A photosensitive resin composition having a coloring function is disclosed. According to one aspect, the provided photosensitive resin composition comprises an alkali-soluble resin and a photoactive compound, wherein the alkali-soluble resin and/or the photoactive compound has an absorption maximum of a wavelength of 400 to 550 nm on the basis of UV-vis spectroscopy.
G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
G09F 9/30 - Dispositifs d'affichage d'information variable, dans lesquels l'information est formée sur un support, par sélection ou combinaison d'éléments individuels dans lesquels le ou les caractères désirés sont formés par une combinaison d'éléments individuels
An inkjet resin composition includes about 20% to about 30% by weight of 2-ethylhexyl acrylate, about 20% to about 30% by weight of 4-hydroxybutyl acrylate, about 40% to about 50% by weight of isodecyl acrylate, about 1% to about 10% by weight of urethane acrylate, about 1% to about 5% by weight of an initiator, about 1% to about 5% by weight of a silane coupling agent, and about 0.05% to about 1% by weight of a surface flow control additive.
C09J 133/06 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters ne contenant que du carbone, de l'hydrogène et de l'oxygène, l'atome d'oxygène faisant uniquement partie du radical carboxyle
C09J 4/06 - Adhésifs à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
A silicone resin includes a hollow silica structure and a silsesquioxane structure bonded to the hollow silica structure. A hydroxy group is included in an amount of 1.0 wt % or less relative to the total weight of the silicone resin, thereby being able to realize a low refractive index and an excellent coating property. A coating composition contains the silicone resin, and high solution stability is achieved even without a separate dispersion process. A product is cured from the coating composition.
An embodiment of the present invention provides a method for forming a hydrophobic photoresist thin film, comprising the steps of: injecting a first precursor and an oxygen source into a chamber in which a substrate is located, so as to form a thin film having hydrophilic groups included therein; and injecting a second precursor to modify the thin film having the hydrophilic groups included therein and form a modified layer, wherein the photoresist thin film formed thereby does not contain hydroxyl groups and thus exhibits hydrophobicity.
Disclosed is a photopolymerizable composition which improves optical properties as well as inkjet discharge properties. According to an aspect of the present invention, provided is a photopolymerizable composition comprising: a first monomer having a first photocurable functional group; a second monomer having a second photocurable functional group; and an initiator, wherein the first and second monomers satisfy Expression 1.
C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques
C09D 11/30 - Encres pour l'impression à jet d'encre
6.
PRECURSOR COMPOUND FOR THIN FILM FORMATION AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME
The present techniques provide a precursor compound of [chemical formula 1] for thin film formation and a preparation method therefor, wherein a photoresist layer can be prevented from undergoing pattern collapse by reducing the exposure time for pattern formation and minimizing the thickness of a lower layer with an etching selectivity similar to that of a photoresist or omitting the lower layer during post-exposure etching. (In [chemical formula 1], R0is Si, Sn, Ge, Sb, In, Hf, Zr, Ti, or Te; R13322, halogen, or phenyl; R2and R2' each are independently alkyl or alkoxy; R3 is amine or halogen; R is hydrogen or halogen; n is an integer of 1-7)
C07F 7/18 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si ainsi qu'une ou plusieurs liaisons C—O—Si
C07F 7/10 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si azotés
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p. ex. couches d'ancrage
7.
METHOD FOR FORMING AN INSULATING LAYER PATTERN, PRECURSORS USED IN PATTERN FORMATION AND A SEMICONDUCTOR DEVICE
A method for forming an insulating layer pattern includes providing a substrate comprising two or more different types of dielectric layer regions; and selectively forming a blocking layer on the substrate to include a first region and a second region. On the first region, the blocking layer is formed, whereas on the second region, no blocking layer is formed or the blocking layer is formed less than in the first region. The difference in water contact angle between the first region and the second region is within the range of 7 to 50 degrees.
H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux
C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
8.
3D SWITCHABLE DEVICE AND DISPLAY DEVICE COMPRISING THE SAME
A 3D switchable device includes a base substrate; a liquid crystal member including a first liquid crystal electrode disposed on the base substrate, a liquid crystal layer disposed on the first liquid crystal electrode, which selectively blocks or allows 2D polarization and 3D polarization; a lenticular lens member disposed on the liquid crystal member; and a cover substrate disposed on the lenticular lens member.
G02B 30/25 - Systèmes ou appareils optiques pour produire des effets tridimensionnels [3D], p. ex. des effets stéréoscopiques en fournissant des première et seconde images de parallaxe à chacun des yeux gauche et droit d’un observateur du type stéréoscopique utilisant des techniques de polarisation
G02F 1/1333 - Dispositions relatives à la structure
G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p. ex. par des couches d'alignement
A photoacid generator including an anion having a novel structure having a specific polar functional group such as a sulfonate group is provided. A photoresist composition comprising the same and a method for forming a photoresist pattern are also provided.
A salt compound includes an anion having a specific structure represented by Chemical Formula 1, and a cation represented by Chemical Formula 2. A quencher includes the salt compound; and a photoresist composition includes the salt compound.
A salt compound includes an anion having a specific structure represented by Chemical Formula 1, and a cation represented by Chemical Formula 2. A quencher includes the salt compound; and a photoresist composition includes the salt compound.
A conductive material slurry for a secondary battery electrode, which has low viscosity and low sheet resistance, includes a conductive material and a dispersant that disperses the conductive material. The dispersant includes a cellulose compound and a conductive polymer, and the amount of the conductive material is greater than 0 wt % and equal to or less than 2.5 wt % based on the total weight of the conductive material slurry for a secondary battery electrode.
H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p. ex. liants, charges
H01M 4/133 - Électrodes à base de matériau carboné, p. ex. composés d'intercalation du graphite ou CFx
H01M 4/134 - Électrodes à base de métaux, de Si ou d'alliages
H01M 4/136 - Électrodes à base de composés inorganiques autres que les oxydes ou les hydroxydes, p. ex. sulfures, séléniures, tellurures, halogénures ou LiCoFy
H01M 4/38 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'éléments simples ou d'alliages
H01M 4/48 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques
H01M 4/58 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs de composés inorganiques autres que les oxydes ou les hydroxydes, p. ex. sulfures, séléniures, tellurures, halogénures ou LiCoFyEmploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs de structures polyanioniques, p. ex. phosphates, silicates ou borates
H01M 4/587 - Matériau carboné, p. ex. composés au graphite d'intercalation ou CFx pour insérer ou intercaler des métaux légers
12.
GRAPHITE OXIDE, GRAPHENE OXIDE, AND REDUCED GRAPHENE OXIDE
Graphite oxide, graphene oxide, and reduced graphene oxide are provided. The graphene oxide includes 25 to 45 at % of oxygen (O) and is effectively exfoliated from graphite oxide, and can embody excellent powder conductivity after reduction.
A solar cell and a method of forming the same are provided. The solar cell includes a substrate, and a plurality of unit cells each including a first electrode, an active layer, and a second electrode. The unit cells are spaced from one another to expose the substrate. Accordingly, using an insulating structure or non-power generation area where the unit cells are spaced from one another such that the substrate is exposed, it is possible to minimize leakage current, and to increase power generation efficiency.
Provided is a display apparatus including a display panel having a display element therein, a cover window on the display panel, and an adhesive member between the display panel and the cover window and including a first adhesive layer and a second adhesive layer on the first adhesive layer, wherein the second adhesive layer includes a resin composition including an acrylamide-based compound, an ester-based compound, an acrylate-based compound, and an initiator, the ester-based compound including a first ester-based compound and a second ester-based compound, the first ester-based compound including a heterocycloalkyl group, and the second ester-based compound including an aryl group, and the acrylate-based compound including a urethane acrylate-based compound, a first acrylate-based compound, and a second acrylate-based compound, the first acrylate-based compound including a bicyclic compound, and the second acrylate-based compound including a linear alkyl group.
