Dongjin Semichem Co., Ltd.

République de Corée

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Juridiction
        International 382
        États-Unis 84
        Canada 5
Date
2025 février 2
2025 janvier 1
2024 novembre 2
2025 (AACJ) 3
2024 44
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Classe IPC
H01L 31/042 - Modules PV ou matrices de cellules PV individuelles 44
G03F 7/004 - Matériaux photosensibles 35
C09K 11/06 - Substances luminescentes, p. ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances organiques luminescentes 31
H01L 51/50 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED) 31
G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons 21
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Statut
En Instance 53
Enregistré / En vigueur 418
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1.

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, INSULATING FILM, AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2024011111
Numéro de publication 2025/028992
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-07-30
Date de publication 2025-02-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Park, Ah Rum
  • Youn, Hyoc Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Kim, Dong Myung
  • Hwang, Gyu Hyun
  • Park, Gyu Tae
  • Chang, Yoo Dong
  • Jeong, Jae Won
  • Lee, Hyeong Jin

Abrégé

A photosensitive resin composition having a coloring function is disclosed. According to one aspect, the provided photosensitive resin composition comprises an alkali-soluble resin and a photoactive compound, wherein the alkali-soluble resin and/or the photoactive compound has an absorption maximum of a wavelength of 400 to 550 nm on the basis of UV-vis spectroscopy.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/022 - Quinonediazides
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G09F 9/30 - Dispositifs d'affichage d'information variable, dans lesquels l'information est formée sur un support, par sélection ou combinaison d'éléments individuels dans lesquels le ou les caractères désirés sont formés par une combinaison d'éléments individuels

2.

INKJET RESIN COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE

      
Numéro d'application 18749761
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-21
Date de la première publication 2025-02-06
Propriétaire
  • SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. (République de Corée)
  • DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Lee, Sang-Gu
  • Choe, Junho
  • Kim, Ye Jin
  • Kim, Onnuri
  • Kim, Jinwuk
  • Son, Young Hye
  • Song, Junyong
  • Yun, Jiho

Abrégé

An inkjet resin composition includes about 20% to about 30% by weight of 2-ethylhexyl acrylate, about 20% to about 30% by weight of 4-hydroxybutyl acrylate, about 40% to about 50% by weight of isodecyl acrylate, about 1% to about 10% by weight of urethane acrylate, about 1% to about 5% by weight of an initiator, about 1% to about 5% by weight of a silane coupling agent, and about 0.05% to about 1% by weight of a surface flow control additive.

Classes IPC  ?

  • C09J 133/06 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters ne contenant que du carbone, de l'hydrogène et de l'oxygène, l'atome d'oxygène faisant uniquement partie du radical carboxyle
  • C09J 4/06 - Adhésifs à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
  • C09J 11/08 - Additifs macromoléculaires
  • H05K 5/00 - Enveloppes, coffrets ou tiroirs pour appareils électriques
  • H05K 5/03 - Couvercles ou capots

3.

Silicone Resin, Coating Composition Comprising Same, and Cured Product Thereof

      
Numéro d'application 18749306
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-20
Date de la première publication 2025-01-09
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Shin, Woo Seung
  • Nam, Dong Jin
  • Oh, Seong Yeon
  • Lim, Kook Hee
  • Chung, Jai Young
  • Choi, Seung Sock
  • Park, Han Bin

Abrégé

A silicone resin includes a hollow silica structure and a silsesquioxane structure bonded to the hollow silica structure. A hydroxy group is included in an amount of 1.0 wt % or less relative to the total weight of the silicone resin, thereby being able to realize a low refractive index and an excellent coating property. A coating composition contains the silicone resin, and high solution stability is achieved even without a separate dispersion process. A product is cured from the coating composition.

Classes IPC  ?

  • C09D 7/62 - Adjuvants non macromoléculaires inorganiques modifiés par traitement avec d’autres composés
  • C08G 77/04 - Polysiloxanes
  • C08G 77/18 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène à des groupes alcoxyle ou aryloxyle
  • C08K 9/08 - Ingrédients agglomérés par traitement avec un liant
  • C09D 7/40 - Adjuvants
  • C09D 183/06 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène

4.

METHOD FOR FORMING PHOTORESIST THIN FILM REACTIVE TO EXTREME ULTRAVIOLET RAYS, AND PHOTORESIST THIN FILM FORMED THEREBY

      
Numéro d'application KR2024006980
Numéro de publication 2024/242478
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-05-23
Date de publication 2024-11-28
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO.,LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Yeo, So Jeong
  • Sim, Jang Keun
  • Lee, Jae Woo
  • Kim, Jun Young
  • Kim, Pil Soo
  • Kim, Da Som

Abrégé

An embodiment of the present invention provides a method for forming a hydrophobic photoresist thin film, comprising the steps of: injecting a first precursor and an oxygen source into a chamber in which a substrate is located, so as to form a thin film having hydrophilic groups included therein; and injecting a second precursor to modify the thin film having the hydrophilic groups included therein and form a modified layer, wherein the photoresist thin film formed thereby does not contain hydroxyl groups and thus exhibits hydrophobicity.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/16 - Procédés de couchageAppareillages à cet effet
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet

5.

PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION AND ELECTRONIC DEVICE

      
Numéro d'application KR2024006061
Numéro de publication 2024/237536
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-05-07
Date de publication 2024-11-21
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Cho, Sung Min
  • Youn, Hyoc Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Lee, Sang Hoon
  • Park, Jong Hyuk
  • Lee, Sang Min

Abrégé

Disclosed is a photopolymerizable composition which improves optical properties as well as inkjet discharge properties. According to an aspect of the present invention, provided is a photopolymerizable composition comprising: a first monomer having a first photocurable functional group; a second monomer having a second photocurable functional group; and an initiator, wherein the first and second monomers satisfy Expression 1.

Classes IPC  ?

  • C08F 220/10 - Esters
  • C08F 222/10 - Esters
  • C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
  • G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques
  • C09D 11/30 - Encres pour l'impression à jet d'encre

6.

PRECURSOR COMPOUND FOR THIN FILM FORMATION AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME

      
Numéro d'application KR2024095197
Numéro de publication 2024/219908
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-02-15
Date de publication 2024-10-24
Propriétaire
  • SK HYNIX INC. (République de Corée)
  • DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Chun, Su Pill
  • Kim, Hwan
  • Lee, Dong Kyun
  • Lee, Sang Hyun
  • Yeo, So Jeong
  • Bok, Cheolkyu
  • Lee, Jae Woo
  • Kim, Jun Young
  • Yun, Ha Kyung

Abrégé

The present techniques provide a precursor compound of [chemical formula 1] for thin film formation and a preparation method therefor, wherein a photoresist layer can be prevented from undergoing pattern collapse by reducing the exposure time for pattern formation and minimizing the thickness of a lower layer with an etching selectivity similar to that of a photoresist or omitting the lower layer during post-exposure etching. (In [chemical formula 1], R0is Si, Sn, Ge, Sb, In, Hf, Zr, Ti, or Te; R13322, halogen, or phenyl; R2and R2' each are independently alkyl or alkoxy; R3 is amine or halogen; R is hydrogen or halogen; n is an integer of 1-7)

Classes IPC  ?

  • C07F 7/18 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si ainsi qu'une ou plusieurs liaisons C—O—Si
  • C07F 7/10 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si azotés
  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p. ex. couches d'ancrage

7.

METHOD FOR FORMING AN INSULATING LAYER PATTERN, PRECURSORS USED IN PATTERN FORMATION AND A SEMICONDUCTOR DEVICE

      
Numéro d'application 18751201
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-22
Date de la première publication 2024-10-17
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Yun, Ha Kyung
  • Lee, Jae Woo
  • Kim, Jun Young
  • Yeo, So Jeong
  • Lee, Han Jin
  • Kim, Pil Soo
  • Sim, Jang Keun
  • Bok, Cheol Kyu

Abrégé

A method for forming an insulating layer pattern includes providing a substrate comprising two or more different types of dielectric layer regions; and selectively forming a blocking layer on the substrate to include a first region and a second region. On the first region, the blocking layer is formed, whereas on the second region, no blocking layer is formed or the blocking layer is formed less than in the first region. The difference in water contact angle between the first region and the second region is within the range of 7 to 50 degrees.

Classes IPC  ?

  • H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux
  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/40 - Oxydes
  • C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
  • H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives

8.

3D SWITCHABLE DEVICE AND DISPLAY DEVICE COMPRISING THE SAME

      
Numéro d'application 18756203
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-27
Date de la première publication 2024-10-17
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Choi, Jin Wook
  • Lee, Ik Soo

Abrégé

A 3D switchable device includes a base substrate; a liquid crystal member including a first liquid crystal electrode disposed on the base substrate, a liquid crystal layer disposed on the first liquid crystal electrode, which selectively blocks or allows 2D polarization and 3D polarization; a lenticular lens member disposed on the liquid crystal member; and a cover substrate disposed on the lenticular lens member.

Classes IPC  ?

  • G02B 30/25 - Systèmes ou appareils optiques pour produire des effets tridimensionnels [3D], p. ex. des effets stéréoscopiques en fournissant des première et seconde images de parallaxe à chacun des yeux gauche et droit d’un observateur du type stéréoscopique utilisant des techniques de polarisation
  • G02F 1/1333 - Dispositions relatives à la structure
  • G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
  • G02F 1/1337 - Orientation des molécules des cristaux liquides induite par les caractéristiques de surface, p. ex. par des couches d'alignement
  • G02F 1/1343 - Électrodes

9.

PHOTOACID GENERATOR, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME

      
Numéro d'application 18744513
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-14
Date de la première publication 2024-10-10
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kim, Jaehyun
  • Hur, Myoung Hyun
  • Kim, Jeong Sik
  • Yoo, Min Ja
  • Lee, Hyung Kun
  • Ji, Chanhyuk
  • Jang, Gyeonghun
  • Ha, Jeongmin

Abrégé

A photoacid generator including an anion having a novel structure having a specific polar functional group such as a sulfonate group is provided. A photoresist composition comprising the same and a method for forming a photoresist pattern are also provided.

Classes IPC  ?

10.

SALT COMPOUND AND QUENCHER, PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME

      
Numéro d'application 18744517
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-14
Date de la première publication 2024-10-10
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kim, Jaehyun
  • Hur, Myoung Hyun
  • Kim, Jeong Sik
  • Yoo, Min Ja
  • Lee, Hyung Kun

Abrégé

A salt compound includes an anion having a specific structure represented by Chemical Formula 1, and a cation represented by Chemical Formula 2. A quencher includes the salt compound; and a photoresist composition includes the salt compound. A salt compound includes an anion having a specific structure represented by Chemical Formula 1, and a cation represented by Chemical Formula 2. A quencher includes the salt compound; and a photoresist composition includes the salt compound.

Classes IPC  ?

11.

CONDUCTIVE AGENT SLURRY FOR SECONDARY BATTERY ELECTRODE, SECONDARY BATTERY ELECTRODE INCLUDING SAME, AND SECONDARY BATTERY

      
Numéro d'application 18746908
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-18
Date de la première publication 2024-10-10
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Han, Jukyung
  • Huh, Chul
  • Yang, Hwi Chan
  • Lee, Joocheol
  • Kim, Hyeongcheol

Abrégé

A conductive material slurry for a secondary battery electrode, which has low viscosity and low sheet resistance, includes a conductive material and a dispersant that disperses the conductive material. The dispersant includes a cellulose compound and a conductive polymer, and the amount of the conductive material is greater than 0 wt % and equal to or less than 2.5 wt % based on the total weight of the conductive material slurry for a secondary battery electrode.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p. ex. liants, charges
  • H01M 4/133 - Électrodes à base de matériau carboné, p. ex. composés d'intercalation du graphite ou CFx
  • H01M 4/134 - Électrodes à base de métaux, de Si ou d'alliages
  • H01M 4/136 - Électrodes à base de composés inorganiques autres que les oxydes ou les hydroxydes, p. ex. sulfures, séléniures, tellurures, halogénures ou LiCoFy
  • H01M 4/38 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'éléments simples ou d'alliages
  • H01M 4/48 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques
  • H01M 4/58 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs de composés inorganiques autres que les oxydes ou les hydroxydes, p. ex. sulfures, séléniures, tellurures, halogénures ou LiCoFyEmploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs de structures polyanioniques, p. ex. phosphates, silicates ou borates
  • H01M 4/587 - Matériau carboné, p. ex. composés au graphite d'intercalation ou CFx pour insérer ou intercaler des métaux légers

12.

GRAPHITE OXIDE, GRAPHENE OXIDE, AND REDUCED GRAPHENE OXIDE

      
Numéro d'application 18749327
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-20
Date de la première publication 2024-10-10
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • An, Woo Hyun
  • Lee, Joo Cheol
  • Yang, Hwi Chan
  • Kim, Seung Du

Abrégé

Graphite oxide, graphene oxide, and reduced graphene oxide are provided. The graphene oxide includes 25 to 45 at % of oxygen (O) and is effectively exfoliated from graphite oxide, and can embody excellent powder conductivity after reduction.

Classes IPC  ?

13.

SOLAR CELL AND METHOD OF FORMING THE SAME

      
Numéro d'application 18678236
Statut En instance
Date de dépôt 2024-05-30
Date de la première publication 2024-09-26
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Lee, Dong Hyun
  • Ryu, Kuk Hyeon

Abrégé

A solar cell and a method of forming the same are provided. The solar cell includes a substrate, and a plurality of unit cells each including a first electrode, an active layer, and a second electrode. The unit cells are spaced from one another to expose the substrate. Accordingly, using an insulating structure or non-power generation area where the unit cells are spaced from one another such that the substrate is exposed, it is possible to minimize leakage current, and to increase power generation efficiency.

Classes IPC  ?

  • H10K 39/18 - Interconnexions, p. ex. bornes
  • H02S 40/38 - Moyens de stockage de l’énergie, p. ex. batteries, structurellement associés aux modules PV
  • H10K 30/82 - Électrodes transparentes, p. ex. électrodes en oxyde d'étain indium [ITO]
  • H10K 30/87 - Moyens de piégeage de la lumière
  • H10K 71/20 - Modification de la forme de la couche active dans les dispositifs, p. ex. mise en forme

14.

RESIN COMPOSITION, DISPLAY APPARATUS INCLUDING THE RESIN COMPOSITION, AND PORTABLE ELECTRONIC DEVICE INCLUDING THE RESIN COMPOSITION

      
Numéro d'application 18596527
Statut En instance
Date de dépôt 2024-03-05
Date de la première publication 2024-09-26
Propriétaire
  • Samsung Display Co., LTD. (République de Corée)
  • Dongjin Semichem Co., Ltd. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Son, Younghye
  • Kim, Yongwoo
  • Kim, Onnuri
  • Kim, Jinwuk
  • Song, Junyong
  • Lee, Sanggu

Abrégé

Provided is a display apparatus including a display panel having a display element therein, a cover window on the display panel, and an adhesive member between the display panel and the cover window and including a first adhesive layer and a second adhesive layer on the first adhesive layer, wherein the second adhesive layer includes a resin composition including an acrylamide-based compound, an ester-based compound, an acrylate-based compound, and an initiator, the ester-based compound including a first ester-based compound and a second ester-based compound, the first ester-based compound including a heterocycloalkyl group, and the second ester-based compound including an aryl group, and the acrylate-based compound including a urethane acrylate-based compound, a first acrylate-based compound, and a second acrylate-based compound, the first acrylate-based compound including a bicyclic compound, and the second acrylate-based compound including a linear alkyl group.

Classes IPC  ?

  • G06F 1/16 - Détails ou dispositions de structure
  • C08F 20/06 - Acide acryliqueAcide méthacryliqueLeurs sels métalliques ou leurs sels d'ammonium
  • C08F 20/36 - Esters contenant de l'azote contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
  • C08F 20/56 - AcrylamideMéthacrylamide
  • C08K 5/101 - EstersÉthers-esters d'acides monocarboxyliques
  • C08K 5/1575 - Cycles à six chaînons
  • C08K 5/5313 - Composés phosphiniques, p. ex. R2=P(:O)OR'
  • C09J 133/08 - Homopolymères ou copolymères d'esters de l'acide acrylique
  • C09J 133/14 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters contenant des atomes d'halogène, d'azote, de soufre ou d'oxygène en plus de l'oxygène du radical carboxyle
  • C09J 133/26 - Homopolymères ou copolymères de l'acrylamide ou du méthacrylamide

15.

THINNER COMPOSITION AND METHOD OF TREATING SURFACE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE BY USING THE SAME

      
Numéro d'application 18381335
Statut En instance
Date de dépôt 2023-10-18
Date de la première publication 2024-09-26
Propriétaire
  • Samsung Electronics Co., Ltd. (République de Corée)
  • Dongjin Semichem Co., Ltd. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kang, Yool
  • Kwon, Taehui
  • Kim, Dongjun
  • Suh, Ahram
  • Jung, Miyeon
  • Choi, Samjong
  • Kweon, Ohhwan
  • Kim, Minki
  • Kim, Jaehyun
  • Shin, Sunggun
  • Yoo, Seungryul
  • Lee, Heekyung

Abrégé

Provided are a thinner composition, which may be generally used for an extreme ultraviolet (EUV) photoresist as well as KrF and ArF photoresists and exhibits improved performance in reduced resist coating (RRC) and edge bead removal (EBR), and which has an excellent pipe cleaning capability, and a method of treating a substrate surface by using the thinner composition. The thinner composition includes a C2-C4 alkylene glycol C1-C4 alkyl ether acetate, a C2-C3 alkylene glycol C1-C4 alkyl ether, and a cycloketone.

Classes IPC  ?

16.

COMPOSITION FOR PREPARING ALKALI-SOLUBLE RESIN, ALKALI-SOLUBLE RESIN PREPARED THEREFROM, AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION CONTAING SAME

      
Numéro d'application KR2024002356
Numéro de publication 2024/177417
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-02-22
Date de publication 2024-08-29
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Lee, Tae Won
  • Youn, Hyoc Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Kim, Dong Myung
  • Lee, Sun Hee
  • Lee, Seok Hyun
  • Lee, Sang Yoon
  • Kim, Chan Young
  • Park, Ji Sung
  • Jang, Geun Seok

Abrégé

The present invention relates to a composition for preparing an alkali-soluble resin, an alkali-soluble resin prepared therefrom, a photosensitive resin composition containing the alkali-soluble resin, an insulating film prepared from the photosensitive resin composition, and a display device comprising the insulating film, wherein compounds for preparing the alkali-soluble resin include dicarboxylic acid anhydride, tetracarboxylic acid dianhydride, and diamine, and the alkali-soluble resin has a structural unit derived from the dicarboxylic acid anhydride at one end or both ends thereof, and contains 5-40 mol% of dicarboxylic acid anhydride with respect to a total 100 mol% of the diamine, the tetracarboxylic acid dianhydride, and the dicarboxylic acid anhydride.

Classes IPC  ?

  • C08G 73/10 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • G03F 7/022 - Quinonediazides
  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
  • H10K 50/844 - Encapsulations

17.

NOVEL COMPOUND FOR CAPPING LAYER AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING SAME

      
Numéro d'application 18604045
Statut En instance
Date de dépôt 2024-03-13
Date de la première publication 2024-08-22
Propriétaire
  • DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
  • SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Kim, Dong Jun
  • Lee, Dong Hyun
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel
  • Lee, Sung Kyu
  • Lee, Tae Jin
  • Park, Yeong Rong
  • Lee, Dae Woong
  • Oh, Il Soo
  • Lee, Bo Ra
  • Im, Hyeon Jeong
  • Cho, Ill Hun

Abrégé

A novel compound for a capping layer, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a capping layer is represented by Formula 1 below: A novel compound for a capping layer, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a capping layer is represented by Formula 1 below:

Classes IPC  ?

  • C07C 233/58 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
  • C07C 211/53 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons du squelette carboné ayant des groupes amino liés à un seul cycle aromatique à six chaînons l'atome d'azote d'au moins un des groupes amino étant lié de plus à un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino
  • C07C 233/59 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'halogène ou par des groupes nitro ou nitroso
  • C07C 233/60 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'oxygène liés par des liaisons simples
  • C07C 233/62 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino
  • C07C 255/46 - Nitriles d'acides carboxyliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons à des atomes de carbone de cycles non condensés
  • C07C 323/40 - Y étant un atome d'hydrogène ou de carbone
  • C07D 211/16 - Composés hétérocycliques contenant des cycles pyridiques hydrogénés, non condensés avec d'autres cycles avec uniquement des atomes d'hydrogène et de carbone liés directement à l'atome d'azote du cycle ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux ne contenant que des atomes de carbone et d'hydrogène liés aux atomes de carbone du cycle l'atome d'azote du cycle étant acylé
  • C07D 295/32 - Atomes d'azote acylés par des acides carboxyliques ou par l'acide carbonique, ou par leurs analogues soufrés ou azotés
  • C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si
  • H10K 50/858 - Dispositifs pour extraire la lumière des dispositifs comprenant des moyens de réfraction, p. ex. des lentilles

18.

NOVEL COMPOUND FOR LIGHT EMITTING DEVICE AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING SAME

      
Numéro d'application 18604113
Statut En instance
Date de dépôt 2024-03-13
Date de la première publication 2024-08-15
Propriétaire
  • DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
  • SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Min, Byung Cheol
  • Kim, Dong Jun
  • Han, Jeong Woo
  • Lee, Hyung Jin
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel
  • Lee, Dae Woong
  • Im, Hyeon Jeong
  • Park, Yeong Rong
  • Oh, Il Soo
  • Lee, Bo Ra
  • Cho, Ill Hun

Abrégé

A novel compound for a light emitting device, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a light emitting device is represented by Formula 1 below: A novel compound for a light emitting device, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a light emitting device is represented by Formula 1 below:

Classes IPC  ?

  • H10K 85/60 - Composés organiques à faible poids moléculaire
  • C07C 233/58 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
  • C07C 255/46 - Nitriles d'acides carboxyliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons à des atomes de carbone de cycles non condensés
  • C07C 323/22 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons doubles, liés au même squelette carboné
  • C07D 295/215 - Radicaux dérivés d'analogues azotés de l'acide carbonique
  • C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si
  • C09K 11/06 - Substances luminescentes, p. ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances organiques luminescentes
  • H10K 50/858 - Dispositifs pour extraire la lumière des dispositifs comprenant des moyens de réfraction, p. ex. des lentilles
  • H10K 85/40 - Composés organosiliciés, p. ex. pentacène TIPS

19.

NOVEL COMPOUND FOR LIGHT EMITTING DEVICE AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING SAME

      
Numéro d'application 18604171
Statut En instance
Date de dépôt 2024-03-13
Date de la première publication 2024-08-15
Propriétaire
  • DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
  • SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Min, Byung Cheol
  • Kim, Hee Joo
  • Lee, Dong Hyun
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel
  • Kim, Tae Min
  • Im, Hyeon Jeong
  • Oh, Il Soo
  • Park, Yeong Rong
  • Lee, Dae Woong
  • Lee, Bo Ra
  • Cho, Ill Hun

Abrégé

A novel compound for a light emitting device, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a light emitting device is represented by Formula 1 below: A novel compound for a light emitting device, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a light emitting device is represented by Formula 1 below:

Classes IPC  ?

  • C09K 11/06 - Substances luminescentes, p. ex. électroluminescentes, chimiluminescentes contenant des substances organiques luminescentes
  • H10K 85/40 - Composés organosiliciés, p. ex. pentacène TIPS
  • H10K 85/60 - Composés organiques à faible poids moléculaire

20.

PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION FOR INKJET, CURED FILM THEREOF, AND OPTICAL MEMBER AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2024001602
Numéro de publication 2024/167235
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-02-02
Date de publication 2024-08-15
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ahn, Hyo Seong
  • Youn, Hyoc Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Lee, Sang Hoon
  • Park, Jong Hyuk
  • Kim, Ja Young
  • Park, Jin Kyung

Abrégé

The present invention relates to a photocurable composition, a cured film comprising a cured product thereof, and an optical member and a display device comprising the cured film, the photocurable composition having controlled transmittance degradation and haze increase while exhibiting a low-refractive property after curing.

Classes IPC  ?

  • C08F 222/10 - Esters
  • C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
  • C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants

21.

POSITIVE ELECTRODE ACTIVE MATERIAL COMPOSITE FOR BATTERY, SECONDARY BATTERY ELECTRODE, AND SECONDARY BATTERY

      
Numéro d'application 18620949
Statut En instance
Date de dépôt 2024-03-28
Date de la première publication 2024-08-08
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • An, Woohyun
  • Kim, Seungdoo
  • Lim, Chanhyuk
  • Lee, Joocheol
  • Yang, Hwichan

Abrégé

The present disclosure relates to a positive electrode active material composite which is for a battery and is coated with reduced graphene oxide, and specifically, to a positive electrode active material composite comprising: a core portion including a positive electrode active material; and a shell portion surrounding the core portion. The shell portion includes at least one layer of reduced graphene oxide (rGO), thus making it possible to obtain a secondary battery having excellent electronic conductivity and energy density.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/36 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs
  • H01M 4/02 - Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif
  • H01M 4/133 - Électrodes à base de matériau carboné, p. ex. composés d'intercalation du graphite ou CFx
  • H01M 4/583 - Matériau carboné, p. ex. composés au graphite d'intercalation ou CFx

22.

COMPOUND FOR CAPPING LAYER AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING SAME

      
Numéro d'application 18615985
Statut En instance
Date de dépôt 2024-03-25
Date de la première publication 2024-08-01
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Min, Byung Cheol
  • Kim, Dong Jun
  • Han, Jeong Woo
  • Lee, Hyung Jin
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel

Abrégé

A novel compound for a capping layer, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a capping layer is represented by Formula 1 below: A novel compound for a capping layer, and an organic light emitting device containing the same are disclosed. The compound for a capping layer is represented by Formula 1 below:

Classes IPC  ?

  • C07D 405/14 - Composés hétérocycliques contenant à la fois un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle et un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
  • C07D 307/81 - Radicaux substitués par des atomes d'azote ne faisant pas partie d'un radical nitro
  • C07D 409/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
  • C07D 413/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'azote et d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
  • C07D 471/04 - Systèmes condensés en ortho
  • H10K 59/80 - Détails de structure

23.

COMPOUND FOR CAPPING LAYER AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING SAME

      
Numéro d'application 18401073
Statut En instance
Date de dépôt 2023-12-29
Date de la première publication 2024-07-25
Propriétaire
  • DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
  • SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Kim, Hee Joo
  • Kim, Dong Jun
  • Lee, Dong Hyun
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel
  • Lee, Sung Kyu
  • Cho, Ill Hun
  • Lee, Bo Ra
  • Park, Yeong Rong
  • Oh, Il Soo
  • Lee, Dae Woong
  • Im, Hyeon Jeong

Abrégé

A novel compound for a capping layer, and an organic light-emitting device containing the same are disclosed.

Classes IPC  ?

  • H10K 50/858 - Dispositifs pour extraire la lumière des dispositifs comprenant des moyens de réfraction, p. ex. des lentilles
  • C07C 233/58 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
  • C07D 213/75 - Radicaux amino ou imino, acylés par un acide carboxylique, par l'acide carbonique ou par leurs analogues du soufre ou de l'azote, p. ex. des carbamates
  • C07D 213/81 - AmidesImides
  • C07D 241/20 - Atomes d'azote
  • C07D 251/18 - Composés hétérocycliques contenant des cycles triazine-1, 3, 5 non condensés avec d'autres cycles comportant trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des atomes d'hydrogène ou de carbone liés directement à au moins un atome de carbone du cycle à un seul atome de carbone du cycle avec des atomes d'azote liés directement à deux autres atomes de carbone du cycle, p. ex. guanamines
  • C07D 271/113 - Oxadiazoles-1, 3, 4Oxadiazoles-1, 3, 4 hydrogénés avec des atomes d'oxygène, de soufre ou d'azote, liés directement aux atomes de carbone du cycle, les atomes d'azote ne faisant pas partie d'un radical nitro
  • C07D 333/36 - Atomes d'azote
  • H10K 50/844 - Encapsulations

24.

COMPOSITION FOR COLORED COATING CONTAINING SILSESQUIOXANE POLYMER BINDER

      
Numéro d'application KR2023017857
Numéro de publication 2024/143871
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-11-08
Date de publication 2024-07-04
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kim, Si Eun
  • Huh, Chul
  • Choi, Seung Sock
  • Nam, Dong Jin
  • Lim, Kook Hee
  • Oh, Seong Yeon
  • Park, Han Bin
  • Shin, Woo Seung

Abrégé

The present invention relates to a composition for colored coating containing a silsesquioxane polymer binder. The composition according to the present invention comprises a silsesquioxane polymer binder having a reactive functional group, a compatible functional group, and a colorant affinity group, and thus can maintain excellent heat resistance of the silsesquioxane polymer binder and physical properties of a coating film as well as enhance the adhesive strength and dispersion stability between a substrate and a coating layer, which were difficult to achieve by conventional silsesquioxane polymer binders. Furthermore, the present invention relates to a colored film and a display panel each comprising a coating layer formed of the silsesquioxane polymer binder.

Classes IPC  ?

25.

FOAMING AGENT ADDITIVE FOR REDUCING FORMAMIDE, AND FOAMING AGENT COMPOSITION COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2023020299
Numéro de publication 2024/143989
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-12-11
Date de publication 2024-07-04
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Shin, Min Seung
  • Hwang, Jeong Sik
  • Kim, Young Gi
  • Kim, Yeon Wook
  • Park, Ji Hyeon

Abrégé

Provided in the present invention are a foaming agent additive for reducing formamide, and a foaming agent composition using same, the additive significantly reducing the concentration of formamide generated during foaming of ADCA, and enabling the concentration of formamide remaining in a final product foaming agent to be reduced.

Classes IPC  ?

  • C08K 9/12 - Ingrédients adsorbés
  • C08K 3/08 - Métaux
  • C08K 3/34 - Composés contenant du silicium
  • C08J 9/00 - Mise en œuvre de substances macromoléculaires pour produire des matériaux ou objets poreux ou alvéolairesLeur post-traitement
  • C08J 9/10 - Mise en œuvre de substances macromoléculaires pour produire des matériaux ou objets poreux ou alvéolairesLeur post-traitement utilisant des gaz de gonflage produits par un agent de gonflage introduit au préalable par un agent chimique de gonflage dégageant de l'azote

26.

CARBON NANOTUBE DISPERSION SOLUTION, SLURRY FOR MANUFACTURING ELECTRODE, AND SECONDARY BATTERY

      
Numéro d'application KR2023016819
Numéro de publication 2024/143831
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-10-27
Date de publication 2024-07-04
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Jeon, Seung Hun
  • Kim, Yoo Seong
  • Kim, Hyo Sun
  • Kim, Dong Young
  • Kim, Seong Do
  • Kim, Dong Ho
  • Yoon, Sung Sin
  • Kim, Tae Yoon
  • Cho, Hyun Il

Abrégé

The present invention relates to: a carbon nanotube dispersion solution; a slurry for manufacturing an electrode, containing carbon nanotubes; and a secondary battery. The performance of a secondary battery comprising carbon nanotubes can be improved by controlling the particle size and amount of the carbon nanotubes.

Classes IPC  ?

  • C01B 32/174 - DérivatisationSolubilisation dans les solvantsDispersion dans les solvants
  • H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p. ex. liants, charges

27.

ELECTROCHROMIC DEVICE

      
Numéro d'application KR2023017361
Numéro de publication 2024/143853
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-11-02
Date de publication 2024-07-04
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Baek, Jong Gyu
  • Song, Gi Hwan

Abrégé

An embodiment of the present invention provides an electrochromic device comprising a substrate and electrochromic layers, wherein the electrochromic layers include an oxidative color change layer and a reductive color change layer, and the oxidative color change layer and the reductive color change layer are arranged in contact with each other in at least one region.

Classes IPC  ?

  • G02F 1/153 - Détails de construction
  • G02F 1/1514 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur basés sur un effet électrochromique caractérisés par le matériau électrochromique, p. ex. par le matériau électro-déposé

28.

COATING COMPOSITION CONTAINING SILSESQUIOXANE POLYMER, AND FLEXIBLE DISPLAY FILM

      
Numéro d'application KR2023017867
Numéro de publication 2024/143872
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-11-08
Date de publication 2024-07-04
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Nam, Dong Jin
  • Huh, Chul
  • Choi, Seung Sock
  • Lim, Kook Hee
  • Park, Han Bin
  • Shin, Woo Seung
  • Kim, Si Eun

Abrégé

The present invention relates to a coating composition for a flexible display, a coating film manufactured therefrom, and a display panel, wherein the coating composition contains a silsesquioxane polymer and can provide a film with excellent elongation and bending durability.

Classes IPC  ?

  • C09D 183/04 - Polysiloxanes
  • C09D 183/06 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
  • C08L 83/04 - Polysiloxanes
  • C08L 83/06 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes contenant de l'oxygène
  • C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles
  • C08J 7/04 - Revêtement
  • C08F 220/32 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des radicaux époxyde
  • C08F 290/06 - Polymères prévus par la sous-classe
  • G09F 9/30 - Dispositifs d'affichage d'information variable, dans lesquels l'information est formée sur un support, par sélection ou combinaison d'éléments individuels dans lesquels le ou les caractères désirés sont formés par une combinaison d'éléments individuels

29.

ABRASIVE PARTICLES AND POLISHING SLURRY COMPOSITION USING SAME

      
Numéro d'application KR2023019622
Numéro de publication 2024/143946
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-11-30
Date de publication 2024-07-04
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Park, Hye-Jung
  • Shin, Jong-Chul
  • Jin, Sung-Hoon
  • Kang, So-Ra
  • Park, Jong-Dae
  • Kim, Jae-Hyun

Abrégé

The present invention provides surface-modified abrasive particles and a polishing slurry composition comprising same, the abrasive particles having improved polishing performance for an insulating film and a metal film and having high-temperature stability by controlling, to be in a specific range, the content ratio of a modifier to silica during abrasive particle surface modification, the content ratio of carbon of the modifier to silica in a slurry after centrifugation, or the difference in isoelectric point (IEP) of modified abrasive particles in the slurry before and after the centrifugation.

Classes IPC  ?

  • C09K 3/14 - Substances antidérapantesAbrasifs
  • C09G 1/02 - Compositions de produits à polir contenant des abrasifs ou agents de polissage

30.

CURABLE COMPOSITION, THIN FILM, AND DISPLAY DEVICE

      
Numéro d'application KR2023017358
Numéro de publication 2024/136100
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-11-02
Date de publication 2024-06-27
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Choi, Kyu Bum
  • Joo, Yu Chan
  • Park, Eun Ju
  • Han, Jae Young

Abrégé

One embodiment of the present invention provides a curable composition comprising a photocurable monomer, a photocuring initiator, and a silicon-based additive, wherein the silicon-based additive comprises a photocurable substituent and an aliphatic substituent, and the ratio of the photocurable substituent to the aliphatic substituent is 2:6 to 6:2.

Classes IPC  ?

  • C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
  • C08F 2/44 - Polymérisation en présence d'additifs, p. ex. plastifiants, matières colorantes, charges
  • C08F 222/10 - Esters
  • C08K 5/5415 - Composés contenant du silicium contenant de l'oxygène contenant au moins une liaison Si—O
  • C09D 4/00 - Compositions de revêtement, p. ex. peintures, vernis ou vernis-laques, à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable
  • C09D 7/63 - Adjuvants non macromoléculaires organiques

31.

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE

      
Numéro d'application 18444658
Statut En instance
Date de dépôt 2024-02-17
Date de la première publication 2024-06-27
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Youn, Hyoc-Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Lee, Sang-Hoon
  • Jang, Jae Young
  • Hwang, Chi Yong

Abrégé

A photosensitive resin composition not only has excellent optical density and light resistance, but also has improved transmittance, photoreactivity, and sensitivity. Thus, it can be applicable to form a pixel defining layer pattern of various display devices, such as an organic electroluminescent device. A display device is manufactured using the same.

Classes IPC  ?

  • C09D 4/06 - Compositions de revêtement, p. ex. peintures, vernis ou vernis-laques, à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
  • C09D 7/20 - Diluants ou solvants
  • C09D 7/41 - Pigments organiquesColorants organiques
  • C09D 7/61 - Adjuvants non macromoléculaires inorganiques
  • C09D 135/02 - Homopolymères ou copolymères d'esters
  • C09D 163/10 - Résines époxy modifiées par des composés non saturés
  • H10K 59/122 - Structures ou couches définissant le pixel, p. ex. bords
  • H10K 59/173 - Affichages à OLED à matrice passive comprenant des bords ou des masques d'ombre

32.

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application 18431934
Statut En instance
Date de dépôt 2024-02-03
Date de la première publication 2024-06-20
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Youn, Hyoc Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Kim, Dong Myung
  • Lee, Sun Hee
  • Park, Ah Rum
  • Jang, Gun Seok
  • Oh, Nu Ri
  • Song, In Ho
  • Lee, Seok Hyun

Abrégé

A photosensitive resin composition includes an alkali-soluble resin including at least one structure selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic ester, and polyimide; two or more thermal crosslinkable compounds; a photosensitizer; and a solvent. The photosensitive resin composition has excellent sensitivity, film residual rate, adhesive force, chemical resistance and heat resistance; and a display device includes a component cured from such a photosensitive resin composition.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • C08G 73/10 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C09D 179/08 - PolyimidesPolyesterimidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

33.

POLYMER COMPOUND FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, AND COMPOSITION FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM CONTAINING SAME

      
Numéro d'application KR2023019681
Numéro de publication 2024/128647
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-12-01
Date de publication 2024-06-20
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ju, Dong Kyu
  • Kim, Hyun Jin
  • Lee, Jung Youl
  • Kim, Tae Ik
  • Choi, Chang Sik

Abrégé

Provided is a polymer compound for forming a resist underlayer film that can lower the optimal exposure amount of a resist film without affecting the shape of the resist pattern film after development. According to one aspect, provided is a polymer compound for forming a resist underlayer film, the compound comprising a repeating unit represented by general formula 1.

Classes IPC  ?

  • C08F 220/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
  • C08F 220/22 - Esters contenant un halogène
  • C08F 220/28 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle ne contenant pas de cycles aromatiques dans la partie alcool
  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p. ex. couches d'ancrage

34.

COMPOUND FOR CAPPING LAYER AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING SAME

      
Numéro d'application 18401072
Statut En instance
Date de dépôt 2023-12-29
Date de la première publication 2024-06-13
Propriétaire
  • DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
  • SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Kim, Hee Joo
  • Kim, Dong Jun
  • Han, Jeong Woo
  • Lee, Hyung Jin
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel
  • Cho, Ill Hun
  • Lee, Bo Ra
  • Park, Yeong Rong
  • Oh, Il Soo
  • Lee, Dae Woong
  • Im, Hyeon Jeong

Abrégé

A novel compound for a capping layer, and an organic light-emitting device containing the same are disclosed.

Classes IPC  ?

  • C07C 233/65 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
  • C07C 233/10 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone acycliques ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués avec des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone d'un squelette carboné non saturé contenant des cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
  • C07C 233/66 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'halogène ou par des groupes nitro ou nitroso
  • C07C 233/67 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'oxygène liés par des liaisons simples
  • C07C 233/77 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino
  • C07C 321/26 - Thiols
  • C07D 401/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 407/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 409/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 413/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'azote et d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 417/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre et d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si
  • H10K 50/858 - Dispositifs pour extraire la lumière des dispositifs comprenant des moyens de réfraction, p. ex. des lentilles
  • H10K 85/60 - Composés organiques à faible poids moléculaire

35.

COMPOUND FOR CAPPING LAYER AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING SAME

      
Numéro d'application 18401080
Statut En instance
Date de dépôt 2023-12-29
Date de la première publication 2024-06-13
Propriétaire
  • DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
  • SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Min, Byung Cheol
  • Kim, Hee Joo
  • Kim, Dong Jun
  • Lee, Hyung Jin
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel
  • Park, Yeong Rong
  • Lee, Dae Woong
  • Oh, Il Soo
  • Lee, Bo Ra
  • Im, Hyeon Jeong
  • Cho, Ill Hun

Abrégé

A novel compound for a capping layer, and an organic light-emitting device containing the same are disclosed.

Classes IPC  ?

  • C07C 233/65 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
  • C07C 233/58 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
  • C07C 233/66 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'halogène ou par des groupes nitro ou nitroso
  • C07C 233/74 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'oxygène liés par des liaisons simples avec le radical hydrocarboné substitué lié à l'atome d'azote du groupe carboxamide par un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons
  • C07C 233/79 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino avec le radical hydrocarboné substitué lié à l'atome d'azote du groupe carboxamide par un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons
  • C07C 255/46 - Nitriles d'acides carboxyliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons à des atomes de carbone de cycles non condensés
  • C07C 321/22 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures ayant des groupes thio liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
  • C07D 211/16 - Composés hétérocycliques contenant des cycles pyridiques hydrogénés, non condensés avec d'autres cycles avec uniquement des atomes d'hydrogène et de carbone liés directement à l'atome d'azote du cycle ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux ne contenant que des atomes de carbone et d'hydrogène liés aux atomes de carbone du cycle l'atome d'azote du cycle étant acylé
  • C07D 213/81 - AmidesImides
  • C07D 239/28 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazine-1, 3 ou diazine-1, 3 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles comportant au moins trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, liés directement aux atomes de carbone du cycle
  • C07D 251/24 - Composés hétérocycliques contenant des cycles triazine-1, 3, 5 non condensés avec d'autres cycles comportant trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des atomes d'hydrogène ou de carbone liés directement à au moins un atome de carbone du cycle à trois atomes de carbone du cycle
  • C07D 295/32 - Atomes d'azote acylés par des acides carboxyliques ou par l'acide carbonique, ou par leurs analogues soufrés ou azotés
  • C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si
  • H10K 50/858 - Dispositifs pour extraire la lumière des dispositifs comprenant des moyens de réfraction, p. ex. des lentilles

36.

METHOD FOR FORMING INSULATING FILM PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE

      
Numéro d'application KR2023095069
Numéro de publication 2024/117887
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-11-13
Date de publication 2024-06-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Lee, Han Jin
  • Lee, Jae Woo
  • Kim, Jun Young
  • Yeo, So Jeong
  • Kim, Hwan Soo
  • Sim, Jang Keun
  • Kim, Pil Soo
  • Lee, Gyeong A
  • Bok, Cheol Kyu

Abrégé

The present invention provides a method for forming an insulating film pattern, comprising the steps of: providing a substrate including two or more different types dielectric film areas; selectively forming a barrier film on the substrate so as to include an a first area in which a barrier film is formed and a second area in which a barrier film is not formed or a barrier film is relatively less formed; selectively forming an insulating film on the second area; and etching a portion of the upper part of the insulating film.

Classes IPC  ?

  • H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
  • H01L 21/32 - Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes pour former des couches isolantes en surface, p. ex. pour masquer ou en utilisant des techniques photolithographiquesPost-traitement de ces couchesEmploi de matériaux spécifiés pour ces couches en utilisant des masques
  • H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
  • C23C 16/40 - Oxydes

37.

MEMBRANE ELECTRODE ASSEMBLY AND FUEL CELL COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2023014075
Numéro de publication 2024/117486
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-09-18
Date de publication 2024-06-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kim, Nam Hoon
  • Kim, Sang Uk
  • Im, Jeong Hyuk
  • Kim, Tae Yoon
  • Choi, Dong Woong

Abrégé

One embodiment of the present invention provides a membrane electrode assembly comprising a first electrode unit, a second electrode unit, and an electrolyte membrane, each electrode unit comprising a catalyst layer and a gas diffusion layer, and the catalyst layer comprising platinum and a carbon support, wherein the platinum load in the electrode unit is 1.5-5 mg/cm2.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/92 - Métaux du groupe du platine
  • H01M 4/88 - Procédés de fabrication
  • H01M 8/2418 - Groupement en arrangeant les éléments élémentaires dans un plan
  • H01M 8/10 - Éléments à combustible avec électrolytes solides

38.

CONDUCTIVE SLURRY FOR SECONDARY BATTERY ELECTRODE, SECONDARY BATTERY ELECTRODE, AND SECONDARY BATTERY COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2023017840
Numéro de publication 2024/117594
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-11-08
Date de publication 2024-06-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Han, Ju Kyung
  • Yang, Hwi Chan
  • Lee, Soo Yeon
  • Lee, Joo Cheol
  • Cho, Young Hoon
  • Gim, Hyeon Seo

Abrégé

Provided is a conductive slurry for a secondary battery electrode that reduces the viscosity of a conductive slurry while simultaneously reducing the surface resistance of a film made from the conductive slurry. One embodiment of the present invention provides a conductive slurry for a secondary battery electrode comprising: a conductive material; and a dispersant, wherein the dispersant comprises a cellulose-based compound and an organic acid salt.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p. ex. liants, charges
  • H01M 4/134 - Électrodes à base de métaux, de Si ou d'alliages
  • H01M 10/052 - Accumulateurs au lithium
  • H01M 4/02 - Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif

39.

COMPOUND FOR CAPPING LAYER AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING SAME

      
Numéro d'application 18401076
Statut En instance
Date de dépôt 2023-12-29
Date de la première publication 2024-05-16
Propriétaire
  • DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
  • SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Kim, Hee Joo
  • Kim, Dong Jun
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel
  • Lee, Sung Kyu
  • Je, Hwan Il
  • Lee, Bo Ra
  • Park, Yeong Rong
  • Oh, Il Soo
  • Lee, Dae Woong
  • Im, Hyeon Jeong
  • Cho, Ill Hun

Abrégé

A novel compound for a capping layer, and an organic light-emitting device containing the same are disclosed.

Classes IPC  ?

  • C07C 233/63 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes carboxyle
  • C07C 237/26 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des groupes amino ayant l'atome de carbone d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné d'un cycle faisant partie d'un système cyclique condensé formé par au moins quatre cycles, p. ex. tétracycline
  • C07C 257/16 - Composés contenant des groupes carboxyle, l'atome d'oxygène, lié par une liaison double, d'un groupe carboxyle étant remplacé par un atome d'azote lié par une liaison double, cet atome d'azote n'étant pas lié de plus à un atome d'oxygène, p. ex. imino-éthers, amidines avec remplacement de l'autre atome d'oxygène du groupe carboxyle par des atomes d'azote, p. ex. amidines ayant des atomes de carbone de groupes amidino liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
  • C07C 323/62 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des groupes carboxyle liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné
  • C07C 327/46 - Amides d'acides thiocarboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes thiocarboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
  • C07D 401/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 407/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 409/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 413/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'azote et d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 417/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre et d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 519/00 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs systèmes de plusieurs hétérocycles déterminants condensés entre eux ou condensés avec un système carbocyclique commun non prévus dans les groupes ou
  • H10K 50/858 - Dispositifs pour extraire la lumière des dispositifs comprenant des moyens de réfraction, p. ex. des lentilles
  • H10K 59/80 - Détails de structure
  • H10K 85/60 - Composés organiques à faible poids moléculaire

40.

COMPOUND FOR CAPPING LAYER AND ORGANIC LIGHT EMITTING DEVICE INCLUDING SAME

      
Numéro d'application 18401078
Statut En instance
Date de dépôt 2023-12-29
Date de la première publication 2024-05-16
Propriétaire
  • DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
  • SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Kim, Hee Joo
  • Kim, Dong Jun
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel
  • Lee, Sung Kyu
  • Lee, Tae Jin
  • Lee, Bo Ra
  • Park, Yeong Rong
  • Oh, Il Soo
  • Lee, Dae Woong
  • Im, Hyeon Jeong
  • Cho, Ill Hun

Abrégé

A novel compound for a capping layer, and an organic light-emitting device containing the same are disclosed.

Classes IPC  ?

  • H10K 50/858 - Dispositifs pour extraire la lumière des dispositifs comprenant des moyens de réfraction, p. ex. des lentilles
  • C07C 233/58 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
  • C07C 233/60 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'oxygène liés par des liaisons simples
  • C07C 255/46 - Nitriles d'acides carboxyliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons à des atomes de carbone de cycles non condensés
  • C07C 323/40 - Y étant un atome d'hydrogène ou de carbone
  • C07D 209/08 - IndolesIndoles hydrogénés avec uniquement des atomes d'hydrogène ou des radicaux ne contenant que des atomes d'hydrogène et de carbone, liés directement aux atomes de carbone de l'hétérocycle
  • C07D 211/98 - Atome d'azote
  • C07D 295/32 - Atomes d'azote acylés par des acides carboxyliques ou par l'acide carbonique, ou par leurs analogues soufrés ou azotés
  • C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si

41.

Positive photosensitive resin composition and display device using the same

      
Numéro d'application 17767873
Numéro de brevet 12216403
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2020-10-08
Date de la première publication 2024-04-11
Date d'octroi 2025-02-04
Propriétaire DONJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Shin, Kyoungsoon
  • Youn, Hyoc-Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Kim, Dong Myung
  • Lee, Gi Seon
  • Park, Ah Rum
  • Lee, Seok Hyeon

Abrégé

This invention relates to a positive photosensitive resin composition that includes a siloxane copolymer of two kinds of reactive silane compounds with specific structures wherein residual impurities such as unreacted monomers and catalysts are minimized, and a UV absorber including one or more kinds of phenol hydroxyl groups capable of crosslinking and an alkoxy group. Accordingly, the resin composition exhibits excellent performances such as sensitivity, resolution, and degree of planarization, and also has excellent weatherability and UV absorbance, thereby providing excellent panel reliability.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/022 - Quinonediazides
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium

42.

CURABLE COMPOSITION

      
Numéro d'application 18464588
Statut En instance
Date de dépôt 2023-09-11
Date de la première publication 2024-04-11
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kwon, Young Jin
  • Son, Seong Chan
  • Kim, Jin Wuk
  • Kim, Dong Min
  • Byeon, Ja Hun

Abrégé

A curable composition is provided. The curable composition can eliminate or minimize the generation of bubbles inside the cured product after the initiation reaction of the curable monomer, prevent expansion of a material when used to encapsulate a device, and provide a uniform cured product to solve the problem of separation between the upper and lower substrates bonded together, thereby improving device encapsulation performance.

Classes IPC  ?

  • C08F 122/10 - Esters
  • C08F 120/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
  • C08F 122/20 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
  • C09D 133/14 - Homopolymères ou copolymères d'esters d'esters contenant des atomes d'halogène, d'azote, de soufre ou d'oxygène en plus de l'oxygène du radical carboxyle
  • C09D 135/02 - Homopolymères ou copolymères d'esters
  • H10K 59/80 - Détails de structure

43.

PHOTO-CURABLE COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF, AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application 18502573
Statut En instance
Date de dépôt 2023-11-06
Date de la première publication 2024-03-21
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Yeo, Tai Hoon
  • Youn, Hyoc Min
  • Lee, Sang Hoon
  • Park, Jong Hyuk
  • Lee, Jea Young
  • Kim, Ja Young

Abrégé

The present disclosure relates to a photo-curable composition, a cured product thereof, and an optical member and a display device comprising same. The photo-curable composition has excellent low refractive index, light transmittance, and low haze characteristics by comprising a first olefinic monomer containing fluorine, a second olefinic monomer having an absolute viscosity of 7 cP or less at 25° C., a photo-polymerization initiator, and an amine compound.

Classes IPC  ?

  • C08F 210/06 - Propène
  • C08F 210/02 - Éthylène
  • C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
  • C08F 220/30 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des cycles aromatiques dans la partie alcool
  • G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques

44.

ORGANIC LAYER POLISHING COMPOSITION AND METHOD FOR POLISHING USING SAME

      
Numéro d'application 18512948
Statut En instance
Date de dépôt 2023-11-17
Date de la première publication 2024-03-14
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kim, Hee Suk
  • Lee, Goo Hwa
  • Yoo, Jae Hong
  • Park, Jong Dai
  • Kim, Jae Hyun

Abrégé

The present disclosure relates to an organic film polishing composition in which a high polishing speed is maintained not only for polymers, an SOC, and an SOH, but also for organic films strongly bonded by covalent bonds such as an amorphous carbon layer (ACL) or a diamond-like carbon (DLC) by including a polishing accelerator containing both a hydrophilic group and a hydrophobic group, and a polishing method using the same.

Classes IPC  ?

  • C09G 1/02 - Compositions de produits à polir contenant des abrasifs ou agents de polissage

45.

CURED FILM, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION CONSTITUTING SAME, AND DISPLAY DEVICE

      
Numéro d'application KR2023008329
Numéro de publication 2024/025150
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-15
Date de publication 2024-02-01
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Youn, Hyoc Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Kim, Dong Myung
  • Lee, Sun Hee
  • Park, Ah Rum
  • Jang, Gun Seok
  • Lee, Seok Hyun
  • Oh, Nu Ri
  • Park, Ki Hyun
  • Kang, Seok Min
  • Koo, Ja Yong

Abrégé

Provided is a cured film having a novel parameter derived therefor so as to improve device reliability. One embodiment of the present invention provides a cured film made by curing a photosensitive resin composition, wherein the photosensitive resin composition comprises an alkali-soluble resin and a photoactive compound (PAC), and, when the cured film is subjected to purge-and-trap analysis at 250°C for 60 minutes, phenolic gas accounts for 30% (v/v) or less of the total outgassing.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • C08L 75/04 - Polyuréthanes
  • H10K 50/00 - Dispositifs organiques émetteurs de lumière

46.

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2023006798
Numéro de publication 2024/014689
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-05-18
Date de publication 2024-01-18
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Youn, Hyoc Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Kim, Dong Myung
  • Lee, Sun Hee
  • Jang, Gun Seok
  • Lee, Seok Hyun
  • Oh, Nu Ri
  • Park, Ah Rum

Abrégé

122 includes a molecular structure represented by general formula 3.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • C08L 75/04 - Polyuréthanes
  • H10K 50/00 - Dispositifs organiques émetteurs de lumière

47.

POSITIVE PHOTORESIST RESIN COMPOSITION AND INSULATING FILM AND DISPLAY DEVICE BASED THEREON

      
Numéro d'application 18467941
Statut En instance
Date de dépôt 2023-09-15
Date de la première publication 2024-01-04
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Yeo, Tai Hoon
  • Youn, Hyoc Min
  • Kim, Dong Myung
  • Lee, Sun Hee
  • Park, Ah Rum
  • Jang, Gun Seok
  • Lee, Seok Hyun
  • Oh, Nu Ri
  • Song, In Ho

Abrégé

A positive-type photosensitive resin composition, an insulating film made from the same, and a display device including such insulating film are provided. The positive photosensitive resin composition is excellent in sensitivity and has excellent chemical resistance, heat resistance, and hygroscopicity by including a polymer containing a hydroxyl group.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • C08G 73/10 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08F 220/42 - Nitriles
  • C08L 79/08 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08L 35/04 - Homopolymères ou copolymères des nitriles

48.

DISPLAY DEVICE AND PHOTO-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR SAME

      
Numéro d'application KR2023005592
Numéro de publication 2023/234561
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-04-25
Date de publication 2023-12-07
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Youn, Hyoc-Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Lee, Sang-Hoon
  • Hwang, Chi Yong
  • Lee, Min-Young

Abrégé

The present invention relates to a display device and a photo-sensitive resin composition that can be applied thereto, and the photo-sensitive resin composition has excellent sensitivity, coatability, bubble defoaming properties, liquid repellency in an exposed portion, and spreadability in a non-exposed portion, etc., and may form an optical member exhibiting improved optical properties, thereby being suitable for forming partition walls for various display devices such as OLEDs.

Classes IPC  ?

  • H10K 59/38 - Dispositifs spécialement adaptés à l'émission de lumière multicolore comprenant des filtres de couleur ou des supports changeant de couleur [CCM]
  • G03F 7/031 - Composés organiques non couverts par le groupe
  • G03F 7/033 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p. ex. polymères vinyliques
  • G03F 7/00 - Production par voie photomécanique, p. ex. photolithographique, de surfaces texturées, p. ex. surfaces impriméesMatériaux à cet effet, p. ex. comportant des photoréservesAppareillages spécialement adaptés à cet effet
  • C08F 265/06 - Polymérisation d'esters acryliques ou méthacryliques sur des polymères de ces esters
  • C08F 220/22 - Esters contenant un halogène
  • C08F 222/10 - Esters
  • C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
  • C08F 2/44 - Polymérisation en présence d'additifs, p. ex. plastifiants, matières colorantes, charges
  • C08K 3/04 - Carbone

49.

ANODE ACTIVE MATERIAL, ANODE, AND SECONDARY BATTERY COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2023006582
Numéro de publication 2023/224347
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-05-16
Date de publication 2023-11-23
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kang, Yang Won
  • Nam, Jae Bin
  • Lim, Hyung Woo
  • Lee, Joo Cheol
  • Yang, Hui Chan

Abrégé

Provided is an anode active material, of which conductivity and durability are enhanced by repairing damage to silicon crystals during a secondary granulation process. An embodiment of the present invention provides an anode active material comprising: secondary silicon particles each resulting from aggregation of primary silicon particles; and a carbon layer on the secondary silicon particles, wherein formula 1 is satisfied in the differential capacity plot for a half-cell comprising the anode active material.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/38 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'éléments simples ou d'alliages
  • H01M 4/36 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs
  • H01M 4/134 - Électrodes à base de métaux, de Si ou d'alliages
  • H01M 10/0525 - Batteries du type "rocking chair" ou "fauteuil à bascule", p. ex. batteries à insertion ou intercalation de lithium dans les deux électrodesBatteries à l'ion lithium
  • H01M 4/02 - Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif

50.

PRECURSOR COMPOUND FOR FORMING METAL FILM AND METAL FILM USING SAME

      
Numéro d'application KR2023006373
Numéro de publication 2023/219428
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-05-10
Date de publication 2023-11-16
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Yun, Ha Kyung
  • Yeo, So Jeong
  • Lee, Jae Woo
  • Kim, Jun Young
  • Sim, Jang Keun
  • Lee, Han Jin
  • Kim, Pil Soo
  • Kim, Jae-Hyun
  • Bok, Cheol Kyu

Abrégé

The present invention relates to a precursor compound, containing molybdenum, for forming a metal film and a metal film using same, wherein the precursor compound has excellent reactivity with a substrate or a reactive gas and high volatility and can form a metal thin film with a low content of impurities in a wide temperature range, especially, even at a low temperature.

Classes IPC  ?

  • C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction
  • C23C 16/18 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique à partir de composés organométalliques
  • C23C 16/34 - Nitrures
  • C07F 11/00 - Composés contenant des éléments des groupes 6 ou 16 du tableau périodique

51.

CONDUCTOR PRE-DISPERSION SLURRY FOR SECONDARY BATTERY ELECTRODE, PREPARATION METHOD THEREFOR, ELECTRODE MANUFACTURED BY APPLYING CONDUCTOR PRE-DISPERSION SLURRY, AND SECONDARY BATTERY COMPRISING SAME ELECTRODE

      
Numéro d'application 18338640
Statut En instance
Date de dépôt 2023-06-21
Date de la première publication 2023-10-19
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kim, Hyeong Cheol
  • Huh, Chul
  • Yang, Hwi Chan
  • Lee, Joo Cheol
  • Han, Ju Kyung
  • An, Woo Hyun

Abrégé

A conductive material pre-dispersed slurry for a secondary battery electrode includes: a conductive material; a dispersant for dispersing the conductive material; and a solvent mixed with the conductive material and the dispersant. The dispersant includes a cellulose-based compound and a vinyl-based or acrylic compound, and the cellulose-based compound and the vinyl-based or acrylic compound in the dispersant have a weight ratio of about 25:1 to 1:25.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p. ex. liants, charges
  • C09D 5/24 - Peintures électriquement conductrices
  • C09D 7/65 - Adjuvants macromoléculaires
  • C09D 7/45 - Agents de suspension
  • C09D 7/61 - Adjuvants non macromoléculaires inorganiques
  • C09D 7/40 - Adjuvants
  • C09D 7/80 - Procédés pour l'incorporation d'ingrédients
  • C09D 139/06 - Homopolymères ou copolymères de N-vinylpyrrolidones
  • C09D 129/04 - Alcool polyvinyliqueHomopolymères ou copolymères partiellement hydrolysés d'esters d'alcools non saturés avec des acides carboxyliques saturés
  • C09D 133/02 - Homopolymères ou copolymères d'acidesLeurs sels métalliques ou d'ammonium
  • C09D 133/26 - Homopolymères ou copolymères de l'acrylamide ou du méthacrylamide
  • C09D 101/28 - Éthers d'alkyle

52.

POLYMER AND COMPOSITION FOR FORMING AN ANTI-REFLECTIVE FILM AND METHOD OF MANUFACTURING AN INTEGRATED CIRCUIT DEVICE USING THE ANTI-REFLECTIVE FILM

      
Numéro d'application 18133166
Statut En instance
Date de dépôt 2023-04-11
Date de la première publication 2023-08-03
Propriétaire
  • SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. (République de Corée)
  • Dongjin Semichem Co., Ltd. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kang, Miyeong
  • Hong, Sukkoo
  • Kim, Hyereun
  • Kim, Jihyun
  • Kim, Hyunjin
  • Roh, Hyojung
  • Park, Jongkyoung
  • Lee, Jungyoul

Abrégé

A polymer having a repeating unit represented by Formula 1: A polymer having a repeating unit represented by Formula 1: wherein each of R1, R2, and R3 is independently selected from a substituted or unsubstituted C1-C6 chain-like saturated or unsaturated hydrocarbon group having 0 to 2 first heteroatoms or a substituted or unsubstituted C3-C6 cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group having 0 to 2 first heteroatoms, wherein at least one of R1, R2, and R3 is a hydrocarbon group substituted with a fluorine atom. R4 is a C1-C10 chain-like saturated or unsaturated hydrocarbon group having 0 to 2 second heteroatoms or a C3-C10 cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group having 0 to 2 second heteroatoms. R5 is a C1-C10 chain-like saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 6 third heteroatoms or a C3-C10 cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 6 third heteroatoms.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/09 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires
  • C08G 18/79 - Polyisocyanates ou polyisothiocyanates contenant des hétéro-atomes autres que l'azote, l'oxygène ou le soufre de l'isocyanate ou de l'isothiocyanate de l'azote caractérisés par le polyisocyanate utilisé, celui-ci contenant des groupes formés par oligomérisation d'isocyanates ou d'isothiocyanates
  • C08G 18/38 - Composés de bas poids moléculaire contenant des hétéro-atomes autres que l'oxygène
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • C09D 175/04 - Polyuréthanes
  • G03F 7/038 - Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables

53.

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND DISPLAY APPARATUS

      
Numéro d'application KR2022017886
Numéro de publication 2023/128264
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-11-14
Date de publication 2023-07-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Youn, Hyoc Min
  • Kim, Jin Sun
  • Jeong, Jong Ho
  • Ryu, Young Jun
  • Ahn, Chang Hwan
  • Jeon, Seung Han

Abrégé

Provided is a photosensitive resin composition capable of forming, during pattern formation in a low-temperature curing process, a forward-tapered shape and implementing a cured film with a high hardness. One embodiment of the present invention provides a photosensitive resin composition comprising 100 parts by weight of an alkali-soluble resin, 2-40 parts by weight of an initiator, 2-100 parts by weight of a multifunctional compound, a plasticizer in an amount of greater than 1 part by weight and less than or equal to 30 parts by weight, and an epoxy-based additive in an amount of greater than 0 part by weight and less than or equal to 15 parts by weight.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/028 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des substances accroissant la photosensibilité, p. ex. photo-initiateurs
  • G03F 7/033 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p. ex. polymères vinyliques
  • G03F 7/105 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des substances, p. ex. des indicateurs, pour obtenir des images visibles
  • G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet

54.

SOLAR CELL AND METHOD FOR FORMING SAME

      
Numéro d'application KR2022020194
Numéro de publication 2023/128396
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-12-13
Date de publication 2023-07-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Lee, Dong Hyun
  • Ryu, Kuk Hyeon

Abrégé

A solar cell and a method for forming the solar cell are provided. The solar cell comprises: a substrate; and a plurality of unit cells each including a first electrode, an active layer, and a second electrode, wherein the unit cells are spaced apart from each other to expose the substrate. The present invention has an insulating structure or a non-power generation region in which the unit cells are spaced apart from each other to expose the substrate, thereby minimizing leakage current and increasing the power generation efficiency of a photovoltaic device.

Classes IPC  ?

  • H10K 30/00 - Dispositifs organiques sensibles au rayonnement infrarouge, à la lumière, au rayonnement électromagnétique de plus courte longueur d'onde ou au rayonnement corpusculaire
  • H10K 30/80 - Détails de structure

55.

GRAPHITE OXIDE, GRAPHENE OXIDE, AND REDUCED GRAPHENE OXIDE

      
Numéro de document 03242097
Statut En instance
Date de dépôt 2022-11-01
Date de disponibilité au public 2023-07-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • An, Woo Hyun
  • Lee, Joo Cheol
  • Yang, Hwi Chan
  • Kim, Seung Du

Abrégé

The present invention relates to graphite oxide, graphene oxide, and reduced graphene oxide and, more specifically, to graphite oxide, graphene oxide, and reduced graphene oxide in which graphene oxide includes 25 to 45 at% of oxygen (O) and is effectively exfoliated from graphite oxide, and can embody excellent powder conductivity after reduction.

Classes IPC  ?

56.

COMPOUND, RESIST UNDERLAYER FILM COMPOSITION INCLUDING SAME, AND RESIST UNDERLAYER FILM

      
Numéro d'application 18090313
Statut En instance
Date de dépôt 2022-12-28
Date de la première publication 2023-07-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Lim, Young Bae
  • Kim, Hyun Jin
  • Kim, Jong Won
  • Kim, Ji Hyun
  • Kim, Bo Lyong
  • Kim, Kun Hee
  • Cho, Eun Jeong
  • Lee, Seung Mook
  • Chang, Sang Hoon

Abrégé

A compound with enhanced etching resistance, gap-filling properties, and heat resistance includes a repeating unit represented by Formula 1. A compound with enhanced etching resistance, gap-filling properties, and heat resistance includes a repeating unit represented by Formula 1.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/09 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires
  • C08F 112/32 - Monomères ne contenant qu'un seul radical aliphatique non saturé contenant plusieurs cycles

57.

LOW-REFRACTIVE-INDEX THERMOSETTING COMPOSITION, OPTICAL MEMBER FORMED THEREFROM, AND DISPLAY DEVICE

      
Numéro d'application 18179742
Statut En instance
Date de dépôt 2023-03-07
Date de la première publication 2023-07-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Yeo, Tai Hoon
  • Youn, Hyoc Min
  • Lee, Sang Hoon
  • Park, Jong Hyuk
  • Park, Hyun Kyung

Abrégé

The present disclosure relates to a thermosetting composition, an optical member formed therefrom, and a display device, the composition comprising a thermosetting resin, gas-containing particles and a monomer or an oligomer having two or more thermosetting functional groups, thereby having optical effects such as a low refractive index of 1.40 or less on light with a wavelength of 450 nm, high light transmittance, and low haze.

Classes IPC  ?

  • C08L 63/00 - Compositions contenant des résines époxyCompositions contenant des dérivés des résines époxy
  • C08K 7/26 - Composés contenant du silicium
  • C08K 3/011 - Agents de réticulation ou de vulcanisation, p. ex. accélérateurs

58.

GRAPHITE OXIDE, GRAPHENE OXIDE, AND REDUCED GRAPHENE OXIDE

      
Numéro d'application KR2022016903
Numéro de publication 2023/128209
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-11-01
Date de publication 2023-07-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • An, Woo Hyun
  • Lee, Joo Cheol
  • Yang, Hwi Chan
  • Kim, Seung Du

Abrégé

The present invention relates to graphite oxide, graphene oxide, and reduced graphene oxide and, more specifically, to graphite oxide, graphene oxide, and reduced graphene oxide in which graphene oxide includes 25 to 45 at% of oxygen (O) and is effectively exfoliated from graphite oxide, and can embody excellent powder conductivity after reduction.

Classes IPC  ?

59.

METHOD FOR FORMATION OF INSULATION FILM PATTERN, PRECURSOR USED FOR PATTERN FORMATION, AND SEMICONDUCTOR DEVICE

      
Numéro d'application KR2022019298
Numéro de publication 2023/128331
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-11-30
Date de publication 2023-07-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Yun, Ha Kyung
  • Lee, Jae Woo
  • Kim, Jun Young
  • Weo, So Jeong
  • Lee, Han Jin
  • Kim, Pil Soo
  • Sim, Jang Keun
  • Bok, Cheoi Kyu

Abrégé

The present invention provides a method for formation of an insulation film pattern, the method comprising the steps of: providing a substrate including two or more different types of dielectric film regions; selectively forming a blocking film on the substrate to include a first region where a blocking film is formed and a second region where no or relatively little blocking film is formed, whereby a difference in water contact angle between the first region and the second region ranges from 7 to 50 degrees (Deg).

Classes IPC  ?

  • C23C 16/04 - Revêtement de parties déterminées de la surface, p. ex. au moyen de masques
  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/24 - Dépôt uniquement de silicium
  • C23C 16/455 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement caractérisé par le procédé utilisé pour introduire des gaz dans la chambre de réaction ou pour modifier les écoulements de gaz dans la chambre de réaction

60.

SILICONE RESIN, COATING COMPOSITION COMPRISING SAME, AND CURED PRODUCT THEREOF

      
Numéro d'application KR2022021241
Numéro de publication 2023/128497
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-12-23
Date de publication 2023-07-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Shin, Woo Seung
  • Nam, Dong Jin
  • Oh, Seong Yeon
  • Lim, Kook Hee
  • Chung, Jai Young
  • Choi, Seung Sock
  • Park, Han Bin

Abrégé

The present invention relates to a silicone resin, a coating composition comprising same, and a cured product thereof and, more particularly, to a silicone resin, a coating composition comprising same, and a cured product thereof, wherein the silicone resin comprises a hollow silica structure and a silsesquioxane structure bonded to the hollow silica structure, contains 1.0% by weight or less of a hydroxyl group with respect to the total weight of the silicone resin, and can realize a low refractive index, excellent coating properties, and high solution stability without a separate dispersion process.

Classes IPC  ?

  • C08K 9/06 - Ingrédients traités par des substances organiques par des composés contenant du silicium
  • C08K 7/26 - Composés contenant du silicium
  • C08K 5/5415 - Composés contenant du silicium contenant de l'oxygène contenant au moins une liaison Si—O
  • C08L 83/04 - Polysiloxanes
  • C09D 183/04 - Polysiloxanes

61.

ADHESIVE COMPOSITION

      
Numéro d'application KR2022021444
Numéro de publication 2023/128581
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-12-27
Date de publication 2023-07-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Bae, Min Young
  • Kang, Hwa Seung
  • Byeon, Ja Hun
  • Kim, Dong Min
  • Kim, Jin Wuk

Abrégé

The present invention provides: an adhesive composition including a curable resin, an initiator, a getter, and a cross-linking agent; a cured body and a dam structure, in which the adhesive composition is cured; and a display device including the dam structure.

Classes IPC  ?

  • C09J 163/00 - Adhésifs à base de résines époxyAdhésifs à base de dérivés des résines époxy
  • C09J 135/00 - Adhésifs à base d'homopolymères ou de copolymères de composés possédant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chacun ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un radical carboxyle, et contenant au moins un autre radical carboxyle dans la molécule, ou leurs sels, anhydrides, esters, amides, imides ou nitrilesAdhésifs à base de dérivés de tels polymères
  • C09J 11/04 - Additifs non macromoléculaires inorganiques
  • C09J 11/06 - Additifs non macromoléculaires organiques
  • C08K 3/22 - OxydesHydroxydes de métaux

62.

THREE-DIMENSIONAL IMAGE-VARYING DEVICE AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2022021676
Numéro de publication 2023/128679
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-12-29
Date de publication 2023-07-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Choi, Jin Wook
  • Lee, Ik Soo

Abrégé

The present invention provides a three-dimensional image-varying device and a display device comprising same, the three-dimensional image-varying device comprising: a base material; a liquid crystal unit including a first liquid crystal electrode on the base material and a liquid crystal layer which is on the first liquid crystal electrode and which selectively blocks 2D polarization and 3D polarization; a lenticular lens unit on the liquid crystal unit; and a cover material on the lenticular lens unit.

Classes IPC  ?

  • G02B 30/27 - Systèmes ou appareils optiques pour produire des effets tridimensionnels [3D], p. ex. des effets stéréoscopiques en fournissant des première et seconde images de parallaxe à chacun des yeux gauche et droit d’un observateur du type autostéréoscopique comprenant des réseaux lenticulaires
  • G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
  • G06F 3/041 - Numériseurs, p. ex. pour des écrans ou des pavés tactiles, caractérisés par les moyens de transduction
  • H04N 13/305 - Reproducteurs d’images pour visionnement sans avoir recours à des lunettes spéciales, c.-à-d. utilisant des affichages autostéréoscopiques utilisant des lentilles lenticulaires, p. ex. dispositions de lentilles cylindriques

63.

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

      
Numéro d'application 18173765
Statut En instance
Date de dépôt 2023-02-23
Date de la première publication 2023-06-29
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Youn, Hyoc Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Kim, Dong Myung
  • Park, Ah Rum
  • Jang, Gun Seok
  • Lee, Seok Hyun
  • Oh, Nu Ri
  • Song, In Ho
  • Lee, Sun Hee

Abrégé

A positive photosensitive resin composition and, more specifically, a positive photosensitive resin composition includes an alkali-soluble polymer resin comprising a polyimide precursor comprising a specific chemical structure; a quinone diazide compound; and a solvent. The positive photosensitive resin composition is a suitable matter for next-generation flexible displays and semiconductor packages.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G03F 7/085 - Compositions photosensibles caractérisées par les additifs non macromoléculaires augmentant l'adhérence
  • C08G 73/10 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

64.

POLYIMIDE-BASED COMPOSITION AND POLYIMIDE FILM

      
Numéro d'application 18089140
Statut En instance
Date de dépôt 2022-12-27
Date de la première publication 2023-06-29
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Jung, Jae Hoon
  • Kim, Jin Wuk
  • Kim, Dong Min
  • Seo, Young Ho
  • Cho, Young Woon
  • Yun, Hwi Young
  • Hwang, Nam Hee

Abrégé

A polyimide-based composition includes a polyimide precursor and a solvent, in which the polyimide precursor includes repeating units represented by Chemical Formula 1 to 3. A polyimide film is also made from the composition. A polyimide-based composition includes a polyimide precursor and a solvent, in which the polyimide precursor includes repeating units represented by Chemical Formula 1 to 3. A polyimide film is also made from the composition.

Classes IPC  ?

  • C08G 73/10 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08J 5/18 - Fabrication de bandes ou de feuilles
  • C09D 179/08 - PolyimidesPolyesterimidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C09D 7/20 - Diluants ou solvants

65.

CONDUCTIVE AGENT SLURRY FOR SECONDARY BATTERY ELECTRODE, SECONDARY BATTERY ELECTRODE INCLUDING SAME, AND SECONDARY BATTERY

      
Numéro d'application KR2022016907
Numéro de publication 2023/120953
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-11-01
Date de publication 2023-06-29
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Han, Jukyung
  • Huh, Chul
  • Yang, Hwi Chan
  • Lee, Joocheol
  • Kim, Hyeongcheol

Abrégé

Provided is a conductive agent slurry for a secondary battery electrode, which has low viscosity and low sheet resistance. The conductive agent slurry for a secondary battery electrode, according to the present invention, comprises a conductive agent and a dispersant that disperses the conductive agent, wherein the dispersant comprises a cellulose compound and a conductive polymer, and the amount of the conductive agent is more than 0 wt% and not more than 2.5 wt% with respect to the total weight of the conductive agent slurry for a secondary battery electrode.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p. ex. liants, charges
  • H01M 4/13 - Électrodes pour accumulateurs à électrolyte non aqueux, p. ex. pour accumulateurs au lithiumLeurs procédés de fabrication
  • C01B 32/174 - DérivatisationSolubilisation dans les solvantsDispersion dans les solvants

66.

METHOD OF POLISHING A SUBSTRATE HAVING DEPOSITED AMORPHOUS CARBON LAYER

      
Numéro d'application 18086871
Statut En instance
Date de dépôt 2022-12-22
Date de la première publication 2023-06-29
Propriétaire
  • DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
  • SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kim, Heesuk
  • Lee, Goo Hwa
  • Yoo, Jaehong
  • Park, Jong Dai
  • Kim, Jae Hyun
  • Yun, Juyoung
  • Lee, Jisung
  • Choi, Seonung
  • Lee, Jae-Hwi
  • Ahn, Bong Soo
  • Choi, Sam-Jong

Abrégé

A method of polishing a substrate having amorphous carbon layer deposited thereon removes protrusions on the ACL surface by using a soft pad with a low hardness and a polishing slurry containing non-spherical modified fumed silica with high friction force with the surface.

Classes IPC  ?

  • B24B 37/04 - Machines ou dispositifs de rodageAccessoires conçus pour travailler les surfaces planes

67.

ADHESIVE COMPOSITION WITH EXCELLENT TRANSPARENCY, CURED BODY THEREOF, AND DISPLAY DEVICE COMPRISING CURED BODY

      
Numéro d'application KR2022018040
Numéro de publication 2023/120991
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-11-16
Date de publication 2023-06-29
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Bae, Min Young
  • Byeon, Ja Hun
  • Kang, Hwa Seung
  • Kim, Dong Min
  • Kim, Jin Wuk

Abrégé

The present invention relates to an adhesive composition with excellent transparency and, more specifically, to an adhesive composition, which has excellent adhesion retention while realizing high transparency and low turbidity, through an epoxy-based resin, a cationic initiator, and a low getter content, and thus can be applied to a bezel-less display.

Classes IPC  ?

  • C09J 4/06 - Adhésifs à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
  • C09J 11/04 - Additifs non macromoléculaires inorganiques
  • C08F 222/10 - Esters
  • C08F 220/32 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des radicaux époxyde
  • C08F 290/06 - Polymères prévus par la sous-classe
  • H10K 50/80 - Détails de structure

68.

ADHESIVE COMPOSITION HAVING EXCELLENT ADHESION AND ADHESION RELIABILITY, CURED PRODUCT THEREOF, AND DISPLAY DEVICE COMPRISING CURED PRODUCT

      
Numéro d'application KR2022018203
Numéro de publication 2023/120995
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-11-17
Date de publication 2023-06-29
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Bae, Min Young
  • Byeon, Ja Hun
  • Kang, Hwa Seung
  • Kim, Dong Min
  • Kim, Jin Wuk

Abrégé

The present invention relates to an adhesive composition having excellent adhesion and adhesion reliability and, more particularly, to an adhesive composition having excellent adhesion and adhesion reliability, comprising: a first resin containing a cation-curable functional group as a heterogeneous resin; and a second resin containing a radical-curable functional group.

Classes IPC  ?

  • C09J 4/06 - Adhésifs à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
  • C08F 222/10 - Esters
  • C08F 220/32 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle contenant des radicaux époxyde

69.

NOVEL PHOTOACID GENERATOR, PHOTORESIST COMPOSITION, AND PHOTORESIST PATTERN FORMATION METHOD

      
Numéro d'application KR2021019566
Numéro de publication 2023/113085
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-12-22
Date de publication 2023-06-22
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kim, Jaehyun
  • Hur, Myoung Hyun
  • Kim, Jeong Sik
  • Yoo, Min Ja
  • Lee, Hyung Kun
  • Ji, Chanhyuk
  • Jang, Gyeonghun
  • Ha, Jeongmin

Abrégé

The present invention relates to: a photoacid generator having a novel structure including an anion having a particular polar functional group such as a sulfonate group; a photoresist composition comprising same; and a photoresist pattern formation method.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • C07C 323/20 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné avec des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés à des atomes de carbone du même cycle aromatique à six chaînons non condensé
  • C07C 323/21 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné avec l'atome de soufre du groupe thio lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons faisant partie d'un système cyclique condensé

70.

SALT COMPOUND, AND QUENCHER AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2021019567
Numéro de publication 2023/113086
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2021-12-22
Date de publication 2023-06-22
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kim, Jaehyun
  • Hur, Myoung Hyun
  • Kim, Jeong Sik
  • Yoo, Min Ja
  • Lee, Hyung Kun

Abrégé

The present invention relates to: a salt compound comprising a negative ion having a specific structure represented by chemical formula 1, and a positive ion represented by chemical formula 2; a quencher including the salt compound; and a photoresist composition including the salt compound.

Classes IPC  ?

  • C07C 311/06 - Sulfonamides ayant des atomes de soufre de groupes sulfonamide liés à des atomes de carbone acycliques d'un squelette carboné acyclique saturé ayant les atomes d'azote des groupes sulfonamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone acycliques à des atomes de carbone acycliques de radicaux hydrocarbonés substitués par des groupes carboxyle
  • C07C 311/14 - Sulfonamides ayant des atomes de soufre de groupes sulfonamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
  • C07C 311/17 - Sulfonamides ayant des atomes de soufre de groupes sulfonamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes sulfonamide lié à des atomes d'hydrogène ou à un atome de carbone acyclique à un atome de carbone acyclique d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'oxygène liés par des liaisons simples
  • C07C 321/28 - Sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures ayant des groupes thio liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons
  • C07C 323/22 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons doubles, liés au même squelette carboné
  • C07C 323/66 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes de soufre, ne faisant pas partie de groupes thio, liés au même squelette carboné contenant des atomes de soufre de groupes sulfo, sulfo estérifiés ou halogénosulfonyle, liés au squelette carboné
  • C07C 25/18 - Hydrocarbures halogénés aromatiques polycycliques
  • C07D 319/20 - Dioxanes-1, 4Dioxanes-1, 4 hydrogénés condensés avec des carbocycles ou avec des systèmes carbocycliques condensés avec un cycle à six chaînons avec des substituants liés à l'hétérocycle
  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles

71.

DEVICE FOR PRODUCING AZO COMPOUND

      
Numéro d'application 18171363
Statut En instance
Date de dépôt 2023-02-19
Date de la première publication 2023-06-22
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Shin, Min Seung
  • Kim, Young Gi
  • Choi, Sok Kyun
  • Son, Su Min

Abrégé

A device for producing an azo compound includes a reaction unit in which a first solution comprising a hydrazo compound and at least one type of MaXb; a negative electrode disposed to be in direct contact with the hydrazo compound inside the reaction unit; and a positive electrode disposed inside the reaction unit so as to be in contact with the solution. X is a halogen element, M is at least one selected from the group consisting of hydrogen, Li, Na, K, Mg, Ca, Mn, Fe, Ni, Cu, Ag, Zn, Sn, Zr, and Ti, or at least one selected from the group consisting of a primary ammonium ion, a secondary ammonium ion, and a tertiary ammonium ion, H is hydrogen, and a and b are each independently any one integer between 1 and 4.

Classes IPC  ?

  • C25B 3/09 - Composés contenant au moins un atome d’azote
  • C08J 9/10 - Mise en œuvre de substances macromoléculaires pour produire des matériaux ou objets poreux ou alvéolairesLeur post-traitement utilisant des gaz de gonflage produits par un agent de gonflage introduit au préalable par un agent chimique de gonflage dégageant de l'azote
  • C07C 245/04 - Composés azo, c.-à-d. composés ayant les valences libres de groupes —N=N— attachées à des atomes différents, p. ex. diazohydroxydes avec des atomes d'azote de groupes azo liés à des atomes de carbone acycliques ou à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
  • C25B 3/07 - Composés contenant au moins un atome d’oxygène
  • C25B 3/23 - Oxydation
  • C25B 15/08 - Alimentation ou vidange des réactifs ou des électrolytesRégénération des électrolytes
  • C25B 9/67 - Moyens de chauffage ou de refroidissement
  • C25B 9/17 - Cellules comprenant des électrodes fixes de dimensions stablesAssemblages de leurs éléments de structure
  • C25B 15/021 - Commande ou régulation des opérations de chauffage ou de refroidissement

72.

METHOD FOR PREPARING AZO COMPOUND

      
Numéro d'application 18171366
Statut En instance
Date de dépôt 2023-02-19
Date de la première publication 2023-06-22
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Shin, Min Seung
  • Kim, Young Gi
  • Choi, Sok Kyun
  • Son, Su Min

Abrégé

A method for preparing an azo compound includes a first step for producing an Xb molecule by electrolyzing, in a reaction system, a first solution including a hydrazo compound and at least one type of MaXb; a second step for oxidizing the hydrazo compound with the generated Xb molecule to obtain a second solution including an azo compound, MaXb, and HX; a third step for discharging the second solution outside the reaction system, and separating therefrom a third solution including MaXb and HX to obtain a solid azo compound; and a fourth step for introducing the third solution and an additional hydrazo compound equivalent to the hydrazo compound into the reaction system, and electrolyzing a fourth solution including the additional hydrazo compound, MaXb, and HX to produce an Xb molecule.

Classes IPC  ?

  • C07C 241/02 - Préparation d'hydrazines
  • C07C 281/20 - Dérivés d'acide carbonique contenant des groupes fonctionnels couverts par les groupes , dans lesquels au moins un atome d'azote de ces groupes fonctionnels est lié de plus à un autre atome d'azote ne faisant pas partie d'un groupe nitro ou nitroso les deux atomes d'azote des groupes fonctionnels étant liés entre eux par une liaison double, p. ex. azoformamide

73.

CURABLE COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE INCLUDING DAM STRUCTURE FABRICATED THEREFROM

      
Numéro d'application KR2022019438
Numéro de publication 2023/101497
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-12-02
Date de publication 2023-06-08
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Bae, Min Young
  • Byeon, Ja Hun
  • Kim, Dong Min
  • Kim, Jin Wuk

Abrégé

Disclosed are a curable composition, a dam structure fabricated therefrom, and a display device including the dam structure. The curable composition disclosed in the present invention includes: an acrylate-based compound in the form of at least one of a monomer and an oligomer; a urethane diacrylate-based compound having a repeating unit bearing a urethane group; a curing initiator; and a getter. The curable composition may further include a butadiene urethane diacrylate-based compound. The curable composition may further include a butadiene urethane diacrylate-based compound.

Classes IPC  ?

  • H10K 50/80 - Détails de structure
  • C08F 265/06 - Polymérisation d'esters acryliques ou méthacryliques sur des polymères de ces esters
  • C08F 220/28 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle ne contenant pas de cycles aromatiques dans la partie alcool
  • C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
  • C08F 222/10 - Esters
  • C08F 2/44 - Polymérisation en présence d'additifs, p. ex. plastifiants, matières colorantes, charges
  • C08L 63/00 - Compositions contenant des résines époxyCompositions contenant des dérivés des résines époxy

74.

SLURRY COMPOSITION FOR SECONDARY BATTERY ELECTRODE AND SECONDARY BATTERY ELECTRODE USING SAME

      
Numéro d'application 18089138
Statut En instance
Date de dépôt 2022-12-27
Date de la première publication 2023-05-04
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kim, Seong Do
  • Kim, Dong Ho
  • Kim, Tae Yoon
  • Yang, Hwi Chan
  • Lee, Joo Chul
  • Lim, Hyung Woo

Abrégé

The present disclosure relates to a slurry composition for a secondary battery electrode, and a secondary battery electrode manufactured using same. The slurry composition includes a conductive material including a linear carbon material and a point-type carbon material, a dispersant, and an organic solvent. By adjusting the average size and content of the conductive material in the slurry such that two peaks within a specific range appear in a particle size analysis, the solubility and dispersibility of the carbon-based conductive material are improved, and thus the electrical properties of the electrode are remarkably improved.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/583 - Matériau carboné, p. ex. composés au graphite d'intercalation ou CFx
  • H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p. ex. liants, charges
  • H01M 50/46 - Séparateurs, membranes ou diaphragmes caractérisés par leur combinaison avec des électrodes

75.

DUAL CURABLE COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF

      
Numéro d'application KR2022016223
Numéro de publication 2023/075320
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-10-24
Date de publication 2023-05-04
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Yoon, Sung Il
  • Shin, Seung Hyup
  • Song, Jun Yong
  • Choi, Mi Kyung
  • Lee, Gye Won

Abrégé

The present invention relates to a dual curable composition and a cured product thereof and, more specifically, to: a dual curable composition which, by comprising a compound containing a thiol group and an acrylate group, an acrylic monomer or oligomer, and a photopolymerization initiator, can be both photocured and thermally cured, and which has excellent mechanical properties, heat resistance and light resistance after curing, and has reliability that is stably maintained for a long period of time; and a cured product thereof.

Classes IPC  ?

  • C08F 220/38 - Esters contenant du soufre
  • C08F 220/34 - Esters contenant de l'azote
  • C08F 220/06 - Acide acryliqueAcide méthacryliqueLeurs sels métalliques ou leurs sels d'ammonium

76.

SLURRY COMPOSITION FOR SECONDARY BATTERY ELECTRODE AND SECONDARY BATTERY ELECTRODE USING SAME

      
Numéro d'application 18089137
Statut En instance
Date de dépôt 2022-12-27
Date de la première publication 2023-05-04
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kim, Seong Do
  • Kim, Dong Ho
  • Kim, Tae Yoon
  • Yang, Hwi Chan
  • Lee, Joo Chul

Abrégé

The present disclosure relates to a slurry composition for a secondary battery electrode, and a secondary battery electrode manufactured using the same. The slurry composition includes dispersants of specific components, a carbon-based conductive material, and an organic solvent. The slurry composition has an advantage in that the stability of the carbon-based conductive material is excellent. In addition, due to the presence of a polar functional group in the dispersant, the surface treatment effect for the carbon-based conductive material is excellent, and thus the dispersibility of the carbon-based conductive material is remarkably improved.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p. ex. liants, charges
  • H01M 10/052 - Accumulateurs au lithium

77.

