode, connected in parallel by a first electrode located in a first cavity and a second electrode located in a second cavity.
H01L 27/08 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type
H01L 21/8252 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie III-V
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
STMicroelectronics Asia Pacific Pte Ltd (Singapour)
Inventeur(s)
Pichon, Romain
Hague, Yannick
Choi, Sean
Abrégé
Transient overvoltage suppression is provided by discharging through a Metal Oxide Varistor (MOV) and Silicon Controlled Rectifier (SCR) which are connected in series between power supply lines. The SCR has a gate that receives a trigger signal generated by a triggering circuit coupled to the power supply lines. A trigger voltage of the triggering circuit is set by a Transil™ avalanche diode.
A vertical capacitor includes a stack of layers conformally covering walls of a first material. The walls extend from a substrate made of a second material different from the first material.
A battery structure has structure anode and cathode contacts on a front face and on a rear face. The battery structure includes a battery having battery anode and cathode contacts only on a front face thereof. A film including a conductive layer and an insulating layer jackets the battery. The conductive layer extends over the battery anode and cathode contacts and is interrupted therebetween. Openings are provided in the insulating layer on the front and rear faces of the battery structure to form the structure anode and cathode contacts of the battery structure.
H01M 50/172 - Dispositions pour introduire des connecteurs électriques dans ou à travers des boîtiers
H01M 50/103 - Boîtiers primairesFourreaux ou enveloppes caractérisés par leur forme ou leur structure physique prismatique ou rectangulaire
H01M 50/116 - Boîtiers primairesFourreaux ou enveloppes caractérisés par le matériau
H01M 50/124 - Boîtiers primairesFourreaux ou enveloppes caractérisés par le matériau ayant une structure en couches
H01M 50/502 - Interconnecteurs pour connecter les bornes des batteries adjacentesInterconnecteurs pour connecter les cellules en dehors d'un boîtier de batterie
H01M 10/0525 - Batteries du type "rocking chair" ou "fauteuil à bascule", p. ex. batteries à insertion ou intercalation de lithium dans les deux électrodesBatteries à l'ion lithium
79.
Electronic chip package having a support and a conductive layer on the support
The invention concerns a device comprising a support, an electrically-conductive layer covering the support, a semiconductor substrate on the conductive layer, and an insulating casing.
H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
H01L 21/78 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels
H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements
A digital-to-analog converter (DAC) and a method for operating the DAC are disclosed. The DAC receives, over a first channel, a control signal that is transmitted in accordance with a binary protocol. The DAC also receives, over a second channel different than the first channel, data that is transmitted in accordance with a multilevel communication protocol that is different than the binary protocol. The DAC determines a plurality of first and second voltages based on the received data and identifies, based on the control signal, a time when data transmission or reception is switched between first and second antennas. In response to identifying, based on the control signal, the time when data transmission or reception is switched, the DAC outputs the determined plurality of first voltages to a first antenna tuning circuit or the determined plurality of second voltages to a second antenna tuning circuit.
H01Q 3/00 - Dispositifs pour changer ou faire varier l'orientation ou la forme du diagramme de directivité des ondes rayonnées par une antenne ou un système d'antenne
H04L 1/00 - Dispositions pour détecter ou empêcher les erreurs dans l'information reçue
H04L 29/06 - Commande de la communication; Traitement de la communication caractérisés par un protocole
H04L 25/49 - Circuits d'émissionCircuits de réception à conversion de code au transmetteurCircuits d'émissionCircuits de réception à pré-distorsionCircuits d'émissionCircuits de réception à insertion d'intervalles morts pour obtenir un spectre de fréquence désiréCircuits d'émissionCircuits de réception à au moins trois niveaux d'amplitude
The invention relates to an antenna comprising: an elongate conducting band; an antenna socket; a connection to earth; at least one first capacitive element of adjustable capacitance; and at least one first inductive element in series with the first capacitive element.
H01Q 9/00 - Antennes électriquement courtes dont les dimensions ne sont pas supérieures à deux fois la longueur d'onde et constituées par des éléments rayonnants conducteurs actifs
H01Q 1/24 - SupportsMoyens de montage par association structurale avec d'autres équipements ou objets avec appareil récepteur
H01Q 5/30 - Dispositions permettant un fonctionnement sur différentes gammes d’ondes
H01Q 5/328 - Éléments rayonnants individuels ou couplés, chaque élément étant alimenté d’une façon non précisée utilisant des circuits ou des composants dont la réponse dépend de la fréquence, p. ex. des circuits bouchon ou des condensateurs situés entre un élément rayonnant et la mise à la terre
H01Q 9/42 - Antennes résonnantes avec alimentation à l'extrémité d'un élément actif allongé, p. ex. unipôle avec éléments repliés, les parties repliées étant espacées l'une de l'autre d'une petite fraction de la longueur d'onde émise
H01Q 1/48 - Moyens de mise à la terreÉcrans de terreContrepoids
A method and system of recharging an electric battery, include an alternation of phases of recharge at a constant current and of phases of recharge at constant voltage.
G01R 19/165 - Indication de ce qu'un courant ou une tension est, soit supérieur ou inférieur à une valeur prédéterminée, soit à l'intérieur ou à l'extérieur d'une plage de valeurs prédéterminée
H01M 10/0525 - Batteries du type "rocking chair" ou "fauteuil à bascule", p. ex. batteries à insertion ou intercalation de lithium dans les deux électrodesBatteries à l'ion lithium
An ESD protection circuit includes a terminal connected to the cathode of a first diode and to the anode of a second diode, where the cathode of the second diode is not made of epitaxial silicon.
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H01L 29/16 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée
An electronic component includes first and second separate semiconductor regions. A third semiconductor region is arranged under and between the first and second semiconductor regions. The first and third semiconductor regions define electrodes of a first diode. The second and third semiconductor regions define electrodes of a second diode. The first diode is an avalanche diode.
H02H 9/00 - Circuits de protection de sécurité pour limiter l'excès de courant ou de tension sans déconnexion
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 23/60 - Protection contre les charges ou les décharges électrostatiques, p. ex. écrans Faraday
H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante
H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
A circuit for protecting against electrostatic discharges includes two avalanche circuit components having different turn-on delays with respect to a beginning of an electrostatic discharge. The two avalanche circuit components are coupled in parallel. The avalanche circuit component closer to an output node has a turn-on delay on the order of 30 ns, while the avalanche circuit component closer to an input node has a turn-on delay on the order of 1 ns.
H02H 9/04 - Circuits de protection de sécurité pour limiter l'excès de courant ou de tension sans déconnexion sensibles à un excès de tension
H01L 27/02 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
86.
Antenna tuning control using general purpose input/output data
A digital-to-analog converter (DAC) and a method for operating the DAC are disclosed. The DAC receives, over a first channel, a control signal that is transmitted in accordance with a binary protocol. The DAC also receives, over a second channel different than the first channel, data that is transmitted in accordance with a multilevel communication protocol that is different than the binary protocol. The DAC determines a plurality of first and second voltages based on the received data and identifies, based on the control signal, a time when data transmission or reception is switched between first and second antennas. In response to identifying, based on the control signal, the time when data transmission or reception is switched, the DAC outputs the determined plurality of first voltages to a first antenna tuning circuit or the determined plurality of second voltages to a second antenna tuning circuit.
H01Q 3/00 - Dispositifs pour changer ou faire varier l'orientation ou la forme du diagramme de directivité des ondes rayonnées par une antenne ou un système d'antenne
H04L 1/00 - Dispositions pour détecter ou empêcher les erreurs dans l'information reçue
H04L 29/06 - Commande de la communication; Traitement de la communication caractérisés par un protocole
H04L 25/49 - Circuits d'émissionCircuits de réception à conversion de code au transmetteurCircuits d'émissionCircuits de réception à pré-distorsionCircuits d'émissionCircuits de réception à insertion d'intervalles morts pour obtenir un spectre de fréquence désiréCircuits d'émissionCircuits de réception à au moins trois niveaux d'amplitude
H01M 10/0585 - Structure ou fabrication d'accumulateurs ayant uniquement des éléments de structure plats, c.-à-d. des électrodes positives plates, des électrodes négatives plates et des séparateurs plats
H01M 50/10 - Boîtiers primairesFourreaux ou enveloppes
H01M 50/124 - Boîtiers primairesFourreaux ou enveloppes caractérisés par le matériau ayant une structure en couches
H01M 50/209 - Bâtis, modules ou blocs de multiples batteries ou de multiples cellules caractérisés par leur forme adaptés aux cellules prismatiques ou rectangulaires
The disclosure concerns a lithium battery comprising, in order, a support, a copper electrode and, in contact with the copper electrode, a layer of a material capable of forming an alloy with lithium. The disclosure further concerns a manufacturing method and a method of putting into service such a battery.
H01M 10/0585 - Structure ou fabrication d'accumulateurs ayant uniquement des éléments de structure plats, c.-à-d. des électrodes positives plates, des électrodes négatives plates et des séparateurs plats
H01M 4/525 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques de nickel, de cobalt ou de fer d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes contenant du fer, du cobalt ou du nickel pour insérer ou intercaler des métaux légers, p. ex. LiNiO2, LiCoO2 ou LiCoOxFy
H01M 4/38 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'éléments simples ou d'alliages
H01M 4/46 - Alliages à base de magnésium ou d'aluminium
The disclosure relates to microbattery devices and assemblies. In an embodiment, a device includes a plurality of microbatteries, a first flexible encapsulation film, and a second flexible encapsulation film. Each of the microbatteries includes a first contact terminal and a second contact terminal spaced apart from one another. The first flexible encapsulation film includes a first conductive layer electrically coupled to the first contact terminal of each of the microbatteries, and a first insulating layer on the first conductive layer. The second flexible encapsulation film includes a second conductive layer electrically coupled to the second contact terminal of each of the microbatteries, and a second insulating layer on the second conductive layer.
H01M 50/209 - Bâtis, modules ou blocs de multiples batteries ou de multiples cellules caractérisés par leur forme adaptés aux cellules prismatiques ou rectangulaires
H02J 7/02 - Circuits pour la charge ou la dépolarisation des batteries ou pour alimenter des charges par des batteries pour la charge des batteries par réseaux à courant alternatif au moyen de convertisseurs
H01M 10/46 - Accumulateurs combinés par structure avec un appareil de charge
H01M 50/10 - Boîtiers primairesFourreaux ou enveloppes
H01M 50/116 - Boîtiers primairesFourreaux ou enveloppes caractérisés par le matériau
H01M 50/124 - Boîtiers primairesFourreaux ou enveloppes caractérisés par le matériau ayant une structure en couches
H01M 50/502 - Interconnecteurs pour connecter les bornes des batteries adjacentesInterconnecteurs pour connecter les cellules en dehors d'un boîtier de batterie
A filtering circuit includes at least two common-mode filters that are electrically coupled in series and magnetically coupled. The first common-mode filter includes first and second spiral inductors that are positively magnetically coupled and electrically isolated from each other. The second common-mode filter includes third and fourth spiral inductors that are positively magnetically coupled and electrically isolated from each other. The first and third spiral inductors are electrically connected in series and negatively magnetically coupled. Likewise, the second and fourth spiral inductors are electrically connected in series and negatively magnetically coupled.
H03H 1/00 - Détails de réalisation des réseaux d'impédances dont le mode de fonctionnement électrique n'est pas spécifié ou est applicable à plus d'un type de réseau
An electronic device includes a base substrate, and a plurality of battery substrates constructed from mica and being attached to the base substrate. An aggregate area of the base substrate is greater than an aggregate area of the plurality of battery substrates. The electronic device also includes a plurality of active battery layers, each active battery layer being attached to a different respective battery substrate, with each active battery layer having a smaller area than its corresponding battery substrate. A film is disposed over the plurality of active battery layers and sized such that the film extends beyond each active battery layer to contact each battery substrate, and such that the film extends beyond each battery substrate to contact the base substrate.
An AC/DC converter includes a first terminal and a second terminal to receive an AC voltage and a third terminal and a fourth terminal to deliver a DC voltage. A rectifying bridge is provided in the converter. A controllable switching or rectifying element has a control terminal configured to receive a control current. A first switch is coupled between a supply voltage and the control terminal to inject the control current. A second switch is coupled between the control terminal and a reference voltage to extract the control current. The first and second switches are selectively actuated by a control circuit.
H02M 7/06 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge sans électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs sans éléctrode de commande
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
H02M 1/36 - Moyens pour mettre en marche ou arrêter les convertisseurs
H02M 7/162 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans une configuration en pont
G05B 19/10 - Commande à programme autre que la commande numérique, c.-à-d. dans des automatismes à séquence ou dans des automates à logique utilisant des sélecteurs
A vertical semiconductor triode includes a first layer of semiconductor material, the first layer including first and second surfaces, the first surface being in contact with a first electrode forming a Schottky contact.
H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
A circuit for controlling an anode-gate thyristor includes a first transistor that couples a thyristor gate to a first terminal to receive a potential lower than a potential of a second terminal connected to the thyristor anode. A control terminal of the first transistor is driven by a control signal which is positive with respect to the potential of the first terminal.