C08K 5/5313 - Composés phosphiniques, p. ex. R2=P(:O)OR'
C09J 133/08 - Homopolymères ou copolymères d'esters de l'acide acrylique
C09J 133/14 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters contenant des atomes d'halogène, d'azote, de soufre ou d'oxygène en plus de l'oxygène du radical carboxyle
C09J 133/26 - Homopolymères ou copolymères de l'acrylamide ou du méthacrylamide
15.
THINNER COMPOSITION AND METHOD OF TREATING SURFACE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE BY USING THE SAME
Samsung Electronics Co., Ltd. (République de Corée)
Dongjin Semichem Co., Ltd. (République de Corée)
Inventeur(s)
Kang, Yool
Kwon, Taehui
Kim, Dongjun
Suh, Ahram
Jung, Miyeon
Choi, Samjong
Kweon, Ohhwan
Kim, Minki
Kim, Jaehyun
Shin, Sunggun
Yoo, Seungryul
Lee, Heekyung
Abrégé
Provided are a thinner composition, which may be generally used for an extreme ultraviolet (EUV) photoresist as well as KrF and ArF photoresists and exhibits improved performance in reduced resist coating (RRC) and edge bead removal (EBR), and which has an excellent pipe cleaning capability, and a method of treating a substrate surface by using the thinner composition. The thinner composition includes a C2-C4 alkylene glycol C1-C4 alkyl ether acetate, a C2-C3 alkylene glycol C1-C4 alkyl ether, and a cycloketone.
The present invention relates to a composition for preparing an alkali-soluble resin, an alkali-soluble resin prepared therefrom, a photosensitive resin composition containing the alkali-soluble resin, an insulating film prepared from the photosensitive resin composition, and a display device comprising the insulating film, wherein compounds for preparing the alkali-soluble resin include dicarboxylic acid anhydride, tetracarboxylic acid dianhydride, and diamine, and the alkali-soluble resin has a structural unit derived from the dicarboxylic acid anhydride at one end or both ends thereof, and contains 5-40 mol% of dicarboxylic acid anhydride with respect to a total 100 mol% of the diamine, the tetracarboxylic acid dianhydride, and the dicarboxylic acid anhydride.
A novel compound for a capping layer, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a capping layer is represented by Formula 1 below:
A novel compound for a capping layer, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a capping layer is represented by Formula 1 below:
C07C 233/58 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
C07C 211/53 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons du squelette carboné ayant des groupes amino liés à un seul cycle aromatique à six chaînons l'atome d'azote d'au moins un des groupes amino étant lié de plus à un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino
C07C 233/59 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'halogène ou par des groupes nitro ou nitroso
C07C 233/60 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'oxygène liés par des liaisons simples
C07C 233/62 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino
C07C 255/46 - Nitriles d'acides carboxyliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons à des atomes de carbone de cycles non condensés
C07C 323/40 - Y étant un atome d'hydrogène ou de carbone
C07D 211/16 - Composés hétérocycliques contenant des cycles pyridiques hydrogénés, non condensés avec d'autres cycles avec uniquement des atomes d'hydrogène et de carbone liés directement à l'atome d'azote du cycle ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux ne contenant que des atomes de carbone et d'hydrogène liés aux atomes de carbone du cycle l'atome d'azote du cycle étant acylé
C07D 295/32 - Atomes d'azote acylés par des acides carboxyliques ou par l'acide carbonique, ou par leurs analogues soufrés ou azotés
C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si
H10K 50/858 - Dispositifs pour extraire la lumière des dispositifs comprenant des moyens de réfraction, p. ex. des lentilles
18.
NOVEL COMPOUND FOR LIGHT EMITTING DEVICE AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING SAME
A novel compound for a light emitting device, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a light emitting device is represented by Formula 1 below:
A novel compound for a light emitting device, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a light emitting device is represented by Formula 1 below:
H10K 85/60 - Composés organiques à faible poids moléculaire
C07C 233/58 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
C07C 255/46 - Nitriles d'acides carboxyliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons à des atomes de carbone de cycles non condensés
C07C 323/22 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons doubles, liés au même squelette carboné
C07D 295/215 - Radicaux dérivés d'analogues azotés de l'acide carbonique
C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si
C09K 11/06 - Substances luminescentes, p. ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances organiques luminescentes
H10K 50/858 - Dispositifs pour extraire la lumière des dispositifs comprenant des moyens de réfraction, p. ex. des lentilles
H10K 85/40 - Composés organosiliciés, p. ex. pentacène TIPS
19.
NOVEL COMPOUND FOR LIGHT EMITTING DEVICE AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING SAME
A novel compound for a light emitting device, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a light emitting device is represented by Formula 1 below:
A novel compound for a light emitting device, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a light emitting device is represented by Formula 1 below:
The present invention relates to a photocurable composition, a cured film comprising a cured product thereof, and an optical member and a display device comprising the cured film, the photocurable composition having controlled transmittance degradation and haze increase while exhibiting a low-refractive property after curing.
C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
21.
POSITIVE ELECTRODE ACTIVE MATERIAL COMPOSITE FOR BATTERY, SECONDARY BATTERY ELECTRODE, AND SECONDARY BATTERY
The present disclosure relates to a positive electrode active material composite which is for a battery and is coated with reduced graphene oxide, and specifically, to a positive electrode active material composite comprising: a core portion including a positive electrode active material; and a shell portion surrounding the core portion. The shell portion includes at least one layer of reduced graphene oxide (rGO), thus making it possible to obtain a secondary battery having excellent electronic conductivity and energy density.
A novel compound for a capping layer, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a capping layer is represented by Formula 1 below:
A novel compound for a capping layer, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a capping layer is represented by Formula 1 below:
C07D 405/14 - Composés hétérocycliques contenant à la fois un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle et un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
C07D 307/81 - Radicaux substitués par des atomes d'azote ne faisant pas partie d'un radical nitro
C07D 409/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
C07D 413/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'azote et d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
H10K 50/858 - Dispositifs pour extraire la lumière des dispositifs comprenant des moyens de réfraction, p. ex. des lentilles
C07C 233/58 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
C07D 213/75 - Radicaux amino ou imino, acylés par un acide carboxylique, par l'acide carbonique ou par leurs analogues du soufre ou de l'azote, p. ex. des carbamates
C07D 251/18 - Composés hétérocycliques contenant des cycles triazine-1, 3, 5 non condensés avec d'autres cycles comportant trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des atomes d'hydrogène ou de carbone liés directement à au moins un atome de carbone du cycle à un seul atome de carbone du cycle avec des atomes d'azote liés directement à deux autres atomes de carbone du cycle, p. ex. guanamines
C07D 271/113 - Oxadiazoles-1, 3, 4Oxadiazoles-1, 3, 4 hydrogénés avec des atomes d'oxygène, de soufre ou d'azote, liés directement aux atomes de carbone du cycle, les atomes d'azote ne faisant pas partie d'un radical nitro
The present invention relates to a composition for colored coating containing a silsesquioxane polymer binder. The composition according to the present invention comprises a silsesquioxane polymer binder having a reactive functional group, a compatible functional group, and a colorant affinity group, and thus can maintain excellent heat resistance of the silsesquioxane polymer binder and physical properties of a coating film as well as enhance the adhesive strength and dispersion stability between a substrate and a coating layer, which were difficult to achieve by conventional silsesquioxane polymer binders. Furthermore, the present invention relates to a colored film and a display panel each comprising a coating layer formed of the silsesquioxane polymer binder.
Provided in the present invention are a foaming agent additive for reducing formamide, and a foaming agent composition using same, the additive significantly reducing the concentration of formamide generated during foaming of ADCA, and enabling the concentration of formamide remaining in a final product foaming agent to be reduced.