POSITIVE ELECTRODE ACTIVE MATERIAL COMPOSITE FOR BATTERY, SECONDARY BATTERY ELECTRODE, AND SECONDARY BATTERY

      
Numéro de document 03233569
Statut En instance
Date de dépôt 2022-09-07
Date de disponibilité au public 2023-04-20
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • An, Woohyun
  • Kim, Seungdoo
  • Lim, Chanhyuk
  • Lee, Joocheol
  • Yang, Hwichan

Abrégé

The present invention relates to a positive electrode active material composite which is for a battery and is coated with reduced graphene oxide, and specifically, to a positive electrode active material composite comprising: a core portion including a positive electrode active material; and a shell portion surrounding the core portion, wherein the shell portion includes at least one layer of reduced graphene oxide (rGO), thus making it possible to obtain a secondary battery having excellent electronic conductivity and energy density.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/02 - Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif
  • H01M 4/36 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs
  • H01M 4/505 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques de manganèse d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes contenant du manganèse pour insérer ou intercaler des métaux légers, p. ex. LiMn2O4 ou LiMn2OxFy
  • H01M 4/525 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques de nickel, de cobalt ou de fer d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes contenant du fer, du cobalt ou du nickel pour insérer ou intercaler des métaux légers, p. ex. LiNiO2, LiCoO2 ou LiCoOxFy
  • H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p. ex. liants, charges
  • H01M 10/052 - Accumulateurs au lithium

78.

POSITIVE ELECTRODE ACTIVE MATERIAL COMPOSITE FOR BATTERY, SECONDARY BATTERY ELECTRODE, AND SECONDARY BATTERY

      
Numéro d'application KR2022013488
Numéro de publication 2023/063588
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-09-07
Date de publication 2023-04-20
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • An, Woohyun
  • Kim, Seungdoo
  • Lim, Chanhyuk
  • Lee, Joocheol
  • Yang, Hwichan

Abrégé

The present invention relates to a positive electrode active material composite which is for a battery and is coated with reduced graphene oxide, and specifically, to a positive electrode active material composite comprising: a core portion including a positive electrode active material; and a shell portion surrounding the core portion, wherein the shell portion includes at least one layer of reduced graphene oxide (rGO), thus making it possible to obtain a secondary battery having excellent electronic conductivity and energy density.

Classes IPC  ?

  • H01M 4/36 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs
  • H01M 4/62 - Emploi de substances spécifiées inactives comme ingrédients pour les masses actives, p. ex. liants, charges
  • H01M 4/525 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques de nickel, de cobalt ou de fer d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes contenant du fer, du cobalt ou du nickel pour insérer ou intercaler des métaux légers, p. ex. LiNiO2, LiCoO2 ou LiCoOxFy
  • H01M 4/505 - Emploi de substances spécifiées comme matériaux actifs, masses actives, liquides actifs d'oxydes ou d'hydroxydes inorganiques de manganèse d'oxydes ou d'hydroxydes mixtes contenant du manganèse pour insérer ou intercaler des métaux légers, p. ex. LiMn2O4 ou LiMn2OxFy
  • H01M 10/052 - Accumulateurs au lithium
  • H01M 4/02 - Électrodes composées d'un ou comprenant un matériau actif

79.

NOVEL COMPOUND FOR CAPPING LAYER, AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2022015349
Numéro de publication 2023/063701
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-10-12
Date de publication 2023-04-20
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Min, Byung Cheol
  • Kim, Dong Jun
  • Han, Jeong Woo
  • Lee, Hyung Jin
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel

Abrégé

The present invention provides a novel compound for a capping layer, and an organic light-emitting device comprising same.

Classes IPC  ?

  • C07D 405/14 - Composés hétérocycliques contenant à la fois un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle et un ou plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
  • C07D 407/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant au moins trois hétérocycles
  • C07D 413/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'azote et d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
  • C07D 417/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre et d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant au moins trois hétérocycles
  • C07D 471/04 - Systèmes condensés en ortho
  • C07D 409/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
  • H10K 99/00 - Matière non prévue dans les autres groupes de la présente sous-classe

80.

POLYMER COMPOUND FOR FORMING PHOTORESIST UNDERLAYER FILM, AND PHOTORESIST UNDERLAYER FILM COMPOSITION FOR EUV CONTAINING SAME

      
Numéro d'application KR2022013132
Numéro de publication 2023/054919
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-09-01
Date de publication 2023-04-06
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ju, Dong Kyu
  • Kim, Hyun Jin
  • Lee, Jung Youl
  • Kim, Tae Ik
  • Choi, Chang Sik

Abrégé

Provided is a photoresist underlayer film composition for extreme ultraviolet (EUV), which contains a polymer compound that allows reducing exposure energy when forming a photoresist film pattern and improves adhesion to a photoresist film. The photoresist underlayer film composition for EUV according to the present invention comprises, with respect to the total weight of the photoresist underlayer film composition for EUV, 0.02-1.00 wt% of the polymer compound, 0.005-1.0 wt% of a crosslinking agent, and 0.001-0.5 wt% of an acid generator, with the remainder being an organic solvent.

Classes IPC  ?

  • C08F 212/14 - Monomères contenant un seul radical aliphatique non saturé contenant un cycle substitué par des hétéro-atomes ou des groupes contenant des hétéro-atomes
  • G03F 7/11 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p. ex. couches d'ancrage
  • G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet

81.

NOVEL COMPOUND FOR LIGHT-EMITTING DEVICE, AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2022010817
Numéro de publication 2023/043040
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-07-22
Date de publication 2023-03-23
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Min, Byung Cheol
  • Kim, Hee Joo
  • Lee, Dong Hyun
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel
  • Kim, Tae Min

Abrégé

The present invention provides a novel compound for a light-emitting device, and an organic light-emitting device comprising same.

Classes IPC  ?

  • C07D 295/104 - Composés hétérocycliques contenant des cycles polyméthylène imine d'au moins cinq chaînons, des cycles aza-3 bicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine ou thiomorpholine, ne comportant que des atomes d'hydrogène liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes d'azote du cycle substitués par des atomes d'oxygène ou de soufre liés par des liaisons doubles avec les atomes d'azote du cycle, ainsi que les atomes d'oxygène ou de soufre liés par des liaisons doubles, liés à la même chaîne carbonée, qui n'est pas interrompue par des carbocycles
  • C07D 401/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 407/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 409/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 417/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre et d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 413/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'azote et d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 471/04 - Systèmes condensés en ortho
  • C07D 237/04 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazine-1, 2 ou diazine-1, 2 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles comportant moins de trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
  • C07D 239/04 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazine-1, 3 ou diazine-1, 3 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
  • C07D 243/08 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à sept chaînons comportant deux atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle les atomes d'azote étant en positions 1, 4 non condensés avec d'autres cycles

82.

NOVEL COMPOUND FOR CAPPING LAYER, AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2022010796
Numéro de publication 2023/043038
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-07-22
Date de publication 2023-03-23
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Kim, Dong Jun
  • Lee, Dong Hyun
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel
  • Lee, Sung Kyu
  • Lee, Tae Jin

Abrégé

The present invention provides a novel compound for a capping layer, and an organic light-emitting device comprising same.

Classes IPC  ?

  • C07C 233/62 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino
  • C07C 235/40 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des atomes d'oxygène ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés au même squelette carboné
  • C07C 323/30 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné
  • C07C 219/24 - Composés contenant des groupes amino et hydroxy estérifiés liés au même squelette carboné ayant des groupes hydroxy estérifiés ou des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons du même squelette carboné
  • C07D 211/62 - Atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile liés en position 4
  • C07D 401/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 309/08 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle, non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du cycle
  • H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
  • H01L 51/52 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED) - Détails des dispositifs

83.

NOVEL COMPOUND FOR LIGHT-EMITTING DEVICE, AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2022010811
Numéro de publication 2023/043039
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-07-22
Date de publication 2023-03-23
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Min, Byung Cheol
  • Kim, Dong Jun
  • Han, Jeong Woo
  • Lee, Hyung Jin
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel

Abrégé

The present invention provides a novel compound for a light-emitting device, and an organic light-emitting device comprising same.

Classes IPC  ?

  • C07C 233/62 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des groupes amino
  • C07C 235/40 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des atomes d'oxygène ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés au même squelette carboné
  • C07C 323/30 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné
  • C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si
  • C07C 229/48 - Composés contenant des groupes amino et carboxyle liés au même squelette carboné ayant des groupes amino ou carboxyle liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons du même squelette carboné avec des groupes amino et des groupes carboxyle liés à des atomes de carbone du même cycle non condensé
  • C07C 327/30 - Esters d'acides monothiocarboxyliques ayant des atomes de soufre de groupes thiocarboxyle estérifiés liés à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés substitués par des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso
  • C07D 213/81 - AmidesImides
  • H01L 51/00 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
  • H01L 51/52 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED) - Détails des dispositifs

84.

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE

      
Numéro d'application KR2022012133
Numéro de publication 2023/022452
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-08-12
Date de publication 2023-02-23
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Youn, Hyoc-Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Lee, Sang-Hoon
  • Jang, Jae Young
  • Hwang, Chi Yong

Abrégé

The present invention relates to a photosensitive resin composition and a display device prepared by using same, wherein the photosensitive resin composition not only has excellent optical density and light resistance, but also has improved transmittance, photoreactivity, and sensitivity, and thus can be preferably applicable to form a pixel division layer pattern in various display devices, such as an organic electroluminescent device.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
  • G03F 7/105 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des substances, p. ex. des indicateurs, pour obtenir des images visibles
  • G03F 7/028 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des substances accroissant la photosensibilité, p. ex. photo-initiateurs
  • G03F 7/032 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants
  • G02B 5/20 - Filtres
  • H01L 27/146 - Structures de capteurs d'images

85.

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE INCLUDING SAME

      
Numéro d'application KR2022012194
Numéro de publication 2023/022472
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-08-16
Date de publication 2023-02-23
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Youn, Hyoc Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Kim, Dong Myung
  • Lee, Sun Hee
  • Park, Ah Rum
  • Lee, Seok Hyun
  • Oh, Nu Ri
  • Song, In Ho
  • Jang, Gun Seok

Abrégé

The present invention pertains to a photosensitive resin composition and a display device including same. More specifically, the present invention pertains to: a photosensitive resin composition containing an alkali-soluble polymer resin and a solvent and having excellent sensitivity, chemical resistance, sunlight resistance, and drive reliability, the alkali-soluble polymer resin including at least one structure selected from the group consisting of an esterified quinonediazide compound having a substituent having a specific structure, polyamic acid, polyamic ester, and polyimide; and a display device including same.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
  • C08G 73/10 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides

86.

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2022010493
Numéro de publication 2023/013923
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-07-19
Date de publication 2023-02-09
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Youn, Hyoc Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Kim, Dong Myung
  • Lee, Sun Hee
  • Park, Ah Rum
  • Jang, Gun Seok
  • Oh, Nu Ri
  • Song, In Ho
  • Lee, Seok Hyun

Abrégé

The present invention relates to a photosensitive resin composition and a display device comprising same and, more specifically, to: a photosensitive resin composition which, by comprising an alkali-soluble resin comprising at least one structure selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic ester, and polyimide, two or more thermal crosslinkable compounds, a photosensitizer, and a solvent, has excellent sensitivity, film residual rate, adhesion, chemical resistance and heat resistance; and a display device comprising same.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G03F 7/022 - Quinonediazides
  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
  • H01L 51/50 - Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)

87.

NOVEL COMPOUND FOR CAPPING LAYER AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2022009406
Numéro de publication 2023/277605
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-06-30
Date de publication 2023-01-05
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Kim, Hee Joo
  • Kim, Dong Jun
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel
  • Lee, Sung Kyu
  • Lee, Tae Jin

Abrégé

The present invention provides a novel compound for a capping layer and an organic light-emitting device containing same.

Classes IPC  ?

  • C07C 233/58 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant les atomes d'azote des groupes carboxamide liés à des atomes d'hydrogène ou à des atomes de carbone de radicaux hydrocarbonés non substitués
  • C07C 235/40 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des atomes d'oxygène ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés au même squelette carboné
  • C07C 323/30 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné
  • C07C 255/46 - Nitriles d'acides carboxyliques ayant des groupes cyano liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons à des atomes de carbone de cycles non condensés
  • C07F 7/10 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si azotés
  • C07D 309/08 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle, non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du cycle
  • C07D 335/02 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons comportant un atome de soufre comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles
  • C07D 207/16 - Atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile
  • C07D 211/34 - Composés hétérocycliques contenant des cycles pyridiques hydrogénés, non condensés avec d'autres cycles avec uniquement des atomes d'hydrogène et de carbone liés directement à l'atome d'azote du cycle ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés, substitués par des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile
  • C07D 295/14 - Composés hétérocycliques contenant des cycles polyméthylène imine d'au moins cinq chaînons, des cycles aza-3 bicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine ou thiomorpholine, ne comportant que des atomes d'hydrogène liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes d'azote du cycle substitués par des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile

88.

NOVEL COMPOUND FOR CAPPING LAYER, AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2022009407
Numéro de publication 2023/277606
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-06-30
Date de publication 2023-01-05
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Min, Byung Cheol
  • Kim, Hee Joo
  • Kim, Dong Jun
  • Lee, Hyung Jin
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel

Abrégé

The present invention provides a novel compound for a capping layer, and an organic light-emitting device comprising same.

Classes IPC  ?

  • C07C 233/64 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons
  • C07C 235/42 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des atomes d'oxygène ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés au même squelette carboné
  • C07C 237/28 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des groupes amino ayant l'atome de carbone d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons non condensé du squelette carboné
  • C07C 323/30 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné
  • C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si
  • C07D 209/12 - Radicaux substitués par des atomes d'oxygène
  • C07C 327/38 - Amides d'acides thiocarboxyliques
  • C07C 211/40 - Composés contenant des groupes amino liés à un squelette carboné ayant des groupes amino liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons d'un squelette carboné non saturé contenant uniquement des cycles non condensés
  • C07D 403/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant au moins trois hétérocycles
  • C07D 407/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant au moins trois hétérocycles

89.

NOVEL COMPOUND FOR CAPPING LAYER, AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2022009366
Numéro de publication 2023/277593
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-06-29
Date de publication 2023-01-05
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Kim, Hee Joo
  • Kim, Dong Jun
  • Han, Jeong Woo
  • Lee, Hyung Jin
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel

Abrégé

The present invention provides a novel compound for a capping layer, and an organic light-emitting device comprising same.

Classes IPC  ?

  • C07C 233/57 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
  • C07D 211/32 - Composés hétérocycliques contenant des cycles pyridiques hydrogénés, non condensés avec d'autres cycles avec uniquement des atomes d'hydrogène et de carbone liés directement à l'atome d'azote du cycle ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés, substitués par des atomes d'oxygène ou de soufre liés par des liaisons doubles ou par deux atomes d'oxygène ou de soufre, liés au même atome de carbone par des liaisons simples par des atomes d'oxygène
  • C07D 401/10 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote contenant deux hétérocycles liés par une chaîne carbonée contenant des cycles aromatiques
  • C07D 309/08 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle, non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du cycle
  • C07D 407/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 335/02 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons comportant un atome de soufre comme unique hétéro-atome du cycle non condensés avec d'autres cycles
  • C07D 409/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 295/14 - Composés hétérocycliques contenant des cycles polyméthylène imine d'au moins cinq chaînons, des cycles aza-3 bicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine ou thiomorpholine, ne comportant que des atomes d'hydrogène liés directement aux atomes de carbone du cycle avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes d'azote du cycle substitués par des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile
  • C07D 209/10 - IndolesIndoles hydrogénés avec des radicaux hydrocarbonés substitués liés aux atomes de carbone de l'hétérocycle
  • C07D 403/10 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne carbonée contenant des cycles aromatiques

90.

NOVEL COMPOUND FOR CAPPING LAYER, AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2022009367
Numéro de publication 2023/277594
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-06-29
Date de publication 2023-01-05
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Kim, Hee Joo
  • Kim, Dong Jun
  • Lee, Dong Hyun
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel
  • Lee, Sung Kyu

Abrégé

The present invention provides a novel compound for a capping layer, and an organic light-emitting device comprising same.

Classes IPC  ?

  • C07D 213/81 - AmidesImides
  • C07D 241/26 - Atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile avec des atomes d'azote liés directement aux atomes de carbone du cycle
  • C07D 239/26 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazine-1, 3 ou diazine-1, 3 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles comportant au moins trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du cycle
  • C07D 237/08 - Composés hétérocycliques contenant des cycles diazine-1, 2 ou diazine-1, 2 hydrogéné non condensés avec d'autres cycles comportant trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec uniquement des atomes d'hydrogène, des radicaux hydrocarbonés ou des radicaux hydrocarbonés substitués, liés directement aux atomes de carbone du cycle
  • C07D 255/02 - Composés hétérocycliques contenant des cycles comportant trois atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par les groupes non condensés avec d'autres cycles
  • C07D 251/12 - Composés hétérocycliques contenant des cycles triazine-1, 3, 5 non condensés avec d'autres cycles comportant trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
  • C07D 253/07 - Triazines-1, 2, 4 comportant trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des hétéro-atomes ou des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du cycle
  • C07D 253/04 - Triazines-1, 2, 3
  • C07D 257/08 - Cycles à six chaînons
  • C07D 401/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote contenant au moins trois hétérocycles

91.

NOVEL COMPOUND FOR CAPPING LAYER, AND ORGANIC LIGHT-EMITTING DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2022009405
Numéro de publication 2023/277604
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-06-30
Date de publication 2023-01-05
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Ham, Ho Wan
  • An, Hyun Cheol
  • Kim, Hee Joo
  • Kim, Dong Jun
  • Ann, Ja Eun
  • Kwon, Dong Yuel
  • Lee, Sung Kyu
  • Je, Hwan Il

Abrégé

The present invention provides a novel compound for a capping layer, and an organic light-emitting device containing same.

Classes IPC  ?

  • C07C 233/57 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons
  • C07C 237/24 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des groupes amino ayant l'atome de carbone d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné
  • C07C 235/40 - Amides d'acides carboxyliques, le squelette carboné de la partie acide étant substitué de plus par des atomes d'oxygène ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons et des atomes d'oxygène, liés par des liaisons simples, liés au même squelette carboné
  • C07C 323/30 - Thiols, sulfures, hydropolysulfures ou polysulfures substitués par des halogènes, des atomes d'oxygène ou d'azote ou par des atomes de soufre ne faisant pas partie de groupes thio contenant des groupes thio et des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au même squelette carboné ayant l'atome de soufre d'au moins un des groupes thio lié à un atome de carbone d'un cycle autre qu'un cycle aromatique à six chaînons du squelette carboné
  • C07F 7/08 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si
  • C07C 233/59 - Amides d'acides carboxyliques ayant des atomes de carbone de groupes carboxamide liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons ayant l'atome d'azote d'au moins un des groupes carboxamide lié à un atome de carbone d'un radical hydrocarboné substitué par des atomes d'halogène ou par des groupes nitro ou nitroso
  • C07C 271/38 - Esters des acides carbamiques ayant des atomes d'oxygène de groupes carbamate liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons avec l'atome d'azote d'au moins un des groupes carbamate lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons
  • C07C 333/08 - Acides monothiocarbamiquesLeurs dérivés ayant des atomes d'azote de groupes thiocarbamiques liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons
  • C07D 407/12 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes d'oxygène comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus par le groupe contenant deux hétérocycles liés par une chaîne contenant des hétéro-atomes comme chaînons
  • C07D 309/08 - Composés hétérocycliques contenant des cycles à six chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle, non condensés avec d'autres cycles ne comportant pas de liaison double entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques avec des hétéro-atomes ou avec des atomes de carbone comportant trois liaisons à des hétéro-atomes, avec au plus une liaison à un halogène, p. ex. radicaux ester ou nitrile, liés directement aux atomes de carbone du cycle

92.

ORGANIC LAYER POLISHING COMPOSITION AND METHOD FOR POLISHING USING SAME

      
Numéro d'application KR2022008090
Numéro de publication 2022/260433
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-06-08
Date de publication 2022-12-15
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kim, Hee Suk
  • Lee, Goo Hwa
  • Yoo, Jae Hong
  • Park, Jong Dai
  • Kim, Jae Hyun

Abrégé

The present invention relates to an organic layer polishing composition and a method for polishing using same. The organic layer polishing composition includes a polishing promoter containing both a hydrophilic group and a hydrophobic group so that even for an organic layer that is strongly bound by covalent bonds, such as an amorphous carbon layer (ACL) or diamond-like-carbon (DLC), as well as a polymer, SOC, and SOH, the polishing rate is maintained high.

Classes IPC  ?

  • C09K 3/14 - Substances antidérapantesAbrasifs
  • H01L 21/304 - Traitement mécanique, p. ex. meulage, polissage, coupe

93.

PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION, OPTICAL MEMBER AND DISPLAY DEVICE FORMED THEREFROM

      
Numéro d'application 17890019
Statut En instance
Date de dépôt 2022-08-17
Date de la première publication 2022-12-08
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Lee, Sang-Hoon
  • Youn, Hyoc-Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Park, Jonghyuk

Abrégé

The present disclosure relates to a photopolymerizable composition which enables the formation of an optical member that exhibits improved optical properties, including excellent light transmittance, low haze, and high refractive index, an optical member and a display device formed therefrom. The photopolymerizable composition includes at least one olefinic monomer having a photocurable functional group, metal oxide particles, an amine compound having an amine group and a photocurable functional group, and a photopolymerization initiator.

Classes IPC  ?

  • C09D 11/322 - Encres à pigments
  • C09D 11/101 - Encres spécialement adaptées aux procédés d’imprimerie mettant en œuvre la réticulation par énergie ondulatoire ou par radiation de particules, p. ex. réticulation par UV qui suit l’impression
  • C09D 11/107 - Encres d’imprimerie à base de résines artificielles contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone à partir d'acides non saturés ou de leurs dérivés
  • C09D 11/037 - Encres d’imprimerie caractérisées par des particularités autres que la nature chimique du liant caractérisées par le pigment
  • G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques

94.

PHOTO-CURABLE COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF, AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2022006459
Numéro de publication 2022/235098
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-05-06
Date de publication 2022-11-10
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Yeo, Tai Hoon
  • Youn, Hyoc Min
  • Lee, Sang Hoon
  • Park, Jong Hyuk
  • Lee, Jea Young
  • Kim, Ja Young

Abrégé

The present invention relates to a photo-curable composition, a cured product thereof, and an optical member and a display device comprising same and, more specifically, to a photo-curable composition, a cured product thereof, and an optical member and a display device comprising same, wherein the photo-curable composition has excellent low refractive index, light transmittance, and low haze characteristics by comprising a first olefin-based monomer containing fluorine, a second olefin-based monomer having an absolute viscosity of 7 cP or less at 25°C, a photo-polymerization initiator, and an amine compound.

Classes IPC  ?

  • C08F 220/22 - Esters contenant un halogène
  • C08F 220/28 - Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle ne contenant pas de cycles aromatiques dans la partie alcool
  • C08F 220/18 - Esters des alcools ou des phénols monohydriques des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone avec l'acide acrylique ou l'acide méthacrylique
  • C08F 222/18 - Esters contenant des halogènes
  • C08F 2/44 - Polymérisation en présence d'additifs, p. ex. plastifiants, matières colorantes, charges
  • C08F 2/50 - Polymérisation amorcée par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire par la lumière ultraviolette ou visible avec des agents sensibilisants
  • G02B 1/04 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de substances organiques, p. ex. plastiques

95.

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application 17724888
Statut En instance
Date de dépôt 2022-04-20
Date de la première publication 2022-10-27
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Jeon, Seung Han
  • Youn, Hyoc Min
  • Kim, Jin Sun
  • Jeong, Jong Ho
  • Kim, Eui Soon
  • Ryu, Young Jun
  • Ahn, Chang Hwan

Abrégé

Proposed is a photosensitive resin composition including a siloxane copolymer having both a thermosetting functional group and a photocurable functional group. The composition, according to this disclosure, is capable of both thermal curing and photo-curing and thus can form a stable cured film in a flexible display process where a low-temperature process of 150° C. or less is essential.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/075 - Composés contenant du silicium
  • C08G 77/20 - Polysiloxanes contenant du silicium lié à des groupes aliphatiques non saturés

96.

Substrate cleaning composition, method for cleaning substrate using the same, and method for fabricating semiconductor device using the same

      
Numéro d'application 17719561
Numéro de brevet 12046464
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-04-13
Date de la première publication 2022-10-20
Date d'octroi 2024-07-23
Propriétaire
  • SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. (République de Corée)
  • DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Song, Ga Young
  • Park, Mi Hyun
  • Park, Jong Kyoung
  • Lee, Jung Youl
  • Kim, Hyun Jin
  • Lee, Hyo San
  • Lim, Han Sol
  • Han, Hoon

Abrégé

A substrate cleaning composition, a method of cleaning a substrate using the same, and a method of fabricating a semiconductor device using the same, the substrate cleaning composition including a styrene copolymer including a first repeating unit represented by Formula 1-1a and a second repeating unit represented by Formula 1-1b; an additive represented by Formula 2-1; and an alcoholic solvent having a solubility of 500 g/L or less in deionized water,

Classes IPC  ?

  • C11D 1/00 - Compositions détergentes formées essentiellement de composés tensio-actifsEmploi de ces composés comme détergents
  • C11D 3/20 - Composés organiques contenant de l'oxygène
  • C11D 3/37 - Polymères
  • H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives

97.

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION

      
Numéro d'application 17854922
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-30
Date de la première publication 2022-10-20
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Youn, Hyoc Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Lee, Gi Seon
  • Kim, Bong Hee
  • Kim, Dong Myung

Abrégé

A positive photosensitive resin composition includes a polymer resin, a quinonediazide compound, and a solvent. The polymer resin includes (i) 5 to 95 wt. % of a polyimide precursor having a structural unit represented by Formula 1, ii) 5 to 95 wt. % of a polyimide precursor having a structural unit represented by Formula 2, and iii) 0 to 20 wt. % of a polyimide precursor having a structural unit represented by Formula 3. The quinonediazide compound is included in an amount of 5 to 50 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer resin. The solvent is included in an amount of 100 to 2,000 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer resin.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/023 - Quinonediazides macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
  • G03F 7/037 - Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p. ex. composés éthyléniques avec des liants les liants étant des polyamides ou des polyimides
  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • H01L 27/32 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des composants qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux avec des composants spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. panneaux d'affichage plats utilisant des diodes émettrices de lumière organiques

98.

COATING COMPOSITION CAPABLE OF BEING CURED AND THEN THERMOFORMED, AND PLASTIC PRODUCT USING SAME

      
Numéro d'application 17837177
Statut En instance
Date de dépôt 2022-06-10
Date de la première publication 2022-09-22
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Yoo, Hyun Seok
  • Choi, Seung Sock
  • Shin, Kyu Soon
  • Nam, Dong Jin
  • Kim, Young Mo
  • Lim, Kook Hee
  • Oh, Seong Yeon
  • Lim, Haeryang
  • Park, Han Bin

Abrégé

The present invention relates to a coating composition comprising a multifunction acrylate-based oligomer, a thermoplastic polymer, and an organic solvent. The composition can be cured and thermoformed. A coating film made from the composition is capable of being thermoformed and has excellent hardness, durability, and scratch resistance. With the coating film, plastic products, which can be used instead of glass in various industries such as construction, electronic products and automobiles, are provided.

Classes IPC  ?

  • C09D 4/06 - Compositions de revêtement, p. ex. peintures, vernis ou vernis-laques, à base de composés non macromoléculaires organiques ayant au moins une liaison non saturée carbone-carbone polymérisable en combinaison avec un composé macromoléculaire autre qu'un polymère non saturé des groupes
  • C08F 222/10 - Esters
  • C08L 33/12 - Homopolymères ou copolymères du méthacrylate de méthyle

99.

POSITIVE PHOTORESIST RESIN COMPOSITION, INSULATING FILM, AND DISPLAY DEVICE COMPRISING SAME

      
Numéro d'application KR2022003725
Numéro de publication 2022/197110
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-03-17
Date de publication 2022-09-22
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Youn, Hyoc Min
  • Yeo, Tai Hoon
  • Kim, Dong Myung
  • Park, Ah Rum
  • Jang, Gun Seok
  • Lee, Seok Hyun
  • Oh, Nu Ri
  • Song, In Ho
  • Lee, Sun Hee

Abrégé

The present invention relates to a positive photoresist resin composition, an insulating film, and a display device comprising same, and, more specifically, relates to a positive photoresist resin composition, an insulating film, and a display device comprising same, which comprise a polymer comprising a hydroxyl group and, thus, have excellent sensitivity, chemical resistance, thermal resistance, and hygroscopicity.

Classes IPC  ?

  • G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
  • G03F 7/021 - Composés de diazonium macromoléculairesAdditifs macromoléculaires, p. ex. liants
  • C08L 77/00 - Compositions contenant des polyamides obtenus par des réactions créant une liaison amide carboxylique dans la chaîne principaleCompositions contenant des dérivés de tels polymères
  • C08L 79/08 - PolyimidesPolyester-imidesPolyamide-imidesPolyamide-acides ou précurseurs similaires de polyimides
  • C08L 35/04 - Homopolymères ou copolymères des nitriles
  • C08L 35/06 - Copolymères avec des monomères vinylaromatiques

100.

SUBSTRATE SURFACE MODIFIER FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION AND METHOD FOR MODIFYING SURFACE OF SUBSTRATE USING THE SAME

      
Numéro d'application 17731729
Statut En instance
Date de dépôt 2022-04-28
Date de la première publication 2022-08-18
Propriétaire DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. (République de Corée)
Inventeur(s)
  • Kim, Tae Wook
  • Lee, Jae Woo
  • Bok, Cheol Kyu
  • Kim, Jun Young
  • Yeo, So Jeong
  • Han, Man Ho

Abrégé

This invention relates to a surface modifier for uniformly modifying the surface of a substrate such as an inorganic thin film, using atomic layer deposition or chemical vapor deposition, and a method for modifying the surface of a substrate using the same.

Classes IPC  ?

  • C23C 16/02 - Pré-traitement du matériau à revêtir
  • C23C 16/30 - Dépôt de composés, de mélanges ou de solutions solides, p. ex. borures, carbures, nitrures
  • C23C 16/34 - Nitrures
  • C23C 16/18 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le dépôt d'un matériau métallique à partir de composés organométalliques
  • C23C 16/44 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement
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