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
H02M 1/32 - Moyens pour protéger les convertisseurs autrement que par mise hors circuit automatique
H03K 17/725 - Dispositifs à semi-conducteurs bipolaires comportant au moins trois jonctions PN, p. ex. thyristors, transistors unijonction programmables, ou comportant au moins quatre électrodes, p. ex. commutateurs commandés au silicium, ou comportant deux électrodes connectées à la même région de conductivité, p. ex. transistors unijonction pour des tensions ou des courants alternatifs
H02M 7/15 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction utilisant uniquement des tubes à décharge
H03K 17/72 - Dispositifs à semi-conducteurs bipolaires comportant au moins trois jonctions PN, p. ex. thyristors, transistors unijonction programmables, ou comportant au moins quatre électrodes, p. ex. commutateurs commandés au silicium, ou comportant deux électrodes connectées à la même région de conductivité, p. ex. transistors unijonction
H02M 7/162 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans une configuration en pont
H03K 17/10 - Modifications pour augmenter la tension commutée maximale admissible
A thyristor or triac control circuit includes a first capacitive element that is series-connected with a first diode between a first terminal and a second terminal intended to be coupled to a gate of the thyristor or triac. A second capacitive element is coupled between the second terminal and a third terminal intended to be connected to a conduction terminal of the thyristor or triac on the gate side of the thyristor or triac. A second diode is coupled between the third terminal and a node of connection of the first capacitive element and first diode.
H03K 17/56 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs
H02M 7/06 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge sans électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs sans éléctrode de commande
H02P 27/04 - Dispositions ou procédés pour la commande de moteurs à courant alternatif caractérisés par le type de tension d'alimentation utilisant une tension d’alimentation à fréquence variable, p. ex. tension d’alimentation d’onduleurs ou de convertisseurs
H02M 5/257 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant alternatif, p. ex. pour changement de la tension, pour changement de la fréquence, pour changement du nombre de phases sans transformation intermédiaire en courant continu par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H03K 17/725 - Dispositifs à semi-conducteurs bipolaires comportant au moins trois jonctions PN, p. ex. thyristors, transistors unijonction programmables, ou comportant au moins quatre électrodes, p. ex. commutateurs commandés au silicium, ou comportant deux électrodes connectées à la même région de conductivité, p. ex. transistors unijonction pour des tensions ou des courants alternatifs
H02M 1/08 - Circuits spécialement adaptés à la production d'une tension de commande pour les dispositifs à semi-conducteurs incorporés dans des convertisseurs statiques
H02M 7/155 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H03K 17/722 - Dispositifs à semi-conducteurs bipolaires comportant au moins trois jonctions PN, p. ex. thyristors, transistors unijonction programmables, ou comportant au moins quatre électrodes, p. ex. commutateurs commandés au silicium, ou comportant deux électrodes connectées à la même région de conductivité, p. ex. transistors unijonction avec une isolation galvanique entre le circuit de commande et le circuit de sortie
H03K 17/74 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de diodes
A diode includes upper and lower electrodes and first and second N-type doped semiconductor substrate portions connected to the lower electrode. A first vertical transistor and a second transistor are formed in the first portion and series-connected between the electrodes. The gate of the first transistor is N-type doped and coupled to the upper electrode. The second transistor has a P channel and has a P-type doped gate. First and second doped areas of the second conductivity type are located in the second portion and are separated by a substrate portion topped with another N-type doped gate. The first doped area is coupled to the gate of the second transistor. The second doped area and the other gate are coupled to the upper electrode.
H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
H01L 29/86 - Types de dispositifs semi-conducteurs commandés uniquement par la variation du courant électrique fourni, ou uniquement par la tension électrique appliquée, à l'une ou plusieurs des électrodes transportant le courant à redresser, amplifier, faire osciller, ou commuter
H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
H01L 29/10 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode ne transportant pas le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
H02M 3/158 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant continu sans transformation intermédiaire en courant alternatif par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs avec commande automatique de la tension ou du courant de sortie, p. ex. régulateurs à commutation comprenant plusieurs dispositifs à semi-conducteurs comme dispositifs de commande finale pour une charge unique
H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
97.
Rectifying element and voltage converter comprising such a rectifying element
A rectifying element includes a MOS transistor series-connected with a Schottky diode. A bias voltage is applied between the control terminal of the MOS transistor and the terminal of the Schottky diode opposite to the transistor. A pair of the rectifying elements are substituted for diodes of a rectifying bridge circuit. Alternatively, the control terminal bias is supplied from a cross-coupling against the Schottky diodes. In another implementation, the Schottky diodes are omitted and the bias voltage applied to control terminals of the MOS transistors is switched in response to cross-coupled divided source-drain voltages of the MOS transistors. The circuits form components of a power converter.
H02M 7/217 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H02M 7/219 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs dans une configuration en pont
H02M 1/42 - Circuits ou dispositions pour corriger ou ajuster le facteur de puissance dans les convertisseurs ou les onduleurs
H02M 7/5387 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant alternatif sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs, p. ex. onduleurs à impulsions à un seul commutateur dans une configuration en pont
G05F 3/20 - Régulation de la tension ou du courant là où la tension ou le courant sont continus utilisant des dispositifs non commandés à caractéristiques non linéaires consistant en des dispositifs à semi-conducteurs en utilisant des combinaisons diode-transistor
H02M 1/00 - Détails d'appareils pour transformation
98.
One-way switch with a gate referenced to the main back side electrode
A one-way switch has a gate referenced to a main back side electrode. An N-type substrate includes a P-type anode layer covering a back side and a surrounding P-type wall. First and second P-type wells are formed on the front side of the N-type substrate. An N-type cathode region is located in the first P-type well. An N-type gate region is located in the second P-type well. A gate metallization covers both the N-type gate region and a portion of the second P-type well. The second P-type well is separated from the P-type wall by the N-type substrate except at a location of a P-type strip that is formed in the N-type substrate and connects a portion on one side of the second P-type well to an upper portion of said P-type wall.
H01L 29/74 - Dispositifs du type thyristor, p.ex. avec un fonctionnement par régénération à quatre zones
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
99.
Method for fabricating laterally insulated integrated circuit chips
Laterally insulated integrated circuit chips are fabricated from a semiconductor wafer. Peripheral trenches are formed in the wafer which laterally delimit integrated circuit chips to be formed. A depth of the peripheral trenches is greater than or equal to a desired final thickness of the integrated circuit chips. The peripheral trenches are formed by a process which repeats successive steps of a) ion etching using a sulfur hexafluoride plasma, and b) passivating using an octafluorocyclobutane plasma. Upon completion of the step of forming the peripheral trenches, lateral walls of the peripheral trenches are covered by an insulating layer of a polyfluoroethene. A thinning step is performed on the lower surface of the wafer until a bottom of the peripheral trenches is reached. The insulating layer is not removed.
H01L 21/78 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels
A reversible converter includes a first field effect transistor and a second field effect transistor coupled in series between a first terminal and a second terminal for a DC voltage. A first thyristor and a second thyristor are coupled in series between the first and second terminals for the DC voltage. A third thyristor and a fourth thyristor are also coupled in series between the first and second terminals for the DC voltage terminals, but have an opposite connection polarity with respect to the first and second thyristors. A midpoint of connection between the first and second field effect transistors and a common midpoint of connection between the first and second thyristors and the third and fourth thyristors are coupled to AC voltage terminals. Actuation of the transistors and thyristors is controlled in distinct manners to operate the converter in an AC-DC conversion mode and a DC-AC conversion mode.
H02M 7/757 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continuTransformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant alternatif avec possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H02M 7/77 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continuTransformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant alternatif avec possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type thyratron ou thyristor exigeant des moyens d'extinction agencés pour la marche en parallèle
H02M 7/797 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continuTransformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant alternatif avec possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H02M 7/81 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continuTransformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant alternatif avec possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande agencés pour la marche en parallèle
H02M 7/217 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs
H02M 7/06 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant alternatif en une puissance de sortie en courant continu sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge sans électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs sans éléctrode de commande
H02M 7/5388 - Transformation d'une puissance d'entrée en courant continu en une puissance de sortie en courant alternatif sans possibilité de réversibilité par convertisseurs statiques utilisant des tubes à décharge avec électrode de commande ou des dispositifs à semi-conducteurs avec électrode de commande utilisant des dispositifs du type triode ou transistor exigeant l'application continue d'un signal de commande utilisant uniquement des dispositifs à semi-conducteurs, p. ex. onduleurs à impulsions à un seul commutateur dans une configuration en pont avec configuration asymétrique des commutateurs
H02M 1/00 - Détails d'appareils pour transformation
brevets