C08J 9/00 - Mise en œuvre de substances macromoléculaires pour produire des matériaux ou objets poreux ou alvéolairesLeur post-traitement
C08J 9/10 - Mise en œuvre de substances macromoléculaires pour produire des matériaux ou objets poreux ou alvéolairesLeur post-traitement utilisant des gaz de gonflage produits par un agent de gonflage introduit au préalable par un agent chimique de gonflage dégageant de l'azote
26.
CARBON NANOTUBE DISPERSION SOLUTION, SLURRY FOR MANUFACTURING ELECTRODE, AND SECONDARY BATTERY
The present invention relates to: a carbon nanotube dispersion solution; a slurry for manufacturing an electrode, containing carbon nanotubes; and a secondary battery. The performance of a secondary battery comprising carbon nanotubes can be improved by controlling the particle size and amount of the carbon nanotubes.
An embodiment of the present invention provides an electrochromic device comprising a substrate and electrochromic layers, wherein the electrochromic layers include an oxidative color change layer and a reductive color change layer, and the oxidative color change layer and the reductive color change layer are arranged in contact with each other in at least one region.
G02F 1/1514 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur un effet électrochromique caractérisés par le matériau électrochromique, p. ex. par le matériau électro-déposé
28.
COATING COMPOSITION CONTAINING SILSESQUIOXANE POLYMER, AND FLEXIBLE DISPLAY FILM
The present invention relates to a coating composition for a flexible display, a coating film manufactured therefrom, and a display panel, wherein the coating composition contains a silsesquioxane polymer and can provide a film with excellent elongation and bending durability.
G09F 9/30 - Dispositifs d'affichage d'information variable, dans lesquels l'information est formée sur un support, par sélection ou combinaison d'éléments individuels dans lesquels le ou les caractères désirés sont formés par une combinaison d'éléments individuels
29.
ABRASIVE PARTICLES AND POLISHING SLURRY COMPOSITION USING SAME
The present invention provides surface-modified abrasive particles and a polishing slurry composition comprising same, the abrasive particles having improved polishing performance for an insulating film and a metal film and having high-temperature stability by controlling, to be in a specific range, the content ratio of a modifier to silica during abrasive particle surface modification, the content ratio of carbon of the modifier to silica in a slurry after centrifugation, or the difference in isoelectric point (IEP) of modified abrasive particles in the slurry before and after the centrifugation.
One embodiment of the present invention provides a curable composition comprising a photocurable monomer, a photocuring initiator, and a silicon-based additive, wherein the silicon-based additive comprises a photocurable substituent and an aliphatic substituent, and the ratio of the photocurable substituent to the aliphatic substituent is 2:6 to 6:2.
C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
C08F 2/44 - Polymérisation en présence d'additifs, p. ex. plastifiants, matières colorantes, charges
C08K 5/5415 - Composés contenant du silicium contenant de l'oxygène contenant au moins une liaison Si—O
C09D 4/00 - Compositions de revêtement, p. ex. peintures, vernis ou vernis-laques, à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable
C09D 7/63 - Adjuvants non macromoléculaires organiques
31.
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE
A photosensitive resin composition not only has excellent optical density and light resistance, but also has improved transmittance, photoreactivity, and sensitivity. Thus, it can be applicable to form a pixel defining layer pattern of various display devices, such as an organic electroluminescent device. A display device is manufactured using the same.
C09D 4/06 - Compositions de revêtement, p. ex. peintures, vernis ou vernis-laques, à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
A photosensitive resin composition includes an alkali-soluble resin including at least one structure selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic ester, and polyimide; two or more thermal crosslinkable compounds; a photosensitizer; and a solvent. The photosensitive resin composition has excellent sensitivity, film residual rate, adhesive force, chemical resistance and heat resistance; and a display device includes a component cured from such a photosensitive resin composition.
Provided is a polymer compound for forming a resist underlayer film that can lower the optimal exposure amount of a resist film without affecting the shape of the resist pattern film after development. According to one aspect, provided is a polymer compound for forming a resist underlayer film, the compound comprising a repeating unit represented by general formula 1.
C08F 220/28 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle ne contenant pas de cycles aromatiques dans la partie alcool
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p. ex. couches d'ancrage
34.
COMPOUND FOR CAPPING LAYER AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING SAME
C07C 233/65 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
C07C 233/10 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone acycliques ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués avec des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone d'un squelette carboné non saturé contenant des cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
C07C 233/66 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'halogène ou par des groupes nitro ou nitroso
C07C 233/67 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'oxygène liés par des liaisons simples
C07C 233/77 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino
C07D 401/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 407/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 409/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 413/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'azote et d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 417/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre et d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si
H10K 50/858 - Dispositifs pour extraire la lumière des dispositifs comprenant des moyens de réfraction, p. ex. des lentilles
H10K 85/60 - Composés organiques à faible poids moléculaire
35.
COMPOUND FOR CAPPING LAYER AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING SAME
C07C 233/65 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
C07C 233/58 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
C07C 233/66 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'halogène ou par des groupes nitro ou nitroso
C07C 233/74 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'oxygène liés par des liaisons simples avec le radical hydrocarboné substitué lié à l'atome d'azote du groupe carboxamide par un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons
C07C 233/79 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino avec le radical hydrocarboné substitué lié à l'atome d'azote du groupe carboxamide par un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons
C07C 255/46 - Nitriles d'acides carboxyliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons à des atomes de carbone de cycles non condensés
C07C 321/22 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures ayant des groupes thio liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
C07D 211/16 - Composés hétérocycliques contenant des cycles pyridiques hydrogénés, non condensés avec d'autres cycles avec uniquement des atomes d'hydrogène et de carbone liés directement à l'atome d'azote du cycle ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux ne contenant que des atomes de carbone et d'hydrogène liés aux atomes de carbone du cycle l'atome d'azote du cycle étant acylé
C07D 239/28 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazine-1, 3 ou diazine-1, 3 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles comportant au moins trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, liés directement aux atomes de carbone du cycle
C07D 251/24 - Composés hétérocycliques contenant des cycles triazine-1, 3, 5 non condensés avec d'autres cycles comportant trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des atomes d'hydrogène ou de carbone liés directement à au moins un atome de carbone du cycle à trois atomes de carbone du cycle
C07D 295/32 - Atomes d'azote acylés par des acides carboxyliques ou par l'acide carbonique, ou par leurs analogues soufrés ou azotés
C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si
H10K 50/858 - Dispositifs pour extraire la lumière des dispositifs comprenant des moyens de réfraction, p. ex. des lentilles
36.
METHOD FOR FORMING INSULATING FILM PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
The present invention provides a method for forming an insulating film pattern, comprising the steps of: providing a substrate including two or more different types dielectric film areas; selectively forming a barrier film on the substrate so as to include an a first area in which a barrier film is formed and a second area in which a barrier film is not formed or a barrier film is relatively less formed; selectively forming an insulating film on the second area; and etching a portion of the upper part of the insulating film.
H01L 21/32 - Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes pour former des couches isolantes en surface, p. ex. pour masquer ou en utilisant des techniques photolithographiquesPost-traitement de ces couchesEmploi de matériaux spécifiés pour ces couches en utilisant des masques
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
One embodiment of the present invention provides a membrane electrode assembly comprising a first electrode unit, a second electrode unit, and an electrolyte membrane, each electrode unit comprising a catalyst layer and a gas diffusion layer, and the catalyst layer comprising platinum and a carbon support, wherein the platinum load in the electrode unit is 1.5-5 mg/cm2.
Provided is a conductive slurry for a secondary battery electrode that reduces the viscosity of a conductive slurry while simultaneously reducing the surface resistance of a film made from the conductive slurry. One embodiment of the present invention provides a conductive slurry for a secondary battery electrode comprising: a conductive material; and a dispersant, wherein the dispersant comprises a cellulose-based compound and an organic acid salt.
