Abrégé

Disclosed are a photosensitive polymer including a repeating unit of Chemical Formula 1 or Chemical Formula 2 derived from a vinyl heteroaromatic compound and a resist composition including the same. 2 are hydrogen or a methyl group, X is a carbon, sulfur, or a nitrogen atom, and n is 1 or 2.

Classes IPC  ?

• C08F 226/06 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par une liaison simple ou double à l'azote ou par un hétérocycle contenant de l'azote par un hétérocycle contenant de l'azote
• C08F 212/06 - Hydrocarbures
• C08F 220/06 - Acide acryliqueAcide méthacryliqueLeurs sels métalliques ou leurs sels d'ammonium
• C08F 224/00 - Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un hétérocycle contenant de l'oxygène
• G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
• G03F 7/039 - Composés macromoléculaires photodégradables, p. ex. réserves positives sensibles aux électrons
• G03F 7/11 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p. ex. couches d'ancrage
• G03F 7/20 - ExpositionAppareillages à cet effet
• G03F 7/32 - Compositions liquides à cet effet, p. ex. développateurs
• G03F 7/38 - Traitement avant le dépouillement selon l'image, p. ex. préchauffage
• G03F 7/40 - Traitement après le dépouillement selon l'image, p. ex. émaillage

Abrégé

Provided is an anti-reflective hardmask composition including: (a) a polymer composed of an indolocarbazole represented by the following Chemical Formula 1 or a polymeric blend containing the same; and (b) an organic solvent.

Classes IPC  ?

• G03F 7/11 - Matériaux photosensibles caractérisés par des détails de structure, p. ex. supports, couches auxiliaires avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p. ex. couches d'ancrage
• C08G 14/06 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones et de plusieurs autres monomères couverts par au moins deux des groupes d'aldéhydes avec des phénols et des monomères contenant de l'hydrogène fixé sur l'azote
• C09D 5/00 - Compositions de revêtement, p. ex. peintures, vernis ou vernis-laques, caractérisées par leur nature physique ou par les effets produitsApprêts en pâte
• C09D 161/34 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones avec des monomères couverts par au moins deux des groupes , et

Abrégé

An anti-reflective hardmask composition contains: (a) an arylcarbazole derivative polymer represented by the following Chemical Formula 1 or a polymer blend containing the same; and (b) an organic solvent 40) aromatic aryl group and are the same as or different from each other, R is t-butyloxycarbonyl (t-BOC), ethoxyethyl, isopropyloxyethyl, or tetrahydropyranyl, 2 in the presence of an acid catalyst, m/(m+n) is in a range of 0.05 to 0.8, and a weight average molecular weight (Mw) of an the polymer is in a range of 1,000 to 30,000.

Classes IPC  ?

• C09D 161/34 - Polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones avec des monomères couverts par au moins deux des groupes , et
• H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou