A chuck includes a chuck surface, a plurality of vacuum ports being distributed over the chuck surface. Each of the vacuum ports is open to a conduit that is connectable to a suction source that is operable to apply suction to that vacuum port. A flow restrictor is located within each conduit and is characterized by a flow resistance. The flow resistance of the flow restrictor in at least one conduit is less than the flow resistance of the flow restrictor in at least one other conduit.
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
B23B 31/30 - Mandrins de serrage caractérisés par le système de commande à distance des moyens de serrage utilisant des moyens hydrauliques ou pneumatiques dans le mandrin
B25B 11/00 - Porte-pièces ou dispositifs de mise en position non couverts par l'un des groupes , p. ex. porte-pièces magnétiques, porte-pièces utilisant le vide
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
2.
CONFIGURABLE CHUCK APPARATUS FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION AND COOPERATING RING
A chuck and a method for chemical mechanical planarization processing that provides different pressure levels at different radii of the chuck's bottom surface. Embodiments may include a vacuum ring that keeps a workpiece attached to the chuck bottom surface without touching it and a chuck ring that cooperates with the chuck for removing excess material during processing.
B24B 49/16 - Appareillage de mesure ou de calibrage pour la commande du mouvement d'avance de l'outil de meulage ou de la pièce à meulerAgencements de l'appareillage d'indication ou de mesure, p. ex. pour indiquer le début de l'opération de meulage tenant compte de la pression de travail
B24B 57/02 - Dispositifs pour l'alimentation, l'application, le triage ou la récupération de produits de meulage, polissage ou rodage pour l'alimentation en produits de meulage, polissage ou rodage à l'état fluide, vaporisés, pulvérisés ou liquéfiés
H01L 21/304 - Traitement mécanique, p. ex. meulage, polissage, coupe
H01L 21/302 - Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p. ex. gravure, polissage, découpage
B24B 41/06 - Supports de pièces, p. ex. lunettes réglables
B23B 31/30 - Mandrins de serrage caractérisés par le système de commande à distance des moyens de serrage utilisant des moyens hydrauliques ou pneumatiques dans le mandrin
A chuck and a method for chemical and mechanical planarization processing that provides different pressure levels at different radii of the chuck's bottom surface. The chuck may include a vacuum ring that keeps a workpiece attached to the chuck bottom surface without touching it and a chuck ring that cooperates with the chuck for removing excess material during processing.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
4.
CHUCK FOR ACQUIRING A WARPED WORKPIECE BY AMPLIFIED SUCTION
A chuck for holding a workpiece, includes one or more first compartments, each defining a first space and having a wall that forms a chuck surface with a plurality of vacuum ports on the chuck surface; a second compartment defining a second space for temporarily maintaining vacuum; one or a plurality of conduits fluidically connecting between the second compartment and each of the one or a plurality of first compartments, each of the conduits having a valve which when opens allows flow through that conduit and when closed prevents flow through that conduit; and a controller, for controlling the valves, wherein vacuum within the second compartment when the valve of each of said one or more conduits is closed is used on the vacuum ports when the valve of each of said one or more conduits is opened.
B25B 11/00 - Porte-pièces ou dispositifs de mise en position non couverts par l'un des groupes , p. ex. porte-pièces magnétiques, porte-pièces utilisant le vide
A chuck includes a chuck surface and extendible port assemblies that are distributed over the chuck surface. Each extendible port assembly includes a conduit that is connectable to a suction source and a tube that distally extends from the chuck surface, whose distal end forms a seal when in contact with a workpiece, and is collapsible by suction that is applied by the suction source after formation of the seal. A plurality of non-extendible vacuum ports are interspersed with the extendible port assemblies. At least one areal seal extends from the chuck surface and bounds a region of the chuck surface that includes at least one of the non-extendible vacuum ports, and that is configured to form an airtight seal when the areal seal is in contact with the workpiece.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
B65H 3/08 - Enlèvement des articles des piles en utilisant la force pneumatique
A chuck includes a chuck surface, a plurality of vacuum ports being distributed over the chuck surface. Each of the vacuum ports is open to a conduit that is connectable to a suction source that is operable to apply suction to that vacuum port. A flow restrictor is located within each conduit and is characterized by a flow resistance. The flow resistance of the flow restrictor in at least one conduit is less than the flow resistance of the flow restrictor in at least one other conduit.
B23B 31/30 - Mandrins de serrage caractérisés par le système de commande à distance des moyens de serrage utilisant des moyens hydrauliques ou pneumatiques dans le mandrin
B25B 11/00 - Porte-pièces ou dispositifs de mise en position non couverts par l'un des groupes , p. ex. porte-pièces magnétiques, porte-pièces utilisant le vide
A chuck includes a chuck surface, a plurality of vacuum ports being distributed over the chuck surface. Each of the vacuum ports is open to a conduit that is connectable to a suction source that is operable to apply suction to that vacuum port. A flow restrictor is located within each conduit and is characterized by a flow resistance. The flow resistance of the flow restrictor in at least one conduit is less than the flow resistance of the flow restrictor in at least one other conduit.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
B23B 31/30 - Mandrins de serrage caractérisés par le système de commande à distance des moyens de serrage utilisant des moyens hydrauliques ou pneumatiques dans le mandrin
F25B 9/14 - Machines, installations ou systèmes à compression dans lesquels le fluide frigorigène est l'air ou un autre gaz à point d'ébullition peu élevé caractérisés par le cycle utilisé, p. ex. cycle de Stirling
A chuck includes a chuck surface, a plurality of vacuum ports being distributed over the chuck surface. Each of the vacuum ports is open to a conduit that is connectable to a suction source that is operable to apply suction to that vacuum port. A flow restrictor is located within each conduit and is characterized by a flow resistance. The flow resistance of the flow restrictor in at least one conduit is less than the flow resistance of the flow restrictor in at least one other conduit.
B23B 31/30 - Mandrins de serrage caractérisés par le système de commande à distance des moyens de serrage utilisant des moyens hydrauliques ou pneumatiques dans le mandrin
B23Q 3/08 - Moyens de fixation de la pièce autres que les moyens actionnés mécaniquement
B25B 11/00 - Porte-pièces ou dispositifs de mise en position non couverts par l'un des groupes , p. ex. porte-pièces magnétiques, porte-pièces utilisant le vide
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
A gripper to grip a workpiece includes a body with a flat gripper surface. The gripper surface includes a plurality of openings that are distributed over the gripper surface, each of the openings connectable to a source of suction. At least one flow restrictor is located between the plurality of openings and a connector of the gripper to the source of suction to restrict the inflow through each opening of the plurality of openings. When the suction is applied to the plurality of openings and a part of the workpiece surface covers at least one opening of the plurality of openings and another of the openings remains uncovered, the suction force at the covered opening is sufficiently strong to grip the workpiece surface.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
B25J 15/06 - Têtes de préhension avec moyens de retenue magnétiques ou fonctionnant par succion
A wafer positioning device includes at least one fixed stop that is positioned at a periphery of a clamped position on a surface of a chuck and an extendible finger. A finger extension mechanism extends the finger outward toward a center of the chuck surface, and retracts the finger away from the center of the chuck surface. The finger is configured, when a wafer is placed on the chuck surface and the finger extension mechanism is operated to extend the finger outward, to push the wafer laterally toward the fixed stop until an edge of the wafer contacts the fixed stop when a distal end of the finger is at the periphery of the clamped position.
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
11.
Fluid flow web tension device for roll-to-roll processing
A web tension device includes a pressure source and a stationary housing. A translatable unit is translatable into and out of a cavity of the housing and includes an inlet that is connectable to the pressure source. A distal end of the translatable unit includes a tensioning surface with openings to enable outflow of pressurized fluid to apply a pushing force to a web in a roll-to-roll process. Proximal openings enable outflow of the fluid into a gap between the housing and the translatable unit. When tension of the web is reduced, an outward force that is exerted by pressure in the gap pushes the translatable unit outward, pushing the web outward until an inward force that is exerted by the web balances the outward force. When tension of the web increases, the inward force pushes the translatable unit inward until the inward force is balanced by the outward force.
B65H 23/24 - Positionnement, tension, suppression des à-coups ou guidage des bandes longitudinal par l'action d'un fluide, p. ex. pour retarder la bande en marche
B65H 23/26 - Positionnement, tension, suppression des à-coups ou guidage des bandes longitudinal par barres ou rouleaux transversaux fixes ou réglables
12.
COATING FOR ALUMINUM OBJECTS HAVING AN IMPROVED CONDUCTIVITY AND METHOD OF MAKING SAME
Methods of coating an aluminum object, comprising: anodizing a portion of a surface of the aluminum object to form an anodized layer, introducing nano tubes into pores in the anodized layer using an ultrasonic bath; and sealing the anodized layer thereby producing a coated aluminum object.
B05D 5/12 - Procédés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces pour obtenir des effets, finis ou des structures de surface particuliers pour obtenir un revêtement ayant des propriétés électriques spécifiques
C23C 14/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
C25D 11/14 - Production de couches colorées en totalité
C25D 11/18 - Post-traitement, p. ex. bouchage des pores
C25D 15/00 - Production électrolytique ou électrophorétique de revêtements contenant des matériaux incorporés, p. ex. particules, "whiskers", fils
H01B 1/18 - Matériau conducteur dispersé dans un matériau inorganique non conducteur le matériau conducteur comportant des compositions à base de carbone-silicium, du carbone ou du silicium
Methods and systems for determination of warpage in a workpiece supported by a non-contact support platform, including a surface with a plurality of pressure ports and a plurality of fluid evacuation ports on the surface, a supply system with a pressure supply connected to the plurality of pressure ports on the surface and configured to supply pressure at a substantially constant level and cause a fluid to flow out of the plurality of pressure ports, so as to support a workpiece by fluid-bearing formed under the workpiece, and at least one flowmeter, coupled to a controller and configured to measure the flowrate at the surface, wherein the workpiece is determined to be warped when the measured flowrate is outside a predefined flowrate range.
G01B 21/20 - Dispositions pour la mesure ou leurs détails, où la technique de mesure n'est pas couverte par les autres groupes de la présente sous-classe, est non spécifiée ou est non significative pour mesurer des contours ou des courbes, p. ex. pour déterminer un profil
G01B 11/24 - Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de techniques optiques pour mesurer des contours ou des courbes
G01B 11/30 - Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de techniques optiques pour mesurer la rugosité ou l'irrégularité des surfaces
14.
System and method of measuring warpage of a workpiece on a noncontact support platform
Methods and systems for determination of warpage in a workpiece supported by a non-contact support platform, including a surface with a plurality of pressure ports and a plurality of fluid evacuation ports on the surface, a supply system with a pressure supply connected to the plurality of pressure ports on the surface and configured to supply pressure at a substantially constant level and cause a fluid to flow out of the plurality of pressure ports, so as to support a workpiece by fluid-bearing formed under the workpiece, and at least one flowmeter, coupled to a controller and configured to measure the flowrate at the surface, wherein the workpiece is determined to be warped when the measured flowrate is outside a predefined flowrate range.
B65G 51/03 - Transport des objets par écoulement direct de gaz, p. ex. fiches, feuilles, bas, réceptacles, pièces à usiner sur une surface plane ou dans des caniveaux
B65G 43/00 - Dispositifs de commande, p. ex. de sécurité, d'alarme ou de correction des erreurs
B65G 49/06 - Systèmes transporteurs caractérisés par leur utilisation à des fins particulières, non prévus ailleurs pour des matériaux ou objets fragiles ou dommageables pour des feuilles fragiles, p. ex. en verre
15.
Non-contact support platform with open-loop control
A non-contact support platform with open-loop control, including: a surface, to support a workpiece by fluid-bearing of fluid flowing through a plurality of nozzles, a supply system, connected to the surface and configured to maintain the fluid-bearing by applying pressure to cause flow of the fluid out of a subset of the plurality of nozzles, and a controller, to control fluid flow in the supply system with an open-loop circuit to support the workpiece while it moves over the non-contact support platform, wherein the fluid flow is controlled based on at least parameter of a group of workpiece parameters consisting of a position of the workpiece, dimensions of the workpiece and a velocity of the workpiece while supported by the surface.
B65G 43/08 - Dispositifs de commande actionnés par l'alimentation, le déplacement ou le déchargement des objets ou matériaux
B65G 49/06 - Systèmes transporteurs caractérisés par leur utilisation à des fins particulières, non prévus ailleurs pour des matériaux ou objets fragiles ou dommageables pour des feuilles fragiles, p. ex. en verre
B65G 51/03 - Transport des objets par écoulement direct de gaz, p. ex. fiches, feuilles, bas, réceptacles, pièces à usiner sur une surface plane ou dans des caniveaux
G05D 7/06 - Commande de débits caractérisée par l'utilisation de moyens électriques
A gripper to grip a workpiece includes a body with a flat gripper surface. The gripper surface includes a plurality of openings that are distributed over the gripper surface, each of the openings connectable to a source of suction. At least one flow restrictor is located between the plurality of openings and a connector of the gripper to the source of suction to restrict the inflow through each opening of the plurality of openings. When the suction is applied to the plurality of openings and a part of the workpiece surface covers at least one opening of the plurality of openings and another of the openings remains uncovered, the suction force at the covered opening is sufficiently strong to grip the workpiece surface.
A web tension device includes a pressure source and a stationary housing. A translatable unit is translatable into and out of a cavity of the housing and includes an inlet that is connectable to the pressure source. A distal end of the translatable unit includes a tensioning surface with openings to enable outflow of pressurized fluid to apply a pushing force to a web in a roll-to-roll process. Proximal openings enable outflow of the fluid into a gap between the housing and the translatable unit. When tension of the web is reduced, an outward force that is exerted by pressure in the gap pushes the translatable unit outward, pushing the web outward until an inward force that is exerted by the web balances the outward force. When tension of the web increases, the inward force pushes the translatable unit inward until the inward force is balanced by the outward force.
B65H 23/26 - Positionnement, tension, suppression des à-coups ou guidage des bandes longitudinal par barres ou rouleaux transversaux fixes ou réglables
D02H 13/14 - Mécanismes d'entraînement à vitesse variable à commande automatique par la tension de la chaîne
A wafer positioning device includes at least one fixed stop that is positioned at a periphery of a clamped position on a surface of a chuck and an extendible finger. A finger extension mechanism extends the finger outward toward a center of the chuck surface, and retracts the finger away from the center of the chuck surface. The finger is configured, when a wafer is placed on the chuck surface and the finger extension mechanism is operated to extend the finger outward, to push the wafer laterally toward the fixed stop until an edge of the wafer contacts the fixed stop when a distal end of the finger is at the periphery of the clamped position.
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
A noncontact support platform system is configured to support a workpiece and includes pressure ports and vacuum ports that are interspersed on a top surface of a table. The ports are arranged along columns such that a pressure port alternates with a vacuum port along each column. The columns include at least one longitudinal column that is oriented substantially parallel to a direction of motion of the workpiece. Mutually parallel rotated columns are each oriented at an oblique angle to the direction of motion. At least one transition column is located between a longitudinal column and its proximal rotated column and has an orientation that is intermediate between the two columns that are adjacent to that transition column. Each vacuum port and pressure port is located at an intersection of a column with a row that is oriented substantially perpendicular to the direction of motion.
