Semiconductor manufacturing machines; Machines for manufacturing semiconductors; Semiconductor substrates manufacturing machines; vapor generator; vapor generator and delivery system; vapor generator and purification system; machine for decontamination, sterilization, disinfection, and/or sanitation; vapor generator for decontamination, sterilization, disinfection, and/or sanitation; vapor generator for electronics manufacturing; decontamination system; sterilization system; automated hydrogen peroxide vapor generator; vaporized hydrogen peroxide control and monitoring system Sterilizers; Sterilizers for medical instruments; Gas purification apparatus; Apparatus for the purification of gas; apparatus for hydrogen peroxide vapor generation; Apparatus and instruments for sterilization with vapors and gases for use in the semiconductor, biotechnology, pharmaceutical, medical, and biopharmaceutical industries; Apparatus and instruments for vapor and gas generation for use in semiconductor, biotechnology, pharmaceutical, medical, and biopharmaceutical industries.
The techniques described herein relate to hydrogen peroxide plasma surface modification. In some aspects, a method includes providing a liquid mixture including hydrogen peroxide to a source. The source can include a membrane that is permeable to the hydrogen peroxide, or a wick material that adsorbs the liquid mixture, where the membrane or the wick material separates the liquid mixture from a head space of the source. The head space includes a vapor mixture including hydrogen peroxide vapor, which can be provided from the head space of the source, wherein a concentration of the hydrogen peroxide vapor in the vapor mixture is substantially stable over time. A hydrogen peroxide plasma can be formed from the vapor mixture, and a material can be exposed to the hydrogen peroxide plasma in a chamber.
The techniques described herein relate to a method for delivering a gas including: forming a gas stream including an oxidant gas or oxidant vapor using an oxidant gas or oxidant vapor source of a system; transporting the gas stream from the oxidant gas or oxidant vapor source to another location of the system using a metal conduit; and heating the metal conduit using a heating apparatus coupled to the metal conduit. The metal conduit can include a metal alloy, wherein at least 90% of the metal alloy is: zirconium; hafnium; tantalum; a combination of zirconium and hafnium; a combination of zirconium and tantalum; a combination of hafnium and tantalum; or a combination of zirconium, hafnium, and tantalum. A gas or vapor delivery system can include an oxidant gas or oxidant vapor source; a metal conduit including the metal alloy; and a heating apparatus coupled to the metal conduit.
F16L 53/30 - Chauffage des tuyaux ou des systèmes de tuyaux
F17D 1/065 - Aménagements pour propulser les gaz ou les vapeurs
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
4.
OXIDANT GAS OR OXIDANT VAPOR GENERATION AND DELIVERY SYSTEMS AND METHODS
The techniques described herein relate to a method for delivering a gas including: forming a gas stream including an oxidant gas or oxidant vapor using an oxidant gas or oxidant vapor source of a system; transporting the gas stream from the oxidant gas or oxidant vapor source to another location of the system using a metal conduit; and heating the metal conduit using a heating apparatus coupled to the metal conduit. The metal conduit can include a metal alloy, wherein at least 90% of the metal alloy is: zirconium; hafnium; tantalum; a combination of zirconium and hafnium; a combination of zirconium and tantalum; a combination of hafnium and tantalum; or a combination of zirconium, hafnium, and tantalum. A gas or vapor delivery system can include an oxidant gas or oxidant vapor source; a metal conduit including the metal alloy; and a heating apparatus coupled to the metal conduit.
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
F16L 53/30 - Chauffage des tuyaux ou des systèmes de tuyaux
F16L 58/10 - Revêtements caractérisés par les matériaux utilisés de caoutchouc ou de matériaux plastiques
The techniques described herein relate to hydrogen peroxide plasma surface modification. In some embodiments, a method includes providing a mixture including hydrogen peroxide vapor from a source, wherein a concentration of the hydrogen peroxide vapor in the mixture is substantially stable over time. The method further includes forming a hydrogen peroxide plasma from the mixture and exposing a material to the hydrogen peroxide plasma in a chamber.
The techniques described herein relate to hydrogen peroxide plasma surface modification. In some embodiments, a method includes providing a mixture including hydrogen peroxide vapor from a source, wherein a concentration of the hydrogen peroxide vapor in the mixture is substantially stable over time. The method further includes forming a hydrogen peroxide plasma from the mixture and exposing a material to the hydrogen peroxide plasma in a chamber.
C23C 16/513 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques utilisant des jets de plasma
C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
C23C 16/52 - Commande ou régulation du processus de dépôt
C23C 16/22 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt de matériaux inorganiques, autres que des matériaux métalliques
The techniques described herein relate to a method for etching an ashable hard mask (AHM) on a substrate. The method includes forming a plasma from a gas mixture, wherein the gas mixture includes hydrogen peroxide vapor with a concentration greater than 0.1% by volume, wherein the concentration of the hydrogen peroxide vapor in the gas mixture is substantially stable over time, and wherein the plasma comprises hydrogen peroxide species. The method further includes etching the AHM by exposing the AHM to the plasma.
The techniques described herein relate to a method for etching an ashable hard mask (AHM) on a substrate. The method includes forming a plasma from a gas mixture, wherein the gas mixture includes hydrogen peroxide vapor with a concentration greater than 0.1% by volume, wherein the concentration of the hydrogen peroxide vapor in the gas mixture is substantially stable over time, and wherein the plasma comprises hydrogen peroxide species. The method further includes etching the AHM by exposing the AHM to the plasma.
The present disclosure relates to gas recovery systems and methods, and systems including gas recovery systems. In some embodiments, a gas recovery system includes a gas inlet, a compressor, a buffer tank, a variable speed microturbine, one or more sensors, and a control system. A gas input into the gas inlet can be output from a processing tool, and the gas can include hydrogen or ammonia gas. The gas can be used to produce electrical power using the first variable speed microturbine. The sensor, for example, a gas analyzer, a flow meter, or a pressure sensor, can be between the gas inlet and the variable speed microturbine. The control system can be configured to control a speed of the variable speed microturbine in response to a measurement from the sensor.
B01D 53/14 - Séparation de gaz ou de vapeursRécupération de vapeurs de solvants volatils dans les gazÉpuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p. ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par absorption
B01D 53/78 - Procédés en phase liquide avec un contact gaz-liquide
B01D 53/30 - Commande par appareil d'analyse des gaz
The present disclosure relates to gas recovery systems and methods, and systems including gas recovery systems. In some embodiments, a gas recovery system includes a gas inlet, a compressor, a buffer tank, a variable speed microturbine, one or more sensors, and a control system. A gas input into the gas inlet can be output from a processing tool, and the gas can include hydrogen or ammonia gas. The gas can be used to produce electrical power using the first variable speed microturbine. The sensor, for example, a gas analyzer, a flow meter, or a pressure sensor, can be between the gas inlet and the variable speed microturbine. The control system can be configured to control a speed of the variable speed microturbine in response to a measurement from the sensor.
B01D 53/14 - Séparation de gaz ou de vapeursRécupération de vapeurs de solvants volatils dans les gazÉpuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p. ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par absorption
C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
F02C 1/00 - Ensembles fonctionnels de turbines à gaz caractérisés par l'utilisation de gaz chauds ou de gaz sous pression non chauffés, comme fluide de travail
F02C 9/16 - Commande du débit du fluide de travail
G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
The present disclosure provides techniques for suppression of hydrogen degradation. In some embodiments, a method for decreasing an amount or rate of hydrogen degradation of a material, includes: (a) exposing a material to gaseous hydrogen peroxide; and (b) forming a hydroxyl layer on the surface of the material within a chamber. The hydroxyl layer can decrease an amount or rate of hydrogen degradation of the material when exposed to hydrogen. In some embodiments, a system includes: a chamber; a material within the chamber; an inlet to the chamber; a hydrogen peroxide source coupled to the inlet via a conduit; and an outlet from the chamber for removing species from the chamber. The system can be configured to perform the method for decreasing an amount or rate of hydrogen degradation of a material.
C23F 11/18 - Inhibition de la corrosion de matériaux métalliques par application d'inhibiteurs sur la surface menacée par la corrosion ou par addition d'inhibiteurs à l'agent corrosif dans d'autres liquides au moyen d'inhibiteurs inorganiques
The present disclosure provides techniques for suppression of hydrogen degradation. In some embodiments, a method for decreasing the amount or rate of hydrogen degradation of a material, includes: (a) exposing a material to gaseous hydrogen peroxide; (b) forming a hydroxyl layer on the surface of the material within a chamber; and (c) after forming the hydroxyl layer, exposing the material to hydrogen during a controlled process or application.
C23F 11/18 - Inhibition de la corrosion de matériaux métalliques par application d'inhibiteurs sur la surface menacée par la corrosion ou par addition d'inhibiteurs à l'agent corrosif dans d'autres liquides au moyen d'inhibiteurs inorganiques
The present disclosure provides techniques for suppression of hydrogen degradation. In some embodiments, a method for decreasing the amount or rate of hydrogen degradation of a material, includes: (a) exposing a material to gaseous hydrogen peroxide; (b) forming a hydroxyl layer on the surface of the material within a chamber; and (c) after forming the hydroxyl layer, exposing the material to hydrogen during a controlled process or application.
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
Provided herein are methods, systems, and devices incorporating use of materials to store, ship, and deliver process gases to micro-electronics fabrication processes and other critical process applications.
B01J 20/28 - Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtrationAbsorbants ou adsorbants pour la chromatographieProcédés pour leur préparation, régénération ou réactivation caractérisées par leur forme ou leurs propriétés physiques
C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
15.
Controlled vapor delivery into low pressure processes
Provided herein are methods, systems, and device for control, delivery, and purification of low vapor pressure gases in conjunction with carrier gas in micro-electronics and other critical process applications. The present invention is based on the observation that when temperature and pressure of a device for delivering a gas stream are held constant, the concentration of vapor in the gas stream may be modulated based on the level of liquid within the chamber thereof.
C23C 16/448 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs
16.
Method, system, and device for storage and delivery of process gas from a substrate
Provided herein are methods, systems, and devices incorporating use of materials to store, ship, and deliver process gases to micro-electronics fabrication processes and other critical process applications.
F17C 11/00 - Utilisation de solvants ou d'absorbants des gaz dans les récipients
C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
C09K 13/00 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage
Provided herein are methods, systems, and devices incorporating use of materials to store, ship, and deliver process gases to micro-electronics fabrication processes and other critical process applications.
F17C 11/00 - Utilisation de solvants ou d'absorbants des gaz dans les récipients
C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
C09K 13/00 - Compositions pour l'attaque chimique, la gravure, le brillantage de surface ou le décapage
Provided herein are methods, systems, and apparatus for measuring and/or controlling mass flow/concentration of a catalytically reactive gas within a mixed gas stream by determining thermal rise due to decomposition.
B01J 4/00 - Dispositifs d'alimentationDispositifs de commande d'alimentation ou d'évacuation
B01J 8/00 - Procédés chimiques ou physiques en général, conduits en présence de fluides et de particules solidesAppareillage pour de tels procédés
B01J 19/00 - Procédés chimiques, physiques ou physico-chimiques en généralAppareils appropriés
A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p. ex. des vapeurs
A61L 2/24 - Appareils utilisant des opérations programmées ou automatiques
19.
CONTROLLED VAPOR DELIVERY INTO LOW PRESSURE PROCESSES
Provided herein are methods, systems, and device for control, delivery, and purification of low vapor pressure gases in conjunction with carrier gas in micro-electronics and other critical process applications. The present invention is based on the observation that when temperature and pressure of a device for delivering a gas stream are held constant, the concentration of vapor in the gas stream may be modulated based on the level of liquid within the chamber thereof.
C23C 16/448 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs
20.
METHOD, SYSTEM, AND DEVICE FOR STORAGE AND DELIVERY OF PROCESS GAS FROM A SUBSTRATE
Provided herein are methods, systems, and devices incorporating use of materials to store, ship, and deliver process gases to micro-electronics fabrication processes and other critical process applications.
B01D 5/00 - Condensation de vapeursRécupération de solvants volatils par condensation
B01F 3/02 - Mélange, p.ex. dispersion, émulsion, selon les phases à mélanger de gaz avec des gaz ou des vapeurs
C10J 1/08 - Carburation de l'air au moyen de substances qui sont liquides à la température ordinaire par passage de l'air à travers de liquide (barbotage) ou à la surface du liquide
C23C 16/442 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement utilisant des procédés à lits fluidisés
H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p. ex. gravure électrolytique
H01L 21/54 - Remplissage des conteneurs, p. ex. remplissage en gaz
H01L 23/20 - Matériaux de remplissage caractérisés par le matériau ou par ses propriétes physiques ou chimiques, ou par sa disposition à l'intérieur du dispositif complet gazeux à la température normale de fonctionnement du dispositif
21.
SYSTEM, DEVICE, AND METHOD FOR CONTROLLING MASS FLOW OF A CATALYTICALLY REACTIVE GAS IN A MIXED GAS STREAM
Provided herein are methods, systems, and apparatus for measuring and/or controlling mass flow/concentration of a catalytically reactive gas within a mixed gas stream by determining thermal rise due to decomposition.
A61L 2/24 - Appareils utilisant des opérations programmées ou automatiques
A61L 2/00 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet
A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p. ex. des vapeurs
B01J 4/00 - Dispositifs d'alimentationDispositifs de commande d'alimentation ou d'évacuation
B01J 23/00 - Catalyseurs contenant des métaux, oxydes ou hydroxydes métalliques non prévus dans le groupe
Methods for the gas-phase delivery of gases, such as process gases, from the gas phase of a multicomponent source liquid are provided. The methods are generally directed to the generation of process gases having mass flow rates which are proportional to the input power delivered to the multicomponent source liquid containers. The methods may be used to deliver process gases to critical process applications.
B01B 1/00 - ÉbullitionAppareils à ébullition en vue d'applications physiques ou chimiques
C23C 16/448 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs
A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p. ex. des vapeurs
F22B 3/02 - Autres méthodes de production de vapeurChaudières à vapeur non prévues dans les autres groupes de la présente sous-classe comportant l'emploi d'un fluide énergétique autre que l'eau
H05B 1/02 - Dispositions de commutation automatique spécialement adaptées aux appareils de chauffage
G03F 1/82 - Procédés auxiliaires, p. ex. nettoyage ou inspection
G03F 7/42 - Élimination des réserves ou agents à cet effet
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
23.
METHOD, SYSTEM, AND APPARATUS FOR INHIBITING DECOMPOSITION OF HYDROGEN PEROXIDE IN GAS DELIVERY SYSTEMS
Provided herein are methods, systems, and apparatus for inhibiting decomposition of hydrogen peroxide gas through use of surface modification of production and delivery components.
A61C 17/00 - Dispositifs pour nettoyer, polir, rincer ou sécher les dents, les cavités dentaires ou les prothèsesAppareils pour enlever la saliveRéceptacles pour les crachats à usage dentaire
24.
Methods and systems for purifying hydrogen peroxide solutions
Compositions, methods, devices, and systems for purifying a source liquid from a replenishment stock solution that includes stabilizing agents, such as metal ions, prior to vaporization. Certain embodiments effect the purification with a solid perfluoronated ionomer, such as a perfluoronated ionomer membrane. Advantageously, source liquids purified in this manner provide feed stocks for production of ultra-pure gaseous reagents. As well, performance characteristics of membrane-based vaporizers relying on transport processes are improved.
B01J 47/12 - Procédés d'échange d'ions en généralAppareillage à cet effet caractérisés par l'emploi d'une substance échangeur d'ions sous forme de rubans, de filaments, de fibres ou de feuilles, p. ex. sous forme de membranes
B01J 39/20 - Composés macromoléculaires obtenus par des réactions ne faisant intervenir que des liaisons carbone-carbone non saturées
B01J 49/53 - Régénération ou réactivation des échangeurs d'ionsAppareillage à cet effet caractérisés par les réactifs de régénération pour échangeurs cationiques
B01J 3/00 - Procédés utilisant une pression supérieure ou inférieure à la pression atmosphérique pour obtenir des modifications chimiques ou physiques de la matièreAppareils à cet effet
A method and chemical delivery system and device are provided. One method useful in the present invention includes contacting a non-aqueous hydrazine solution with a carrier gas and/or vacuum and delivering a substantially dry gas stream comprising hydrazine to a critical process or application. Also disclosed herein are methods of forming nitrogen-containing thin films by atomic layer deposition using hydrazine gas from a non-aqueous hydrazine solution.
A method and chemical delivery system and device are provided. One method includes contacting a non-aqueous hydrazine solution with a carrier gas and/or vacuum and delivering a gas stream comprising hydrazine to a critical process or application. One chemical delivery system and device includes a non-aqueous hydrazine solution having a vapor phase that is in contact with a carrier gas and/or vacuum. One device includes a chamber for containing a liquid comprising at least one volatile process chemical, such as a non-aqueous hydrazine solution, a hydrogen peroxide solution, or another suitable process chemical, and a head space from which the volatile can be drawn using a carrier gas and/or vacuum. Another method useful in the present invention involves drawing a process chemical from a device as a disclosed herein using a carrier or vacuum and delivering the process chemical to a critical process or application.
A method and chemical delivery system and device are provided. One method useful in the present invention includes contacting a non-aqueous hydrazine solution with a carrier gas and/or vacuum and delivering a gas stream comprising hydrazine to a critical process or application. One chemical delivery system and device useful in the present invention includes a non-aqueous hydrazine solution having a vapor phase that is in contact with a process carrier gas and/or vacuum. One device useful in the present invention includes a chamber for containing a liquid comprising at least one volatile process chemical, such as a non-aqueous hydrazine solution, a hydrogen peroxide solution, or another suitable process chemical, in fluid communication with a permeable or semi-permeable membrane from which the volatile process chemical can be drawn using a carrier gas and/or vacuum. Another method useful in the present invention involves drawing a process chemical from a device as a disclosed herein using a process carrier gas or vacuum and delivering the process chemical to a critical process or application. The system further includes a carrier gas and/or vacuum in fluid contact with the vapor phase and an apparatus for delivering a gas stream comprising at least one component of the solution comprising at least one process chemical to a critical process or application.
B01D 53/22 - Séparation de gaz ou de vapeursRécupération de vapeurs de solvants volatils dans les gazÉpuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p. ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par diffusion
B01B 1/00 - ÉbullitionAppareils à ébullition en vue d'applications physiques ou chimiques
C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
C01B 15/017 - Peroxyde d'hydrogène anhydreSolutions ou mélanges gazeux anhydres contenant du peroxyde d'hydrogène
C23C 16/448 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs
30.
Methods and systems for delivering process gases to critical process applications
Methods and delivery systems for providing a gas phase of a multi-component liquid source for delivery to a critical process application are provided. The methods include concentration of a component of the liquid source which is less volatile than water for delivery of a gas stream comprising the less volatile component to a critical process application. Critical process applications include decontamination and microelectronic processing applications.
A61L 2/00 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet
A61L 9/00 - Désinfection, stérilisation ou désodorisation de l'air
B01D 47/02 - Séparation de particules dispersées dans l'air, des gaz ou des vapeurs en utilisant un liquide comme agent de séparation par passage de l'air, du gaz ou de la vapeur sur ou à travers un bain liquide
C12Q 1/6848 - Réactions d’amplification d’acides nucléiques caracterisées par les moyens d’empêcher la contamination ou d’augmenter la spécificité ou la sensibilité d’une réaction d’amplification
A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p. ex. des vapeurs
C12Q 1/6806 - Préparation d’acides nucléiques pour analyse, p. ex. pour test de réaction en chaîne par polymérase [PCR]
A61L 2/18 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances liquides
Methods for the gas-phase delivery of gases, such as process gases, from the gas phase of a multicomponent source liquid are provided. The methods are generally directed to the generation of process gases having mass flow rates which are proportional to the input power delivered to the multicomponent source liquid containers. The methods may be used to deliver process gases to critical process applications.
C23C 16/448 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs
Methods, systems, and devices for decontaminating materials containing biological or biologically derived materials, such as microorganisms or DNA products, are provided. The methods, systems, and devices may be used for decontaminating or sterilizing materials, such as surfaces, including, but not limited to reducing the number of viable microorganisms on surfaces. The methods, systems, and devices may further be used for rendering DNA non-amplifiable in nucleic acid amplification reactions that synthesize DNA amplification products.
A61L 2/00 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet
A61L 9/00 - Désinfection, stérilisation ou désodorisation de l'air
A62B 7/08 - Appareils respiratoires contenant des compositions chimiques dégageant de l'oxygène
C12Q 1/68 - Procédés de mesure ou de test faisant intervenir des enzymes, des acides nucléiques ou des micro-organismesCompositions à cet effetProcédés pour préparer ces compositions faisant intervenir des acides nucléiques
A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p. ex. des vapeurs
A61L 2/18 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances liquides
33.
METHODS AND SYSTEMS FOR PURIFYING HYDROGEN PEROXIDE SOLUTIONS
Compositions, methods, devices, and systems for purifying a source liquid from a replenishment stock solution that includes stabilizing agents, such as metal ions, prior to vaporization. Certain embodiments effect the purification with a solid perfluoronated ionomer, such as a perfluoronated ionomer membrane. Advantageously, source liquids purified in this manner provide feed stocks for production of ultra-pure gaseous reagents. As well, performance characteristics of membrane-based vaporizers relying on transport processes are improved.
B01F 3/04 - Mélange, p.ex. dispersion, émulsion, selon les phases à mélanger de gaz ou de vapeurs avec des liquides
B01J 47/00 - Procédés d'échange d'ions en généralAppareillage à cet effet
B01J 39/00 - Échange de cationsUtilisation d'une substance comme échangeur de cationsTraitement d'une substance en vue d'améliorer ses propriétés d'échange de cations
A method and chemical delivery system and device are provided. One method includes contacting a non-aqueous hydrazine solution with a carrier gas and/or vacuum and delivering a gas stream comprising hydrazine to a critical process or application. One chemical delivery system and device includes a non-aqueous hydrazine solution having a vapor phase that is in contact with a carrier gas and/or vacuum. One device includes a chamber for containing a liquid comprising at least one volatile process chemical, such as a non-aqueous hydrazine solution, a hydrogen peroxide solution, or another suitable process chemical, and a head space from which the volatile can be drawn using a carrier gas and/or vacuum. Another method useful in the present invention involves drawing a process chemical from a device as a disclosed herein using a carrier or vacuum and delivering the process chemical to a critical process or application.
Methods, systems, and devices for decontaminating materials containing biological or biologically derived materials, such as microorganisms or DNA products, are provided. The methods, systems, and devices may be used for decontaminating or sterilizing materials, such as surfaces, including, but not limited to reducing the number of viable microorganisms on surfaces. The methods, systems, and devices may further be used for rendering DNA non-amplifiable in nucleic acid amplification reactions that synthesize DNA amplification products.
A61L 9/00 - Désinfection, stérilisation ou désodorisation de l'air
A62B 7/08 - Appareils respiratoires contenant des compositions chimiques dégageant de l'oxygène
A61L 2/00 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet
C12Q 1/68 - Procédés de mesure ou de test faisant intervenir des enzymes, des acides nucléiques ou des micro-organismesCompositions à cet effetProcédés pour préparer ces compositions faisant intervenir des acides nucléiques
A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p. ex. des vapeurs
36.
METHODS AND SYSTEMS FOR DELIVERING PROCESS GASES TO CRITICAL PROCESS APPLICATIONS
Methods and delivery systems for providing a gas phase of a multi-component liquid source for delivery to a critical process application are provided. The methods include concentration of a component of the liquid source which is less volatile than water for delivery of a gas stream comprising the less volatile component to a critical process application. Critical process applications include decontamination and microelectronic processing applications.
A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p. ex. des vapeurs
A method and chemical delivery system are provided. The method includes providing a non-aqueous hydrogen peroxide solution having a vapor phase separated from the substantially non-aqueous hydrogen peroxide solution by a membrane. The method further includes contacting a carrier gas or vacuum with the vapor phase and delivering a gas stream comprising hydrogen peroxide to a critical process or application. The chemical delivery system includes a non-aqueous hydrogen peroxide solution having a vapor phase separated from the substantially non-aqueous hydrogen peroxide solution by a membrane. The system further includes a carrier gas or vacuum in fluid contact with the vapor phase and an apparatus for delivering a gas stream comprising at least one component of the hydrogen peroxide solution to a critical process or application.
A method and chemical delivery system are provided. The method includes providing a vapor phase of a multi-component liquid source. The method further includes contacting a pre-loaded carrier gas with the vapor phase, wherein the pre-loaded carrier gas includes a carrier gas and at least one component of the multi-component liquid source and delivering a gas stream comprising at least one component of the liquid source to a critical process or application, wherein the amount of the component in the carrier gas is sufficient to keep the ratio of components in the multi-component liquid source relatively constant. The chemical delivery system includes a multi-component liquid source having a vapor phase. The system further includes a pre-loaded carrier gas source that is in fluid contact with the vapor phase, wherein the pre-loaded carrier gas includes a carrier gas and at least one component of the liquid source and an apparatus for delivering a gas stream including at least one component of the liquid source, wherein the amount of the component in the pre-loaded carrier gas is sufficient to keep the ratio of components in the multi-component liquid source relatively constant.
B01D 53/22 - Séparation de gaz ou de vapeursRécupération de vapeurs de solvants volatils dans les gazÉpuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p. ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols par diffusion
B01F 3/02 - Mélange, p.ex. dispersion, émulsion, selon les phases à mélanger de gaz avec des gaz ou des vapeurs
C23C 16/448 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour produire des courants de gaz réactifs, p. ex. par évaporation ou par sublimation de matériaux précurseurs
A method and chemical delivery system are provided. The method includes providing a concentrated aqueous hydrogen peroxide solution in a boiler having a head space, boiling the concentrated aqueous hydrogen peroxide solution to produce a dilute vapor comprising hydrogen peroxide within the head space of the boiler, and adding a dilute aqueous hydrogen peroxide solution to the concentrated aqueous hydrogen peroxide solution within the boiler to maintain the concentration of the aqueous hydrogen peroxide solution in the boiler.
A method and chemical delivery system are provided. The method includes providing a non-aqueous hydrogen peroxide solution having a vapor phase separated from the substantially non-aqueous hydrogen peroxide solution by a membrane. The method further includes contacting a carrier gas or vacuum with the vapor phase and delivering a gas stream comprising hydrogen peroxide to a critical process or application. The chemical delivery system includes a non-aqueous hydrogen peroxide solution having a vapor phase separated from the substantially non-aqueous hydrogen peroxide solution by a membrane. The system further includes a carrier gas or vacuum in fluid contact with the vapor phase and an apparatus for delivering a gas stream comprising at least one component of the hydrogen peroxide solution to a critical process or application.
A method and chemical delivery system are provided. The method includes providing a vapor phase of a multi-component liquid source. The method further includes contacting a pre- loaded carrier gas with the vapor phase, wherein the pre-loaded carrier gas includes a carrier gas and at least one component of the multi- component liquid source and delivering a gas stream comprising at least one component of the liquid source to a critical process or application, wherein the amount of the component in the carrier gas is sufficient to keep the ratio of components in the multi- component liquid source relatively constant. The chemical delivery system includes a multi- component liquid source having a vapor phase. The system further includes a pre-loaded carrier gas source that is in fluid contact with the vapor phase, wherein the pre-loaded carrier gas includes a carrier gas and at least one component of the liquid source and an apparatus for delivering a gas stream including at least one component of the liquid source, wherein the amount of the component in the pre-loaded carrier gas is sufficient to keep the ratio of components in the multi-component liquid source relatively constant.
A method and chemical delivery system are provided. The method includes providing a vapor phase of a multi-component liquid source. The method further includes contacting a pre-loaded carrier gas with the vapor phase, wherein the pre-loaded carrier gas includes a carrier gas and at least one component of the multi-component liquid source and delivering a gas stream comprising at least one component of the liquid source to a critical process or application, wherein the amount of the component in the carrier gas is sufficient to keep the ratio of components in the multi-component liquid source relatively constant. The chemical delivery system includes a multi- component liquid source having a vapor phase. The system further includes a pre-loaded carrier gas source that is in fluid contact with the vapor phase, wherein the pre-loaded carrier gas includes a carrier gas and at least one component of the liquid source and an apparatus for delivering a gas stream including at least one component of the liquid source, wherein the amount of the component in the pre-loaded carrier gas is sufficient to keep the ratio of components in the multi-component liquid source relatively constant.
A method (500) for cleaning an article such as a EUV (extreme ultraviolet) lithography reticle is provided. The method includes evacuating a cleaning chamber and loading the article to be cleaned into the cleaning chamber (510); preparing the environment of the chamber (520) by connecting the cleaning chamber to a vapor source while controlling pressure in the cleaning chamber to a predetermined pressure; controlling a temperature of the article relative to a temperature of the vapor source so as to form a liquid film (530) over the article and over particles present on the article; isolating the cleaning chamber from the vapor source; evaporating the liquid film (540) by exposing the cleaning chamber to one or more condensing surfaces whose temperature is lower than that of the article, the evaporating liquid transporting at least a portion of the particles away from the article, which is then unloaded from the chamber (560). The cleaning steps (520 to 540) can be repeated (550) as desired.
A vaporizing device and method for operating same is provided for control, delivery, and/or purification of a vapor of a liquid, e.g., for use in micro-electronics and other critical process applications.
B01D 61/00 - Procédés de séparation utilisant des membranes semi-perméables, p. ex. dialyse, osmose ou ultrafiltrationAppareils, accessoires ou opérations auxiliaires, spécialement adaptés à cet effet