C07C 233/63 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes carboxyle
C07C 237/26 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des groupes amino ayant l'atome de carbone d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné d'un cycle faisant partie d'un système cyclique condensé formé par au moins quatre cycles, p. ex. tétracycline
C07C 257/16 - Composés contenant des groupes carboxyle, l'atome d'oxygène, lié par une liaison double, d'un groupe carboxyle étant remplacé par un atome d'azote lié par une liaison double, cet atome d'azote n'étant pas lié de plus à un atome d'oxygène, p. ex. imino-éthers, amidines avec remplacement de l'autre atome d'oxygène du groupe carboxyle par des atomes d'azote, p. ex. amidines ayant des atomes de carbone de groupes amidino liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
C07C 323/62 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des groupes carboxyle liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné
C07C 327/46 - Amides d'acides thiocarboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes thiocarboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
C07D 401/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 407/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 409/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 413/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'azote et d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 417/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre et d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 519/00 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs systèmes de plusieurs hétérocycles déterminants condensés entre eux ou condensés avec un système carbocyclique commun non prévus dans les groupes ou
H10K 50/858 - Dispositifs pour extraire la lumière des dispositifs comprenant des moyens de réfraction, p. ex. des lentilles
H10K 50/858 - Dispositifs pour extraire la lumière des dispositifs comprenant des moyens de réfraction, p. ex. des lentilles
C07C 233/58 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
C07C 233/60 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'oxygène liés par des liaisons simples
C07C 255/46 - Nitriles d'acides carboxyliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons à des atomes de carbone de cycles non condensés
C07C 323/40 - Y étant un atome d'hydrogène ou de carbone
C07D 209/08 - IndolesIndoles hydrogénés avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés directement aux atomes de carbone de l'hétérocycle
This invention relates to a positive photosensitive resin composition that includes a siloxane copolymer of two kinds of reactive silane compounds with specific structures wherein residual impurities such as unreacted monomers and catalysts are minimized, and a UV absorber including one or more kinds of phenol hydroxyl groups capable of crosslinking and an alkoxy group. Accordingly, the resin composition exhibits excellent performances such as sensitivity, resolution, and degree of planarization, and also has excellent weatherability and UV absorbance, thereby providing excellent panel reliability.
A curable composition is provided. The curable composition can eliminate or minimize the generation of bubbles inside the cured product after the initiation reaction of the curable monomer, prevent expansion of a material when used to encapsulate a device, and provide a uniform cured product to solve the problem of separation between the upper and lower substrates bonded together, thereby improving device encapsulation performance.
C08F 120/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
C08F 122/20 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
C09D 133/14 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters contenant des atomes d'halogène, d'azote, de soufre ou d'oxygène en plus de l'oxygène du radical carboxyle
C09D 135/02 - Homopolymères ou copolymères d'esters
The present disclosure relates to a photo-curable composition, a cured product thereof, and an optical member and a display device comprising same. The photo-curable composition has excellent low refractive index, light transmittance, and low haze characteristics by comprising a first olefinic monomer containing fluorine, a second olefinic monomer having an absolute viscosity of 7 cP or less at 25° C., a photo-polymerization initiator, and an amine compound.
C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
C08F 220/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques
44.
ORGANIC LAYER POLISHING COMPOSITION AND METHOD FOR POLISHING USING SAME
The present disclosure relates to an organic film polishing composition in which a high polishing speed is maintained not only for polymers, an SOC, and an SOH, but also for organic films strongly bonded by covalent bonds such as an amorphous carbon layer (ACL) or a diamond-like carbon (DLC) by including a polishing accelerator containing both a hydrophilic group and a hydrophobic group, and a polishing method using the same.
Provided is a cured film having a novel parameter derived therefor so as to improve device reliability. One embodiment of the present invention provides a cured film made by curing a photosensitive resin composition, wherein the photosensitive resin composition comprises an alkali-soluble resin and a photoactive compound (PAC), and, when the cured film is subjected to purge-and-trap analysis at 250°C for 60 minutes, phenolic gas accounts for 30% (v/v) or less of the total outgassing.
A positive-type photosensitive resin composition, an insulating film made from the same, and a display device including such insulating film are provided. The positive photosensitive resin composition is excellent in sensitivity and has excellent chemical resistance, heat resistance, and hygroscopicity by including a polymer containing a hydroxyl group.
The present invention relates to a display device and a photo-sensitive resin composition that can be applied thereto, and the photo-sensitive resin composition has excellent sensitivity, coatability, bubble defoaming properties, liquid repellency in an exposed portion, and spreadability in a non-exposed portion, etc., and may form an optical member exhibiting improved optical properties, thereby being suitable for forming partition walls for various display devices such as OLEDs.
H10K 59/38 - Dispositifs spécialement adaptés à l'émission de lumière multicolore comprenant des filtres de couleur ou des supports changeant de couleur [CCM]
G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
G03F 7/033 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p. ex. polymères vinyliques
G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
C08F 265/06 - Polymérisation d'esters acryliques ou méthacryliques sur des polymères de ces esters
C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
C08F 2/44 - Polymérisation en présence d'additifs, p. ex. plastifiants, matières colorantes, charges
Provided is an anode active material, of which conductivity and durability are enhanced by repairing damage to silicon crystals during a secondary granulation process. An embodiment of the present invention provides an anode active material comprising: secondary silicon particles each resulting from aggregation of primary silicon particles; and a carbon layer on the secondary silicon particles, wherein formula 1 is satisfied in the differential capacity plot for a half-cell comprising the anode active material.
H01M 4/38 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'éléments simples ou d'alliages
H01M 4/36 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs
H01M 4/134 - Électrodes à base de métaux, de Si ou d'alliages
H01M 10/0525 - Batteries du type "rocking chair" ou "fauteuil à bascule", p. ex. batteries à insertion ou intercalation de lithium dans les deux électrodesBatteries à l'ion lithium
H01M 4/02 - Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif
50.
PRECURSOR COMPOUND FOR FORMING METAL FILM AND METAL FILM USING SAME
The present invention relates to a precursor compound, containing molybdenum, for forming a metal film and a metal film using same, wherein the precursor compound has excellent reactivity with a substrate or a reactive gas and high volatility and can form a metal thin film with a low content of impurities in a wide temperature range, especially, even at a low temperature.
C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
C23C 16/18 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique à partir de composés organométalliques
A conductive material pre-dispersed slurry for a secondary battery electrode includes: a conductive material; a dispersant for dispersing the conductive material; and a solvent mixed with the conductive material and the dispersant. The dispersant includes a cellulose-based compound and a vinyl-based or acrylic compound, and the cellulose-based compound and the vinyl-based or acrylic compound in the dispersant have a weight ratio of about 25:1 to 1:25.
C09D 7/80 - Procédés pour l'incorporation d'ingrédients
C09D 139/06 - Homopolymères ou copolymères de N-vinylpyrrolidones
C09D 129/04 - Alcool polyvinyliqueHomopolymères ou copolymères partiellement hydrolysés d'esters d'alcools non saturés avec des acides carboxyliques saturés
C09D 133/02 - Homopolymères ou copolymères d'acidesLeurs sels métalliques ou d'ammonium
C09D 133/26 - Homopolymères ou copolymères de l'acrylamide ou du méthacrylamide
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. (République de Corée)
Dongjin Semichem Co., Ltd. (République de Corée)
Inventeur(s)
Kang, Miyeong
Hong, Sukkoo
Kim, Hyereun
Kim, Jihyun
Kim, Hyunjin
Roh, Hyojung
Park, Jongkyoung
Lee, Jungyoul
Abrégé
A polymer having a repeating unit represented by Formula 1:
A polymer having a repeating unit represented by Formula 1:
wherein each of R1, R2, and R3 is independently selected from a substituted or unsubstituted C1-C6 chain-like saturated or unsaturated hydrocarbon group having 0 to 2 first heteroatoms or a substituted or unsubstituted C3-C6 cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group having 0 to 2 first heteroatoms, wherein at least one of R1, R2, and R3 is a hydrocarbon group substituted with a fluorine atom. R4 is a C1-C10 chain-like saturated or unsaturated hydrocarbon group having 0 to 2 second heteroatoms or a C3-C10 cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group having 0 to 2 second heteroatoms. R5 is a C1-C10 chain-like saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 6 third heteroatoms or a C3-C10 cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 6 third heteroatoms.
G03F 7/09 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires
C08G 18/79 - Polyisocyanates ou polyisothiocyanates contenant des hétéro-atomes autres que l'azote, l'oxygène ou le soufre de l'isocyanate ou de l'isothiocyanate de l'azote caractérisés par le polyisocyanate utilisé, celui-ci contenant des groupes formés par oligomérisation d'isocyanates ou d'isothiocyanates
C08G 18/38 - Composés de bas poids moléculaire contenant des hétéro-atomes autres que l'oxygène
G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
Provided is a photosensitive resin composition capable of forming, during pattern formation in a low-temperature curing process, a forward-tapered shape and implementing a cured film with a high hardness. One embodiment of the present invention provides a photosensitive resin composition comprising 100 parts by weight of an alkali-soluble resin, 2-40 parts by weight of an initiator, 2-100 parts by weight of a multifunctional compound, a plasticizer in an amount of greater than 1 part by weight and less than or equal to 30 parts by weight, and an epoxy-based additive in an amount of greater than 0 part by weight and less than or equal to 15 parts by weight.
G03F 7/028 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des substances accroissant la photosensibilité, p. ex. photo-initiateurs
G03F 7/033 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p. ex. polymères vinyliques
G03F 7/105 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des substances, p. ex. des indicateurs, pour obtenir des images visibles
A solar cell and a method for forming the solar cell are provided. The solar cell comprises: a substrate; and a plurality of unit cells each including a first electrode, an active layer, and a second electrode, wherein the unit cells are spaced apart from each other to expose the substrate. The present invention has an insulating structure or a non-power generation region in which the unit cells are spaced apart from each other to expose the substrate, thereby minimizing leakage current and increasing the power generation efficiency of a photovoltaic device.
H10K 30/00 - Dispositifs organiques sensibles au rayonnement infrarouge, à la lumière, au rayonnement électromagnétique de plus courte longueur d'onde ou au rayonnement corpusculaire
The present invention relates to graphite oxide, graphene oxide, and reduced graphene oxide and, more specifically, to graphite oxide, graphene oxide, and reduced graphene oxide in which graphene oxide includes 25 to 45 at% of oxygen (O) and is effectively exfoliated from graphite oxide, and can embody excellent powder conductivity after reduction.
A compound with enhanced etching resistance, gap-filling properties, and heat resistance includes a repeating unit represented by Formula 1.
A compound with enhanced etching resistance, gap-filling properties, and heat resistance includes a repeating unit represented by Formula 1.
The present disclosure relates to a thermosetting composition, an optical member formed therefrom, and a display device, the composition comprising a thermosetting resin, gas-containing particles and a monomer or an oligomer having two or more thermosetting functional groups, thereby having optical effects such as a low refractive index of 1.40 or less on light with a wavelength of 450 nm, high light transmittance, and low haze.
The present invention relates to graphite oxide, graphene oxide, and reduced graphene oxide and, more specifically, to graphite oxide, graphene oxide, and reduced graphene oxide in which graphene oxide includes 25 to 45 at% of oxygen (O) and is effectively exfoliated from graphite oxide, and can embody excellent powder conductivity after reduction.
The present invention provides a method for formation of an insulation film pattern, the method comprising the steps of: providing a substrate including two or more different types of dielectric film regions; selectively forming a blocking film on the substrate to include a first region where a blocking film is formed and a second region where no or relatively little blocking film is formed, whereby a difference in water contact angle between the first region and the second region ranges from 7 to 50 degrees (Deg).
C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
60.
SILICONE RESIN, COATING COMPOSITION COMPRISING SAME, AND CURED PRODUCT THEREOF
The present invention relates to a silicone resin, a coating composition comprising same, and a cured product thereof and, more particularly, to a silicone resin, a coating composition comprising same, and a cured product thereof, wherein the silicone resin comprises a hollow silica structure and a silsesquioxane structure bonded to the hollow silica structure, contains 1.0% by weight or less of a hydroxyl group with respect to the total weight of the silicone resin, and can realize a low refractive index, excellent coating properties, and high solution stability without a separate dispersion process.
The present invention provides: an adhesive composition including a curable resin, an initiator, a getter, and a cross-linking agent; a cured body and a dam structure, in which the adhesive composition is cured; and a display device including the dam structure.
C09J 163/00 - Adhésifs à base de résines époxyAdhésifs à base de dérivés des résines époxy
C09J 135/00 - Adhésifs à base d'homopolymères ou de copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chacun ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un radical carboxyle, et contenant au moins un autre radical carboxyle dans la molécule, ou leurs sels, anhydrides, esters, amides, imides ou nitrilesAdhésifs à base de dérivés de tels polymères
C09J 11/04 - Additifs non macromoléculaires inorganiques
C09J 11/06 - Additifs non macromoléculaires organiques
The present invention provides a three-dimensional image-varying device and a display device comprising same, the three-dimensional image-varying device comprising: a base material; a liquid crystal unit including a first liquid crystal electrode on the base material and a liquid crystal layer which is on the first liquid crystal electrode and which selectively blocks 2D polarization and 3D polarization; a lenticular lens unit on the liquid crystal unit; and a cover material on the lenticular lens unit.
G02B 30/27 - Systèmes ou appareils optiques pour produire des effets tridimensionnels [3D], p. ex. des effets stéréoscopiques en fournissant des première et seconde images de parallaxe à chacun des yeux gauche et droit d’un observateur du type autostéréoscopique comprenant des réseaux lenticulaires
G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
G06F 3/041 - Numériseurs, p. ex. pour des écrans ou des pavés tactiles, caractérisés par les moyens de transduction
H04N 13/305 - Reproducteurs d’images pour visionnement sans avoir recours à des lunettes spéciales, c.-à-d. utilisant des affichages autostéréoscopiques utilisant des lentilles lenticulaires, p. ex. dispositions de lentilles cylindriques
A positive photosensitive resin composition and, more specifically, a positive photosensitive resin composition includes an alkali-soluble polymer resin comprising a polyimide precursor comprising a specific chemical structure; a quinone diazide compound; and a solvent. The positive photosensitive resin composition is a suitable matter for next-generation flexible displays and semiconductor packages.
A polyimide-based composition includes a polyimide precursor and a solvent, in which the polyimide precursor includes repeating units represented by Chemical Formula 1 to 3. A polyimide film is also made from the composition.
A polyimide-based composition includes a polyimide precursor and a solvent, in which the polyimide precursor includes repeating units represented by Chemical Formula 1 to 3. A polyimide film is also made from the composition.
Provided is a conductive agent slurry for a secondary battery electrode, which has low viscosity and low sheet resistance. The conductive agent slurry for a secondary battery electrode, according to the present invention, comprises a conductive agent and a dispersant that disperses the conductive agent, wherein the dispersant comprises a cellulose compound and a conductive polymer, and the amount of the conductive agent is more than 0 wt% and not more than 2.5 wt% with respect to the total weight of the conductive agent slurry for a secondary battery electrode.
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
Kim, Heesuk
Lee, Goo Hwa
Yoo, Jaehong
Park, Jong Dai
Kim, Jae Hyun
Yun, Juyoung
Lee, Jisung
Choi, Seonung
Lee, Jae-Hwi
Ahn, Bong Soo
Choi, Sam-Jong
Abrégé
A method of polishing a substrate having amorphous carbon layer deposited thereon removes protrusions on the ACL surface by using a soft pad with a low hardness and a polishing slurry containing non-spherical modified fumed silica with high friction force with the surface.
The present invention relates to an adhesive composition with excellent transparency and, more specifically, to an adhesive composition, which has excellent adhesion retention while realizing high transparency and low turbidity, through an epoxy-based resin, a cationic initiator, and a low getter content, and thus can be applied to a bezel-less display.
C09J 4/06 - Adhésifs à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
C09J 11/04 - Additifs non macromoléculaires inorganiques
The present invention relates to an adhesive composition having excellent adhesion and adhesion reliability and, more particularly, to an adhesive composition having excellent adhesion and adhesion reliability, comprising: a first resin containing a cation-curable functional group as a heterogeneous resin; and a second resin containing a radical-curable functional group.
C09J 4/06 - Adhésifs à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
The present invention relates to: a photoacid generator having a novel structure including an anion having a particular polar functional group such as a sulfonate group; a photoresist composition comprising same; and a photoresist pattern formation method.
C07C 323/20 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné avec des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés à des atomes de carbone du même cycle aromatique à six chaînons non condensé
C07C 323/21 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné avec l'atome de soufre du groupe thio lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons faisant partie d'un système cyclique condensé
70.
SALT COMPOUND, AND QUENCHER AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME
The present invention relates to: a salt compound comprising a negative ion having a specific structure represented by chemical formula 1, and a positive ion represented by chemical formula 2; a quencher including the salt compound; and a photoresist composition including the salt compound.
C07C 311/06 - Sulfonamides ayant des atomes de soufre de groupes sulfonamide liés à des atomes de carbone acycliques d'un squelette carboné acyclique saturé ayant les atomes d'azote des groupes sulfonamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone acycliques à des atomes de carbone acycliques de radicaux hydrocarbonés substitués par des groupes carboxyle
C07C 311/14 - Sulfonamides ayant des atomes de soufre de groupes sulfonamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
C07C 311/17 - Sulfonamides ayant des atomes de soufre de groupes sulfonamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes sulfonamide lié à des atomes d'hydrogène ou à un atome de carbone acyclique à un atome de carbone acyclique d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'oxygène liés par des liaisons simples
C07C 321/28 - Sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures ayant des groupes thio liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons
C07C 323/22 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons doubles, liés au même squelette carboné
C07C 323/66 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes de soufre, ne faisant pas partie de groupes thio, liés au même squelette carboné contenant des atomes de soufre de groupes sulfo, sulfo estérifiés ou halogénosulfonyle, liés au squelette carboné
C07D 319/20 - Dioxanes-1, 4Dioxanes-1, 4 hydrogénés condensés avec des carbocycles ou avec des systèmes carbocycliques condensés avec un cycle à six chaînons avec des substituants liés à l'hétérocycle
A device for producing an azo compound includes a reaction unit in which a first solution comprising a hydrazo compound and at least one type of MaXb; a negative electrode disposed to be in direct contact with the hydrazo compound inside the reaction unit; and a positive electrode disposed inside the reaction unit so as to be in contact with the solution. X is a halogen element, M is at least one selected from the group consisting of hydrogen, Li, Na, K, Mg, Ca, Mn, Fe, Ni, Cu, Ag, Zn, Sn, Zr, and Ti, or at least one selected from the group consisting of a primary ammonium ion, a secondary ammonium ion, and a tertiary ammonium ion, H is hydrogen, and a and b are each independently any one integer between 1 and 4.
C25B 3/09 - Composés contenant au moins un atome d’azote
C08J 9/10 - Mise en œuvre de substances macromoléculaires pour produire des matériaux ou objets poreux ou alvéolairesLeur post-traitement utilisant des gaz de gonflage produits par un agent de gonflage introduit au préalable par un agent chimique de gonflage dégageant de l'azote
C07C 245/04 - Composés azo, c.-à-d. composés ayant les valences libres de groupes —N=N— attachées à des atomes différents, p. ex. diazohydroxydes avec des atomes d'azote de groupes azo liés à des atomes de carbone acycliques ou à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
C25B 3/07 - Composés contenant au moins un atome d’oxygène
A method for preparing an azo compound includes a first step for producing an Xb molecule by electrolyzing, in a reaction system, a first solution including a hydrazo compound and at least one type of MaXb; a second step for oxidizing the hydrazo compound with the generated Xb molecule to obtain a second solution including an azo compound, MaXb, and HX; a third step for discharging the second solution outside the reaction system, and separating therefrom a third solution including MaXb and HX to obtain a solid azo compound; and a fourth step for introducing the third solution and an additional hydrazo compound equivalent to the hydrazo compound into the reaction system, and electrolyzing a fourth solution including the additional hydrazo compound, MaXb, and HX to produce an Xb molecule.
C07C 281/20 - Dérivés d'acide carbonique contenant des groupes fonctionnels couverts par les groupes , dans lesquels au moins un atome d'azote de ces groupes fonctionnels est lié de plus à un autre atome d'azote ne faisant pas partie d'un groupe nitro ou nitroso les deux atomes d'azote des groupes fonctionnels étant liés entre eux par une liaison double, p. ex. azoformamide
73.
CURABLE COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE INCLUDING DAM STRUCTURE FABRICATED THEREFROM
Disclosed are a curable composition, a dam structure fabricated therefrom, and a display device including the dam structure. The curable composition disclosed in the present invention includes: an acrylate-based compound in the form of at least one of a monomer and an oligomer; a urethane diacrylate-based compound having a repeating unit bearing a urethane group; a curing initiator; and a getter. The curable composition may further include a butadiene urethane diacrylate-based compound. The curable composition may further include a butadiene urethane diacrylate-based compound.
C08F 265/06 - Polymérisation d'esters acryliques ou méthacryliques sur des polymères de ces esters
C08F 220/28 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle ne contenant pas de cycles aromatiques dans la partie alcool
C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
The present disclosure relates to a slurry composition for a secondary battery electrode, and a secondary battery electrode manufactured using same. The slurry composition includes a conductive material including a linear carbon material and a point-type carbon material, a dispersant, and an organic solvent. By adjusting the average size and content of the conductive material in the slurry such that two peaks within a specific range appear in a particle size analysis, the solubility and dispersibility of the carbon-based conductive material are improved, and thus the electrical properties of the electrode are remarkably improved.
The present invention relates to a dual curable composition and a cured product thereof and, more specifically, to: a dual curable composition which, by comprising a compound containing a thiol group and an acrylate group, an acrylic monomer or oligomer, and a photopolymerization initiator, can be both photocured and thermally cured, and which has excellent mechanical properties, heat resistance and light resistance after curing, and has reliability that is stably maintained for a long period of time; and a cured product thereof.
The present disclosure relates to a slurry composition for a secondary battery electrode, and a secondary battery electrode manufactured using the same. The slurry composition includes dispersants of specific components, a carbon-based conductive material, and an organic solvent. The slurry composition has an advantage in that the stability of the carbon-based conductive material is excellent. In addition, due to the presence of a polar functional group in the dispersant, the surface treatment effect for the carbon-based conductive material is excellent, and thus the dispersibility of the carbon-based conductive material is remarkably improved.
The present invention relates to a positive electrode active material composite which is for a battery and is coated with reduced graphene oxide, and specifically, to a positive electrode active material composite comprising: a core portion including a positive electrode active material; and a shell portion surrounding the core portion, wherein the shell portion includes at least one layer of reduced graphene oxide (rGO), thus making it possible to obtain a secondary battery having excellent electronic conductivity and energy density.
H01M 4/02 - Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif
H01M 4/36 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs
H01M 4/505 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques de manganèse d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes contenant du manganèse pour insérer ou intercaler des métaux légers, p. ex. LiMn2O4 ou LiMn2OxFy
H01M 4/525 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques de nickel, de cobalt ou de fer d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes contenant du fer, du cobalt ou du nickel pour insérer ou intercaler des métaux légers, p. ex. LiNiO2, LiCoO2 ou LiCoOxFy
H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p. ex. liants, charges
The present invention relates to a positive electrode active material composite which is for a battery and is coated with reduced graphene oxide, and specifically, to a positive electrode active material composite comprising: a core portion including a positive electrode active material; and a shell portion surrounding the core portion, wherein the shell portion includes at least one layer of reduced graphene oxide (rGO), thus making it possible to obtain a secondary battery having excellent electronic conductivity and energy density.
H01M 4/36 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs
H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p. ex. liants, charges
H01M 4/525 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques de nickel, de cobalt ou de fer d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes contenant du fer, du cobalt ou du nickel pour insérer ou intercaler des métaux légers, p. ex. LiNiO2, LiCoO2 ou LiCoOxFy
H01M 4/505 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques de manganèse d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes contenant du manganèse pour insérer ou intercaler des métaux légers, p. ex. LiMn2O4 ou LiMn2OxFy
C07D 405/14 - Composés hétérocycliques contenant à la fois un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle et un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
C07D 407/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant au moins trois hétérocycles
C07D 413/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'azote et d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
C07D 417/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre et d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant au moins trois hétérocycles
C07D 409/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
H10K 99/00 - Matière non prévue dans les autres groupes de la présente sous-classe
80.
POLYMER COMPOUND FOR FORMING PHOTORESIST UNDERLAYER FILM, AND PHOTORESIST UNDERLAYER FILM COMPOSITION FOR EUV CONTAINING SAME
Provided is a photoresist underlayer film composition for extreme ultraviolet (EUV), which contains a polymer compound that allows reducing exposure energy when forming a photoresist film pattern and improves adhesion to a photoresist film. The photoresist underlayer film composition for EUV according to the present invention comprises, with respect to the total weight of the photoresist underlayer film composition for EUV, 0.02-1.00 wt% of the polymer compound, 0.005-1.0 wt% of a crosslinking agent, and 0.001-0.5 wt% of an acid generator, with the remainder being an organic solvent.
C08F 212/14 - Monomères contenant un seul radical aliphatique non saturé contenant un cycle substitué par des hétéro-atomes ou des groupes contenant des hétéro-atomes
G03F 7/11 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p. ex. couches d'ancrage
C07D 295/104 - Composés hétérocycliques contenant des cycles polyméthylène imine d'au moins cinq chaînons, des cycles aza-3 bicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine ou thiomorpholine, ne comportant que des atomes d'hydrogène liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes d'azote du cycle substitués par des atomes d'oxygène ou de soufre liés par des liaisons doubles avec les atomes d'azote du cycle, ainsi que les atomes d'oxygène ou de soufre liés par des liaisons doubles, liés à la même chaîne carbonée, qui n'est pas interrompue par des carbocycles
C07D 401/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 407/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 409/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 417/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre et d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 413/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'azote et d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 237/04 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazine-1, 2 ou diazine-1, 2 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles comportant moins de trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
C07D 239/04 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazine-1, 3 ou diazine-1, 3 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
C07D 243/08 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à sept chaînons comportant deux atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle les atomes d'azote étant en positions 1, 4 non condensés avec d'autres cycles
82.
NOVEL COMPOUND FOR CAPPING LAYER, AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME
C07C 233/62 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino
C07C 235/40 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des atomes d'oxygène ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés au même squelette carboné
C07C 323/30 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné
C07C 219/24 - Composés contenant des groupes amino et hydroxy estérifiés liés au même squelette carboné ayant des groupes hydroxy estérifiés ou des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons du même squelette carboné
C07D 211/62 - Atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile liés en position 4
C07D 401/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 309/08 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle, non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du cycle
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/52 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED) - Détails des dispositifs
83.
NOVEL COMPOUND FOR LIGHT-EMITTING DEVICE, AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME
C07C 233/62 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino
C07C 235/40 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des atomes d'oxygène ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés au même squelette carboné
C07C 323/30 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné
C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si
C07C 229/48 - Composés contenant des groupes amino et carboxyle liés au même squelette carboné ayant des groupes amino ou carboxyle liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons du même squelette carboné avec des groupes amino et des groupes carboxyle liés à des atomes de carbone du même cycle non condensé
C07C 327/30 - Esters d'acides monothiocarboxyliques ayant des atomes de soufre de groupes thiocarboxyle estérifiés liés à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés substitués par des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso
H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
H01L 51/52 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED) - Détails des dispositifs
84.
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE
The present invention relates to a photosensitive resin composition and a display device prepared by using same, wherein the photosensitive resin composition not only has excellent optical density and light resistance, but also has improved transmittance, photoreactivity, and sensitivity, and thus can be preferably applicable to form a pixel division layer pattern in various display devices, such as an organic electroluminescent device.
G03F 7/105 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des substances, p. ex. des indicateurs, pour obtenir des images visibles
G03F 7/028 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des substances accroissant la photosensibilité, p. ex. photo-initiateurs
G03F 7/032 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants
The present invention pertains to a photosensitive resin composition and a display device including same. More specifically, the present invention pertains to: a photosensitive resin composition containing an alkali-soluble polymer resin and a solvent and having excellent sensitivity, chemical resistance, sunlight resistance, and drive reliability, the alkali-soluble polymer resin including at least one structure selected from the group consisting of an esterified quinonediazide compound having a substituent having a specific structure, polyamic acid, polyamic ester, and polyimide; and a display device including same.
The present invention relates to a photosensitive resin composition and a display device comprising same and, more specifically, to: a photosensitive resin composition which, by comprising an alkali-soluble resin comprising at least one structure selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic ester, and polyimide, two or more thermal crosslinkable compounds, a photosensitizer, and a solvent, has excellent sensitivity, film residual rate, adhesion, chemical resistance and heat resistance; and a display device comprising same.
G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
H01L 51/50 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
87.
NOVEL COMPOUND FOR CAPPING LAYER AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME
C07C 233/58 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
C07C 235/40 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des atomes d'oxygène ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés au même squelette carboné
C07C 323/30 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné
C07C 255/46 - Nitriles d'acides carboxyliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons à des atomes de carbone de cycles non condensés
C07F 7/10 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si azotés
C07D 309/08 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle, non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du cycle
C07D 335/02 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons comportant un atome de soufre comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles
C07D 207/16 - Atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile
C07D 211/34 - Composés hétérocycliques contenant des cycles pyridiques hydrogénés, non condensés avec d'autres cycles avec uniquement des atomes d'hydrogène et de carbone liés directement à l'atome d'azote du cycle ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés, substitués par des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile
C07D 295/14 - Composés hétérocycliques contenant des cycles polyméthylène imine d'au moins cinq chaînons, des cycles aza-3 bicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine ou thiomorpholine, ne comportant que des atomes d'hydrogène liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes d'azote du cycle substitués par des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile
88.
NOVEL COMPOUND FOR CAPPING LAYER, AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME
C07C 233/64 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons
C07C 235/42 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des atomes d'oxygène ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés au même squelette carboné
C07C 237/28 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des groupes amino ayant l'atome de carbone d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons non condensé du squelette carboné
C07C 323/30 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné
C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si
C07D 209/12 - Radicaux substitués par des atomes d'oxygène
C07C 211/40 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons d'un squelette carboné non saturé contenant uniquement des cycles non condensés
C07D 403/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant au moins trois hétérocycles
C07D 407/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant au moins trois hétérocycles
89.