B65G 51/03 - Transport des objets par écoulement direct de gaz, p. ex. fiches, feuilles, bas, réceptacles, pièces à usiner sur une surface plane ou dans des caniveaux
B65G 49/06 - Systèmes transporteurs caractérisés par leur utilisation à des fins particulières, non prévus ailleurs pour des matériaux ou objets fragiles ou dommageables pour des feuilles fragiles, p. ex. en verre
A noncontact support platform system is configured to support a workpiece and includes pressure ports and vacuum ports that are interspersed on a top surface of a table. The ports are arranged along columns such that a pressure port alternates with a vacuum port along each column. The columns include at least one longitudinal column that is oriented substantially parallel to a direction of motion of the workpiece. Mutually parallel rotated columns are each oriented at an oblique angle to the direction of motion. At least one transition column is located between a longitudinal column and its proximal rotated column and has an orientation that is intermediate between the two columns that are adjacent to that transition column. Each vacuum port and pressure port is located at an intersection of a column with a row that is oriented substantially perpendicular to the direction of motion.
B65G 49/06 - Systèmes transporteurs caractérisés par leur utilisation à des fins particulières, non prévus ailleurs pour des matériaux ou objets fragiles ou dommageables pour des feuilles fragiles, p. ex. en verre
H01L 21/677 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le transport, p. ex. entre différents postes de travail
21.
NON-CONTACT SUPPORT PLATFORM WITH OPEN-LOOP CONTROL
A non-contact support platform with open-loop control, including: a surface, to support a workpiece by fluid-bearing of fluid flowing through a plurality of nozzles, a supply system, connected to the surface and configured to maintain the fluid-bearing by applying pressure to cause flow of the fluid out of a subset of the plurality of nozzles, and a controller, to control fluid flow in the supply system with an open-loop circuit to support the workpiece while it moves over the non-contact support platform, wherein the fluid flow is controlled based on at least parameter of a group of workpiece parameters consisting of a position of the workpiece, dimensions of the workpiece and a velocity of the workpiece while supported by the surface.
B65G 49/06 - Systèmes transporteurs caractérisés par leur utilisation à des fins particulières, non prévus ailleurs pour des matériaux ou objets fragiles ou dommageables pour des feuilles fragiles, p. ex. en verre
B65G 51/03 - Transport des objets par écoulement direct de gaz, p. ex. fiches, feuilles, bas, réceptacles, pièces à usiner sur une surface plane ou dans des caniveaux
22.
Noncontact support platform with blockage detection
A noncontact support platform includes a plurality of pressure nozzles on an outer surface of a PV stage of the noncontact support platform. The pressure nozzles connected to a pressure source for creating an outflow of fluid through the pressure nozzles. A plurality of vacuum nozzles are interspersed with the pressure nozzles on the outer surface and are connected to a vacuum manifold via one or a plurality of hoses to create an inflow of the fluid through the vacuum nozzles. At least one flowmeter is configured to generate a signal that is indicative of a measured inflow via at least one hose of the hoses. A controller is configured to analyze the signal to determine whether the measured inflow is indicative of blockage of a vacuum nozzle and to generate a response when blockage is indicated.
B65G 51/03 - Transport des objets par écoulement direct de gaz, p. ex. fiches, feuilles, bas, réceptacles, pièces à usiner sur une surface plane ou dans des caniveaux
B25B 11/00 - Porte-pièces ou dispositifs de mise en position non couverts par l'un des groupes , p. ex. porte-pièces magnétiques, porte-pièces utilisant le vide
A noncontact support platform includes pressure ports distributed on a surface of a table, each connected to a pressure source. Vacuum ports are distributed on the surface of the table, each connected to a vacuum source. Outward flow through the pressure ports and inward flow through the vacuum ports form a fluid cushion to support a workpiece at a nonzero distance from the table. A plurality of channels each connect at least two of the vacuum ports to enable flow of fluid between the connected vacuum ports. When one of the connected vacuum ports is covered by an edge of the workpiece and the other is not, a suction force that is exerted by the connected vacuum ports on the edge is weaker than the suction force that is exerted on a part of the workpiece where both of the connected vacuum ports are covered.
B65G 51/03 - Transport des objets par écoulement direct de gaz, p. ex. fiches, feuilles, bas, réceptacles, pièces à usiner sur une surface plane ou dans des caniveaux
B65G 49/06 - Systèmes transporteurs caractérisés par leur utilisation à des fins particulières, non prévus ailleurs pour des matériaux ou objets fragiles ou dommageables pour des feuilles fragiles, p. ex. en verre
H01L 21/677 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le transport, p. ex. entre différents postes de travail
A noncontact support system includes a table with a port layer having a pattern of interspersed pressure ports and vacuum ports. A pressure conduit layer includes a grid pattern of pressure conduits, connectable to a pressure source, each of the pressure ports being located on an axis passing through an intersection of at least two of the pressure conduits and substantially orthogonal to the grid pattern of pressure conduits. A vacuum conduit layer includes a grid pattern of vacuum conduits, connectable to a suction source, each of the vacuum ports being located on an axis passing through an intersection of at least two of the vacuum conduits and substantially orthogonal to the grid pattern of vacuum conduits. The grid pattern of vacuum conduits is laterally offset from the grid pattern of pressure conduits such that each intersection of pressure conduits is laterally offset from all intersections of the vacuum conduits.
B65G 47/00 - Dispositifs de manutention d'objets ou de matériaux associés aux transporteursProcédés d'emploi de ces dispositifs
B65G 49/00 - Systèmes transporteurs caractérisés par leur utilisation à des fins particulières, non prévus ailleurs
B65G 49/06 - Systèmes transporteurs caractérisés par leur utilisation à des fins particulières, non prévus ailleurs pour des matériaux ou objets fragiles ou dommageables pour des feuilles fragiles, p. ex. en verre
B65G 51/03 - Transport des objets par écoulement direct de gaz, p. ex. fiches, feuilles, bas, réceptacles, pièces à usiner sur une surface plane ou dans des caniveaux
B65G 51/10 - Commande ou conditionnement du fluide moteur aux jonctions des sections des systèmes pneumatiques
A noncontact support system includes a table with a port layer having a pattern of interspersed pressure ports and vacuum ports. A pressure conduit layer includes a grid pattern of pressure conduits, connectable to a pressure source, each of the pressure ports being located on an axis passing through an intersection of at least two of the pressure conduits and substantially orthogonal to the grid pattern of pressure conduits. A vacuum conduit layer includes a grid pattern of vacuum conduits, connectable to a suction source, each of the vacuum ports being located on an axis passing through an intersection of at least two of the vacuum conduits and substantially orthogonal to the grid pattern of vacuum conduits. The grid pattern of vacuum conduits is laterally offset from the grid pattern of pressure conduits such that each intersection of pressure conduits is laterally offset from all intersections of the vacuum conduits.
B25B 11/00 - Porte-pièces ou dispositifs de mise en position non couverts par l'un des groupes , p. ex. porte-pièces magnétiques, porte-pièces utilisant le vide
26.
VACUUM WHEEL WITH SEPARATE CONTACT AND VACUUM SURFACES
A vacuum wheel for transporting a substrate includes a fixed conduit that is connectable to a suction source. A vacuum surface on a circumference of the vacuum wheel includes vacuum openings that are distributed around the circumference, such that rotation of the wheel causes the vacuum openings to successively fluidically connect to the fixed conduit. When suction is applied to the fixed conduit, suction is applied to one or more of the vacuum openings that are currently fluidically connected to the fixed conduit. At least one contact surface on the circumference of the vacuum wheel is adjacent to, and extends outward beyond, the vacuum surface. When suction is applied to the vacuum openings, the substrate is drawn toward the vacuum surface so as to contact the contact surface without contacting the vacuum surface, creating a friction force that enables transport of the substrate when the wheel rotates.
B65G 47/84 - Roues en forme d'étoiles ou dispositifs à courroies ou chaînes sans fin, les roues ou dispositifs étant dotés d'éléments venant en prise avec les objets
B65G 51/03 - Transport des objets par écoulement direct de gaz, p. ex. fiches, feuilles, bas, réceptacles, pièces à usiner sur une surface plane ou dans des caniveaux
H01L 21/677 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le transport, p. ex. entre différents postes de travail
27.
Vacuum wheel with separate contact and vacuum surfaces
A vacuum wheel for transporting a substrate includes a fixed conduit that is connectable to a suction source. A vacuum surface on a circumference of the vacuum wheel includes vacuum openings that are distributed around the circumference, such that rotation of the wheel causes the vacuum openings to successively fluidically connect to the fixed conduit. When suction is applied to the fixed conduit, suction is applied to one or more of the vacuum openings that are currently fluidically connected to the fixed conduit. At least one contact surface on the circumference of the vacuum wheel is adjacent to, and extends outward beyond, the vacuum surface. When suction is applied to the vacuum openings, the substrate is drawn toward the vacuum surface so as to contact the contact surface without contacting the vacuum surface, creating a friction force that enables transport of the substrate when the wheel rotates.
A noncontact support platform includes a plurality of pressure nozzles on an outer surface of a PV stage of the noncontact support platform. The pressure nozzles connected to a pressure source for creating an outflow of fluid through the pressure nozzles. A plurality of vacuum nozzles are interspersed with the pressure nozzles on the outer surface and are connected to a vacuum manifold via one or a plurality of hoses to create an inflow of the fluid through the vacuum nozzles. At least one flowmeter is configured to generate a signal that is indicative of a measured inflow via at least one hose of the hoses. A controller is configured to analyze the signal to determine whether the measured inflow is indicative of blockage of a vacuum nozzle and to generate a response when blockage is indicated.
B65G 51/03 - Transport des objets par écoulement direct de gaz, p. ex. fiches, feuilles, bas, réceptacles, pièces à usiner sur une surface plane ou dans des caniveaux
B65G 49/00 - Systèmes transporteurs caractérisés par leur utilisation à des fins particulières, non prévus ailleurs
29.
Noncontact support platform with blockage detection
A noncontact support platform includes a plurality of pressure nozzles on an outer surface of a PV stage of the noncontact support platform. The pressure nozzles connected to a pressure source for creating an outflow of fluid through the pressure nozzles. A plurality of vacuum nozzles are interspersed with the pressure nozzles on the outer surface and are connected to a vacuum manifold via one or a plurality of hoses to create an inflow of the fluid through the vacuum nozzles. At least one flowmeter is configured to generate a signal that is indicative of a measured inflow via at least one hose of the hoses. A controller is configured to analyze the signal to determine whether the measured inflow is indicative of blockage of a vacuum nozzle and to generate a response when blockage is indicated.
B65G 51/03 - Transport des objets par écoulement direct de gaz, p. ex. fiches, feuilles, bas, réceptacles, pièces à usiner sur une surface plane ou dans des caniveaux
A noncontact support platform includes pressure ports distributed on a surface of a table, each connected to a pressure source. Vacuum ports are distributed on the surface of the table, each connected to a vacuum source. Outward flow through the pressure ports and inward flow through the vacuum ports form a fluid cushion to support a workpiece at a nonzero distance from the table. A plurality of channels each connect at least two of the vacuum ports to enable flow of fluid between the connected vacuum ports. When one of the connected vacuum ports is covered by an edge of the workpiece and the other is not, a suction force that is exerted by the connected vacuum ports on the edge is weaker than the suction force that is exerted on a part of the workpiece where both of the connected vacuum ports are covered.
B65G 51/03 - Transport des objets par écoulement direct de gaz, p. ex. fiches, feuilles, bas, réceptacles, pièces à usiner sur une surface plane ou dans des caniveaux
B65G 49/06 - Systèmes transporteurs caractérisés par leur utilisation à des fins particulières, non prévus ailleurs pour des matériaux ou objets fragiles ou dommageables pour des feuilles fragiles, p. ex. en verre
H01L 21/677 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le transport, p. ex. entre différents postes de travail
A system for conveying a substrate includes a noncontact support platform for supporting the substrate. A vacuum wheel is located adjacent to the support platform. A rim of the vacuum wheel includes perforations that open between an exterior of the rim and an interior of the vacuum wheel. A fixed suction surface is interior to the vacuum wheel and includes an opening of a conduit that is connectable to a suction source. A chamber is formed by the suction surface, walls of the vacuum wheel, and a section of the peripheral rim that is adjacent to the suction surface and that extends outward from the support platform. When suction is applied to the conduit, the suction is applied via the chamber to the perforations in the rim section so as to exert a pull on the substrate toward the rim such that rotation of the vacuum wheel conveys the substrate.
B65G 49/06 - Systèmes transporteurs caractérisés par leur utilisation à des fins particulières, non prévus ailleurs pour des matériaux ou objets fragiles ou dommageables pour des feuilles fragiles, p. ex. en verre
B65G 51/03 - Transport des objets par écoulement direct de gaz, p. ex. fiches, feuilles, bas, réceptacles, pièces à usiner sur une surface plane ou dans des caniveaux
A system for conveying a substrate includes a noncontact support platform for supporting the substrate. A vacuum wheel is located adjacent to the support platform. A rim of the vacuum wheel includes perforations that open between an exterior of the rim and an interior of the vacuum wheel. A fixed suction surface is interior to the vacuum wheel and includes an opening of a conduit that is connectable to a suction source. A chamber is formed by the suction surface, walls of the vacuum wheel, and a section of the peripheral rim that is adjacent to the suction surface and that extends outward from the support platform. When suction is applied to the conduit, the suction is applied via the chamber to the perforations in the rim section so as to exert a pull on the substrate toward the rim such that rotation of the vacuum wheel conveys the substrate.
B65G 47/84 - Roues en forme d'étoiles ou dispositifs à courroies ou chaînes sans fin, les roues ou dispositifs étant dotés d'éléments venant en prise avec les objets
B65G 51/03 - Transport des objets par écoulement direct de gaz, p. ex. fiches, feuilles, bas, réceptacles, pièces à usiner sur une surface plane ou dans des caniveaux
H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H01L 21/677 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le transport, p. ex. entre différents postes de travail
A wafer transport system includes a substantially horizontal non-contact support platform for supporting a wafer substantially horizontally at a substantially fixed vertical distance from the platform. A wafer gripping device includes wafer grippers to grip a surface of the wafer that is opposite the non-contact support platform. Each of the wafer grippers is mounted on a vertically flexible holder to enable the wafer gripper to adapt to a height of the wafer above the wafer gripping device while maintaining a substantial horizontal rigidity of the vertically flexible holder so as to prevent horizontal motion of the wafer relative to the wafer gripping device.
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
An apparatus for separating a front wafer from a stack of wafers is disclosed. The apparatus includes a chuck for gripping the front wafer, coupled to a mechanical arm and rotatable about at least one axis with respect to the arm, so as to allow the chuck to align substantially parallel to the front wafer. A fixing mechanism is provided for fixing the chuck in a desired orientation. The apparatus also includes a drive for moving the arm in at least in two directions, one direction to bring the chuck to the front wafer and in another direction substantially parallel to the fixed orientation of the chuck to separate the wafer from the stack of wafers. A stopper mechanism is provided for preventing other wafers from separating from the stack while the front wafer is being separated.
An apparatus for separating a front wafer from a stack of wafers with internal gaps between the wafers is disclosed. The apparatus includes a chuck for gripping the front wafer, coupled to a mechanical arm and a drive for moving the arm to bring the chuck to the front wafer and to separate the wafer from the stack of wafers. Further included is a heater for heating the front wafer so as to raise the temperature within the internal gap between the front wafer and the adjacent wafer of the stack of wafers above the temperature of more distant internal gaps within the stack.
B28D 5/00 - Travail mécanique des pierres fines, pierres précieuses, cristaux, p. ex. des matériaux pour semi-conducteursAppareillages ou dispositifs à cet effet
H01L 21/00 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
36.
METHOD AND SYSTEM FOR LOCALLY CONTROLLING SUPPORT OF A FLAT OBJECT
A non-contact support platform system is provided for supporting a substantially flat object. The system includes a platform with a first plurality of pressure ports and a first plurality of vacuum ports for inducing a fluid cushion to support the object at a distance from the platform. The system further includes a second plurality of pressure ports located at a predetermined zone of the platform for increasing the distance of the object from the platform at the predetermined zone.
brevets