NOVEL COMPOUND FOR CAPPING LAYER, AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME
C07C 233/57 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
C07D 211/32 - Composés hétérocycliques contenant des cycles pyridiques hydrogénés, non condensés avec d'autres cycles avec uniquement des atomes d'hydrogène et de carbone liés directement à l'atome d'azote du cycle ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés, substitués par des atomes d'oxygène ou de soufre liés par des liaisons doubles ou par deux atomes d'oxygène ou de soufre, liés au même atome de carbone par des liaisons simples par des atomes d'oxygène
C07D 401/10 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote contenant deux hétérocycles liés par une chaîne carbonée contenant des cycles aromatiques
C07D 309/08 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle, non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du cycle
C07D 407/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 335/02 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons comportant un atome de soufre comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles
C07D 409/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 295/14 - Composés hétérocycliques contenant des cycles polyméthylène imine d'au moins cinq chaînons, des cycles aza-3 bicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine ou thiomorpholine, ne comportant que des atomes d'hydrogène liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes d'azote du cycle substitués par des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile
C07D 209/10 - IndolesIndoles hydrogénés avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes de carbone de l'hétérocycle
C07D 403/10 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne carbonée contenant des cycles aromatiques
90.
NOVEL COMPOUND FOR CAPPING LAYER, AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME
C07D 241/26 - Atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile avec des atomes d'azote liés directement aux atomes de carbone du cycle
C07D 239/26 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazine-1, 3 ou diazine-1, 3 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles comportant au moins trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du cycle
C07D 237/08 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazine-1, 2 ou diazine-1, 2 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles comportant trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du cycle
C07D 255/02 - Composés hétérocycliques contenant des cycles comportant trois atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par les groupes non condensés avec d'autres cycles
C07D 251/12 - Composés hétérocycliques contenant des cycles triazine-1, 3, 5 non condensés avec d'autres cycles comportant trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
C07D 253/07 - Triazines-1, 2, 4 comportant trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des hétéro-atomes ou des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du cycle
C07D 401/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote contenant au moins trois hétérocycles
91.
NOVEL COMPOUND FOR CAPPING LAYER, AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME
C07C 233/57 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
C07C 237/24 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des groupes amino ayant l'atome de carbone d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné
C07C 235/40 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des atomes d'oxygène ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés au même squelette carboné
C07C 323/30 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné
C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si
C07C 233/59 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'halogène ou par des groupes nitro ou nitroso
C07C 271/38 - Esters des acides carbamiques ayant des atomes d'oxygène de groupes carbamate liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons avec l'atome d'azote d'au moins un des groupes carbamate lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons
C07C 333/08 - Acides monothiocarbamiquesLeurs dérivés ayant des atomes d'azote de groupes thiocarbamiques liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons
C07D 407/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
C07D 309/08 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle, non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du cycle
92.
ORGANIC LAYER POLISHING COMPOSITION AND METHOD FOR POLISHING USING SAME
The present invention relates to an organic layer polishing composition and a method for polishing using same. The organic layer polishing composition includes a polishing promoter containing both a hydrophilic group and a hydrophobic group so that even for an organic layer that is strongly bound by covalent bonds, such as an amorphous carbon layer (ACL) or diamond-like-carbon (DLC), as well as a polymer, SOC, and SOH, the polishing rate is maintained high.
The present disclosure relates to a photopolymerizable composition which enables the formation of an optical member that exhibits improved optical properties, including excellent light transmittance, low haze, and high refractive index, an optical member and a display device formed therefrom. The photopolymerizable composition includes at least one olefinic monomer having a photocurable functional group, metal oxide particles, an amine compound having an amine group and a photocurable functional group, and a photopolymerization initiator.
C09D 11/101 - Encres spécialement adaptées aux procédés d’imprimerie mettant en œuvre la réticulation par énergie ondulatoire ou par radiation de particules, p. ex. réticulation par UV qui suit l’impression
C09D 11/107 - Encres d’imprimerie à base de résines artificielles contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone à partir d'acides non saturés ou de leurs dérivés
C09D 11/037 - Encres d’imprimerie caractérisées par des particularités autres que la nature chimique du liant caractérisées par le pigment
G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques
94.
PHOTO-CURABLE COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF, AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME
The present invention relates to a photo-curable composition, a cured product thereof, and an optical member and a display device comprising same and, more specifically, to a photo-curable composition, a cured product thereof, and an optical member and a display device comprising same, wherein the photo-curable composition has excellent low refractive index, light transmittance, and low haze characteristics by comprising a first olefin-based monomer containing fluorine, a second olefin-based monomer having an absolute viscosity of 7 cP or less at 25°C, a photo-polymerization initiator, and an amine compound.
C08F 220/28 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle ne contenant pas de cycles aromatiques dans la partie alcool
C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
C08F 2/44 - Polymérisation en présence d'additifs, p. ex. plastifiants, matières colorantes, charges
C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques
95.
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME
Proposed is a photosensitive resin composition including a siloxane copolymer having both a thermosetting functional group and a photocurable functional group. The composition, according to this disclosure, is capable of both thermal curing and photo-curing and thus can form a stable cured film in a flexible display process where a low-temperature process of 150° C. or less is essential.
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. (République de Corée)
DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
Song, Ga Young
Park, Mi Hyun
Park, Jong Kyoung
Lee, Jung Youl
Kim, Hyun Jin
Lee, Hyo San
Lim, Han Sol
Han, Hoon
Abrégé
A substrate cleaning composition, a method of cleaning a substrate using the same, and a method of fabricating a semiconductor device using the same, the substrate cleaning composition including a styrene copolymer including a first repeating unit represented by Formula 1-1a and a second repeating unit represented by Formula 1-1b; an additive represented by Formula 2-1; and an alcoholic solvent having a solubility of 500 g/L or less in deionized water,
A positive photosensitive resin composition includes a polymer resin, a quinonediazide compound, and a solvent. The polymer resin includes (i) 5 to 95 wt. % of a polyimide precursor having a structural unit represented by Formula 1, ii) 5 to 95 wt. % of a polyimide precursor having a structural unit represented by Formula 2, and iii) 0 to 20 wt. % of a polyimide precursor having a structural unit represented by Formula 3. The quinonediazide compound is included in an amount of 5 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer resin. The solvent is included in an amount of 100 to 2,000 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer resin.
G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
G03F 7/037 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polyamides ou des polyimides
G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
H01L 27/32 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des composants qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux avec des composants spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. panneaux d'affichage plats utilisant des diodes émettrices de lumière organiques
98.
COATING COMPOSITION CAPABLE OF BEING CURED AND THEN THERMOFORMED, AND PLASTIC PRODUCT USING SAME
The present invention relates to a coating composition comprising a multifunction acrylate-based oligomer, a thermoplastic polymer, and an organic solvent. The composition can be cured and thermoformed. A coating film made from the composition is capable of being thermoformed and has excellent hardness, durability, and scratch resistance. With the coating film, plastic products, which can be used instead of glass in various industries such as construction, electronic products and automobiles, are provided.
C09D 4/06 - Compositions de revêtement, p. ex. peintures, vernis ou vernis-laques, à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
The present invention relates to a positive photoresist resin composition, an insulating film, and a display device comprising same, and, more specifically, relates to a positive photoresist resin composition, an insulating film, and a display device comprising same, which comprise a polymer comprising a hydroxyl group and, thus, have excellent sensitivity, chemical resistance, thermal resistance, and hygroscopicity.
G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
G03F 7/021 - Composés de diazonium macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
C08L 77/00 - Compositions contenant des polyamides obtenus par des réactions créant une liaison amide carboxylique dans la chaîne principaleCompositions contenant des dérivés de tels polymères
C08L 79/08 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
C08L 35/04 - Homopolymères ou copolymères des nitriles
C08L 35/06 - Copolymères avec des monomères vinylaromatiques
100.
SUBSTRATE SURFACE MODIFIER FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION AND METHOD FOR MODIFYING SURFACE OF SUBSTRATE USING THE SAME
This invention relates to a surface modifier for uniformly modifying the surface of a substrate such as an inorganic thin film, using atomic layer deposition or chemical vapor deposition, and a method for modifying the surface of a substrate using the same.
C23C 16/18 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique à partir de composés organométalliques
C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement