Abrégé

A method for removing contaminants from a graphene product uses an accelerated neutral atom beam to remove product contaminants without disruption of the product's crystalline lattice and morphology to enable usage in high purity devices/systems such as exemplified in semi-conductor and like high purity needs applications.

Classes IPC  ?

• C01B 32/196 - Purification

Abrégé

Orthopedic implants are treated by Neutral Beam irradiation to achieve on at least one or more portions of the implant surface energies matching surface energies of lubricious proteins of the implant usage environment. The irradiation reduces rubbing of the implant and debris shedding from the implant in a mammalian joint region.

Classes IPC  ?

• A61F 2/30 - Articulations
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• H05H 3/02 - Production d'un faisceau moléculaire ou atomique, p. ex. d'un faisceau résonnant

Abrégé

A method for removing amorphous regions from a surface of a crystal substrate uses an accelerated neutral beam including reactive gas species for removing or reactively modifying material surfaces without sputtering. Accelerated neutral atom beam enabled surface reactions remove surface contaminants from substrate surfaces to create an interface region with exposed crystal lattice in preparation for next phase processing.

Classes IPC  ?

• C03C 15/00 - Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique
• C03C 15/02 - Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique pour l'obtention d'une surface unie
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions

Abrégé

Surfaces of a surgical implant material are modified with an accelerated neutral atom beam, surface properties of the modified material are characterized, and a reduction of wide range of bacteria colonization on such surfaces is achieved without using antibiotics.

Classes IPC  ?

• C03C 15/00 - Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique
• C03C 15/02 - Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique pour l'obtention d'une surface unie
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives

Abrégé

A device such as a medical device and a method for making same provides a device surfaces modified by beam irradiation, such as a gas cluster ion beams or a neutral beam, to inhibit or delay attachment or activation or clotting of platelets or to match surface energy of the device to that of a protein with the property of inhibition of bacterial colonization that can coat the all or part of the device surface to effect such inhibition.

Classes IPC  ?

• G03F 1/80 - Attaque chimique
• H05H 3/02 - Production d'un faisceau moléculaire ou atomique, p. ex. d'un faisceau résonnant
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
• G03F 1/82 - Procédés auxiliaires, p. ex. nettoyage ou inspection

Abrégé

A method for removing amorphous regions from a surface of a crystal substrate uses an accelerated neutral beam including reactive gas species for removing or reactively modifying material surfaces without sputtering. Accelerated neutral atom beam enabled surface reactions remove surface contaminants from substrate surfaces to create an interface region with exposed crystal lattice in preparation for next phase processing.

Classes IPC  ?

• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• C03C 15/02 - Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique pour l'obtention d'une surface unie
• H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p. ex. gravure électrolytique
• H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p. ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/3065 - Gravure par plasmaGravure au moyen d'ions réactifs
• H01L 21/3105 - Post-traitement
• C03C 15/00 - Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p. ex. gravure électrolytique en utilisant des masques

Abrégé

An apparatus, method and products thereof provide an accelerated neutral beam derived from an accelerated gas cluster ion beam for processing materials.

Classes IPC  ?

• G03F 1/80 - Attaque chimique
• H05H 3/02 - Production d'un faisceau moléculaire ou atomique, p. ex. d'un faisceau résonnant
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
• G03F 1/82 - Procédés auxiliaires, p. ex. nettoyage ou inspection
• H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés
• B24B 37/04 - Machines ou dispositifs de rodageAccessoires conçus pour travailler les surfaces planes

Abrégé

An improved ANAB system or process substantially or fully eliminating contaminant particles from reaching a beam target by adding to the usual primary (first) ionizer of the ANAB system or process an additional (second) ionizer to ionize contaminant particles and means to block or retard the ionized particles to prevent their reaching the beam target.

Classes IPC  ?

• H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p. ex. gravure électrolytique
• G03F 1/82 - Procédés auxiliaires, p. ex. nettoyage ou inspection
• G03F 1/86 - Inspection au moyen d'un faisceau de particules chargées [CPB charged particle beam]

Abrégé

An improved ANAB system or process substantially or fully eliminating contaminant particles from reaching a beam target by adding to the usual primary (first) ionizer of the ANAB system or process an additional (second) ionizer to ionize contaminant particles and means to block or retard the ionized particles to prevent their reaching the beam target.

Classes IPC  ?

• H01L 21/263 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
• H01J 37/305 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour couler, fondre, évaporer ou décaper

Abrégé

A method for treating a silicon substrate, and a silicon substrate, provide a surface treated with an accelerated neutral beam.

Classes IPC  ?

• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H01L 21/321 - Post-traitement
• C03C 23/00 - Autres traitements de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments
• H01J 37/08 - Sources d'ionsCanons à ions
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
• H01L 29/167 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée caractérisés en outre par le matériau de dopage
• H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés
• H01L 21/324 - Traitement thermique pour modifier les propriétés des corps semi-conducteurs, p. ex. recuit, frittage

Abrégé

A method for Neutral Beam irradiation derived from gas cluster ion beams and articles produced thereby including optical elements.

Classes IPC  ?

• C23C 14/00 - Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
• C23C 14/58 - Post-traitement
• H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
• G02B 1/12 - Revêtements optiques obtenus par application sur les éléments optiques ou par traitement de la surface de ceux-ci par traitement de la surface, p. ex. par irradiation
• G02B 1/02 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de cristaux, p. ex. sel gemme, semi-conducteurs
• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée

Abrégé

A method for preparing a biological material for implanting provides irradiating at least a portion of the surface of the material with an accelerated Neutral Beam.

Classes IPC  ?

• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H05H 3/02 - Production d'un faisceau moléculaire ou atomique, p. ex. d'un faisceau résonnant
• G03F 1/80 - Attaque chimique
• G03F 1/82 - Procédés auxiliaires, p. ex. nettoyage ou inspection
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
• H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés
• B24B 37/04 - Machines ou dispositifs de rodageAccessoires conçus pour travailler les surfaces planes

Abrégé

A method of processing a trench, via, hole, recess, void, or other feature that extends a depth into a substrate to a base or bottom and has an opening by irradiation with an accelerated neutral beam derived from an accelerated gas cluster ion beam for processing materials at the base or bottom of the opening.

Classes IPC  ?

• G03F 1/80 - Attaque chimique
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• G03F 1/82 - Procédés auxiliaires, p. ex. nettoyage ou inspection
• H05H 3/02 - Production d'un faisceau moléculaire ou atomique, p. ex. d'un faisceau résonnant
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
• H01L 21/321 - Post-traitement
• H01J 37/31 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour couper ou perforer
• H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés
• B24B 37/04 - Machines ou dispositifs de rodageAccessoires conçus pour travailler les surfaces planes

Abrégé

A method of processing a trench, via, hole, recess, void, or other feature that extends a depth into a substrate to a base or bottom and has an opening with high aspect ratio (into depth from opening to base or bottom divided by minimum space of the trench therebetween) by irradiation with an accelerated neutral beam derived from an accelerated gas cluster ion beam for processing materials at the base or bottom of the opening.

Classes IPC  ?

• H01J 37/00 - Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p. ex. pour y subir un examen ou un traitement
• G03F 1/80 - Attaque chimique
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• G03F 1/82 - Procédés auxiliaires, p. ex. nettoyage ou inspection
• H05H 3/02 - Production d'un faisceau moléculaire ou atomique, p. ex. d'un faisceau résonnant
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
• H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
• H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés
• B24B 37/04 - Machines ou dispositifs de rodageAccessoires conçus pour travailler les surfaces planes

Abrégé

A method for shallow etching a substrate surface forms a shallow modified substrate layer overlying unmodified substrate using an accelerated neutral beam and etches the modified layer, stopping at the unmodified substrate beneath, producing controlled shallow etched substrate surfaces.

Classes IPC  ?

• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p. ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
• C03C 15/02 - Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique pour l'obtention d'une surface unie
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p. ex. gravure électrolytique
• H01L 21/3065 - Gravure par plasmaGravure au moyen d'ions réactifs
• H01L 21/3105 - Post-traitement
• C03C 15/00 - Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/308 - Traitement chimique ou électrique, p. ex. gravure électrolytique en utilisant des masques

Abrégé

A device such as a medical device and a method for making same provides a surface modified by beam irradiation, such as a gas cluster ion beams or a neutral beam, to inhibit or delay attachment or activation or clotting of platelets.

Classes IPC  ?

• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
• H05H 3/02 - Production d'un faisceau moléculaire ou atomique, p. ex. d'un faisceau résonnant
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
• H05H 5/04 - Accélérateurs à tension continueAccélérateurs monopulsés alimentés par des générateurs électrostatiques, p. ex. générateur de Van de Graaff

Abrégé

A method of modifying the surface of a medical device to release a drug in a controlled way by providing a barrier layer on the surface of one or more drug coatings. The barrier layer consists of modified drug material converted to a barrier layer by irradiation by an accelerated neutral beam derived from an accelerated gas cluster ion beam. Also medical devices formed thereby.

Classes IPC  ?

• A61L 31/16 - Matériaux biologiquement actifs, p. ex. substances thérapeutiques
• B05D 1/02 - Procédés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces réalisés par pulvérisation
• B05D 3/06 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliquésTraitement ultérieur des revêtements appliqués, p. ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides par exposition à des rayonnements

Abrégé

A method for treating a substrate surface uses Neutral Beam irradiation derived from a gas-cluster ion-beam and articles produced thereby including lithography photomask substrates.

Classes IPC  ?

• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
• G03F 1/80 - Attaque chimique
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
• H05H 3/02 - Production d'un faisceau moléculaire ou atomique, p. ex. d'un faisceau résonnant
• G03F 1/82 - Procédés auxiliaires, p. ex. nettoyage ou inspection
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• B24B 37/04 - Machines ou dispositifs de rodageAccessoires conçus pour travailler les surfaces planes
• H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés

Abrégé

A method for shallow etching a substrate surface forms a shallow modified substrate layer overlying unmodified substrate using an accelerated neutral beam and etches the modified layer, stopping at the unmodified substrate beneath, producing controlled shallow etched substrate surfaces.

Classes IPC  ?

• H01J 37/08 - Sources d'ionsCanons à ions
• H01L 21/00 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide

Abrégé

A method of forming a patterned hard mask on a surface of a substrate uses an accelerated neutral beam with carbon atoms. The objects set forth above as well as further and other objects and advantages of the present invention are achieved by the various embodiment's of the invention described herein below.

Classes IPC  ?

• C23C 14/00 - Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives

Abrégé

X (0.05

Classes IPC  ?

• H01L 29/167 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée caractérisés en outre par le matériau de dopage
• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01J 37/08 - Sources d'ionsCanons à ions
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions

Abrégé

1, formed in at least a portion of the second surface, wherein a portion of the modified surface layer is not supported by unmodified starting material removed from the first surface opposite the modified surface layer.

Classes IPC  ?

• G03F 1/62 - Pellicules, p. ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de supportLeur préparation
• B29C 39/20 - Fabrication d'objets multicouches ou polychromes
• B29C 59/00 - Façonnage de surface, p. ex. gaufrageAppareils à cet effet
• B29K 25/00 - Utilisation de polymères de composés vinylaromatiques comme matière de moulage
• B29K 83/00 - Utilisation de polymères contenant dans la chaîne principale uniquement du silicium avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone comme matière de moulage
• B29L 7/00 - Objets plats, p. ex. pellicules ou feuilles

Abrégé

A method of improving the surface of an object treats the surface with a neutral beam formed from a gas cluster ion mean to create a surface texture and/or increase surface area.

Classes IPC  ?

• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• H01J 37/08 - Sources d'ionsCanons à ions
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée

Abrégé

An apparatus, method and products thereof provide an accelerated neutral beam derived from an accelerated gas cluster ion beam for processing materials.

Classes IPC  ?

• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
• G03F 1/80 - Attaque chimique
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
• H05H 3/02 - Production d'un faisceau moléculaire ou atomique, p. ex. d'un faisceau résonnant
• G03F 1/82 - Procédés auxiliaires, p. ex. nettoyage ou inspection
• H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01L 21/311 - Gravure des couches isolantes
• B24B 37/04 - Machines ou dispositifs de rodageAccessoires conçus pour travailler les surfaces planes
• H01L 29/36 - Corps semi-conducteurs caractérisés par la concentration ou la distribution des impuretés

Abrégé

A method for Neutral Beam irradiation derived from gas cluster ion beams and articles produced thereby including optical elements.

Classes IPC  ?

• C23C 14/58 - Post-traitement
• H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
• G02B 1/12 - Revêtements optiques obtenus par application sur les éléments optiques ou par traitement de la surface de ceux-ci par traitement de la surface, p. ex. par irradiation
• G02B 1/02 - Éléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faitsRevêtements optiques pour éléments optiques faits de cristaux, p. ex. sel gemme, semi-conducteurs
• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée

Abrégé

A film and method of forming a film provides an unmodified starting layer of a starting material, the starting layer having opposed first and second surfaces and an initial thickness, T1, and a modified surface layer of thickness T2 which is less than T1, formed in at least a portion of the second surface, wherein a portion of the modified surface layer is not supported by unmodified starting material removed from the first surface opposite the modified surface layer.

Classes IPC  ?

• G03F 1/50 - Masques vierges non couverts par les groupes Leur préparation

Abrégé

A method for treating a substrate surface uses Neutral Beam irradiation derived from a gas-cluster ion-beam and articles produced thereby including lithography photomask substrates. One embodiment provides a method of treating a surface of a substrate that contains one or more embedded particles or contains sub-surface damage, comprising the steps of: providing a reduced pressure chamber; forming a gas-cluster ion-beam comprising gas-cluster ions within the reduced pressure chamber; accelerating the gas-cluster ions to form an accelerated gas-duster ion-beam along a beam path within the reduced pressure chamber; promoting fragmentation and/or dissociation of at least a portion of the accelerated gas-cluster ions along the beam path; removing charged particles from the beam path to form an accelerated neutral beam along the beam path in the reduced pressure chamber; holding the surface in the beam path; and treating at least a portion of the surface of the substrate by irradiation.

Classes IPC  ?

• H01L 21/30 - Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes
• H01L 21/46 - Traitement de corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes
• H01L 23/48 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p. ex. fils de connexion ou bornes

Abrégé

An apparatus and method for producing a deflection of a Neutral Beam derived from a gas-cluster ion-beam deflects the gas-cluster ion-beam prior to dissociation of gas clusters and removal of tons.

Classes IPC  ?

• H05H 3/02 - Production d'un faisceau moléculaire ou atomique, p. ex. d'un faisceau résonnant
• H01J 49/06 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques

Abrégé

A device such as a medical device and a method for making same provides a surface modified by beam irradiation, such as a gas cluster ion beams or a neutral beam, to inhibit or delay attachment or activation or clotting of platelets.

Classes IPC  ?

• G21K 5/00 - Dispositifs d'irradiation

Abrégé

An apparatus, method and products thereof provide an accelerated neutral beam derived from an accelerated gas cluster ion beam for processing materials.

Classes IPC  ?

• H05H 3/02 - Production d'un faisceau moléculaire ou atomique, p. ex. d'un faisceau résonnant

Abrégé

A method of preparing a preformed bone shape for implantation provides irradiating at least a portion of a preformed bone shape by a Neutral Beam derived from a GCIB, and the preformed bone shape so irradiated.

Classes IPC  ?

• A61F 13/00 - Bandages ou pansementsGarnitures absorbantes
• A61L 27/54 - Matériaux biologiquement actifs, p. ex. substances thérapeutiques
• A61L 27/36 - Matériaux pour prothèses ou pour revêtement de prothèses contenant des constituants de constitution indéterminée ou leurs produits réactionnels

Abrégé

A method for Neutral Beam irradiation derived from gas cluster ion beams and articles produced thereby including optical elements.

Classes IPC  ?

• C23C 14/00 - Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement

Abrégé

A method of modifying the surface of a medical device to release a drug in a controlled way by providing a barrier layer on the surface of one or more drug coatings. The barrier layer consists of modified drug material converted to a barrier layer by irradiation by an accelerated neutral beam derived from an accelerated gas cluster ion beam. Also medical devices formed thereby.

Classes IPC  ?

• A61L 31/16 - Matériaux biologiquement actifs, p. ex. substances thérapeutiques
• A61L 27/54 - Matériaux biologiquement actifs, p. ex. substances thérapeutiques
• A61K 31/436 - Composés hétérocycliques ayant l'azote comme hétéro-atome d'un cycle, p. ex. guanéthidine ou rifamycines ayant des cycles à six chaînons avec un azote comme seul hétéro-atome d'un cycle condensés en ortho ou en péri avec des systèmes hétérocycliques le système hétérocyclique contenant un cycle à six chaînons ayant l'oxygène comme hétéro-atome du cycle, p. ex. rapamycine

Abrégé

Apparatus and methods are disclosed for employing an accelerated neutral beam derived from an accelerated gas cluster ion beam as a physical etching beam for providing reduced material mixing at the etched surface, compared to previous techniques. This results in the ability to achieve improved depth profile resolution in measurements by analytical instruments such as SIMS and XPS (or ESCA) analytical instruments.

Classes IPC  ?

• G01N 23/00 - Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement [ondes ou particules], p. ex. rayons X ou neutrons, non couvertes par les groupes , ou
• H01J 37/08 - Sources d'ionsCanons à ions
• H01J 37/305 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour couler, fondre, évaporer ou décaper
• G01N 23/225 - Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de rayonnement [ondes ou particules], p. ex. rayons X ou neutrons, non couvertes par les groupes , ou en mesurant l'émission secondaire de matériaux en utilisant des microsondes électroniques ou ioniques

Abrégé

A method for improving bioactivity and/or biodegradation time of a collagen surgical implant and collagen surgical implants having such improved properties. A gas-cluster ion-beam (GCIB) is formed in a reduced-pressure chamber, a collagen surgical implant is introduced into the reduced-pressure chamber, and at least a first portion of the surface of said collagen surgical implant is irradiated with a GCIB-derived beam.

Classes IPC  ?

• C23C 16/00 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD]
• C23C 16/50 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques

Abrégé

A bone implantable medical device made from a biocompatible material, preferably comprising titania or zirconia, has at least a portion of its surface modified to facilitate improved integration with bone. The implantable device may incorporate a surface infused with osteoinductive agent and/or may incorporate holes loaded with a therapeutic agent. The infused surface and/or the holes may be patterned to determine the distribution of and amount of osteoinductive agent and/or therapeutic agent incorporated. The rate of release or elution profile of the therapeutic agent may be controlled. Methods for producing such a bone implantable medical device are also disclosed and employ the use of ion beam irradiation, preferably gas cluster ion beam irradiation for improving bone integration.

Classes IPC  ?

• A61K 6/083 - Composés obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
• A61F 2/28 - Os
• B05D 3/06 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliquésTraitement ultérieur des revêtements appliqués, p. ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides par exposition à des rayonnements

Abrégé

An apparatus and method for characterizing a particle beam provides receiving a particle beam in a central region of a reduced pressure enclosure; impacting the received beam against a beam strike that is thermally isolated from the enclosure; measuring a temperature change of the beam strike due to the impacting beam; measuring a pressure change in the enclosure due to receiving the beam; and processing the measured temperature change and the measured pressure change to determine beam characteristics.

Classes IPC  ?

• H01J 37/244 - DétecteursComposants ou circuits associés
• H01L 21/265 - Bombardement par des radiations ondulatoires ou corpusculaires par des radiations d'énergie élevée produisant une implantation d'ions
• H01J 37/304 - Commande des tubes par une information en provenance des objets, p. ex. signaux de correction
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions

Abrégé

An apparatus and method for characterizing a particle beam provides receiving a particle beam in a central region of a reduced pressure enclosure; impacting the received beam against a beam strike that is thermally isolated from the enclosure; measuring a temperature change of the beam strike due to the impacting beam; measuring a pressure change in the enclosure due to receiving the beam; and processing the measured temperature change and the measured pressure change to determine beam characteristics.

Classes IPC  ?

• H01L 21/44 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes

Abrégé

A method for preparing a biological material for implanting provides irradiating at least a portion of the surface of the material with an accelerated Neutral Beam.

Classes IPC  ?

• H05H 3/02 - Production d'un faisceau moléculaire ou atomique, p. ex. d'un faisceau résonnant
• H01S 1/00 - Masers, c.-à-d. dispositifs utilisant l’émission stimulée de rayonnement électromagnétique dans la gamme des micro-ondes
• A61F 2/02 - Prothèses implantables dans le corps

Abrégé

A medical device for surgical implantation adapted to serve as a drug delivery system has one or more drug loaded holes with barrier layers to control release or elution of the drug from the holes or to control inward diffusion of fluids into the holes. The barrier layers are non-polymers and are formed from the drug material itself by beam processing. The holes may be in patterns to spatially control drug delivery. Flexible options permit combinations of drugs, variable drug dose per hole, multiple drugs per hole, temporal control of drug release sequence and profile. Methods for forming such a drug delivery system are also disclosed. Gas cluster ion beam and/or accelerated Neutral Beam derived from an accelerated gas cluster ion beam may be employed.

Classes IPC  ?

• A61F 2/06 - Vaisseaux sanguins

Abrégé

A method of modifying the surface of a medical device to release a drug in a controlled way by providing a barrier layer on the surface of one or more drug coatings. The barrier layer consists of modified drug material converted to a barrier layer by irradiation by an accelerated neutral beam derived from an accelerated gas cluster ion beam. Also medical devices formed thereby.

Classes IPC  ?

• A61L 33/00 - Traitement antithrombogénique d'articles chirurgicaux, p. ex. de sutures, cathéters, prothèses ou d'articles pour la manipulation ou le conditionnement du sangMatériaux pour un tel traitement
• B05D 3/00 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliquésTraitement ultérieur des revêtements appliqués, p. ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides

Abrégé

A method for improving bioactivity of a surface of an implantable object comprising titania, titanium, an alloy of titanium, and/or polytetrafluoroethylene (PTFE) and implantable objects prepared thereby provides forming an accelerated neutral beam derived from an accelerated gas-cluster ion-beam (GCIB) in a reduced-pressure chamber, introducing an implantable object into the reduced-pressure chamber, and irradiating at least a first portion of the surface of said implantable object with a GCIB-derived neutral beam.

Classes IPC  ?

• B05D 3/06 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliquésTraitement ultérieur des revêtements appliqués, p. ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides par exposition à des rayonnements

Abrégé

Apparatus and methods are disclosed for employing an accelerated neutral beam derived from an accelerated gas cluster ion beam as a physical etching beam for providing reduced material mixing at the etched surface, compared to previous techniques. This results in the ability to achieve improved depth profile resolution in measurements by analytical instruments such as SIMS and XPS (or ESCA) analytical instruments.

Classes IPC  ?

• H01J 37/305 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour couler, fondre, évaporer ou décaper

Abrégé

An apparatus and method provides a drug layer formed on a surface region of a medical device, the drug layer comprised of a drug deposition and a carbonized or densified layer formed from the drug deposition by irradiation on an outer surface of the drug deposition, wherein the carbonized or densified layer does not penetrate through the drug deposition and is adapted to release drug from the drug deposition at a predetermined rate.

Classes IPC  ?

• A61L 33/00 - Traitement antithrombogénique d'articles chirurgicaux, p. ex. de sutures, cathéters, prothèses ou d'articles pour la manipulation ou le conditionnement du sangMatériaux pour un tel traitement
• B05D 3/00 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliquésTraitement ultérieur des revêtements appliqués, p. ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides

Abrégé

A bone implantable medical device made from a biocompatible material, preferably comprising titania or zirconia, has at least a portion of its surface modified to facilitate improved integration with bone. The implantable device may incorporate a surface infused with osteoinductive agent and/or may incorporate holes loaded with a therapeutic agent. The infused surface and/or the holes may be patterned to determine the distribution of and amount of osteoinductive agent and/or therapeutic agent incorporated. The rate of release or elution profile of the therapeutic agent may be controlled. Methods for producing such a bone implantable medical device are also disclosed and employ the use of accelerated Neutral Beam irradiation, wherein the Neutral Beam is derived from an accelerated gas cluster ion beam irradiation for improving bone integration.

Classes IPC  ?

• A61F 2/28 - Os

Abrégé

A method for improving bioactivity of a surface of a surgical suture and sutures prepared thereby provides forming a gas-cluster ion-beam (GCIB) in a reduced-pressure chamber, introducing a surgical suture into the reduced-pressure chamber, and irradiating at least a first portion of the surface of said surgical suture with a GCIB derived beam.

Classes IPC  ?

• C23C 16/00 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD]
• C23C 16/50 - Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c.-à-d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur [CVD] caractérisé par le procédé de revêtement au moyen de décharges électriques
• C23C 14/00 - Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement

Abrégé

A method of disinfecting a biological material provides disposing at least a portion of the biological material in the path of the gas cluster ion beam or in the path of the accelerated neutral beam so as to irradiate at least a portion of the biological material to disinfect the irradiated portion.

Classes IPC  ?

• C12N 13/00 - Traitement de micro-organismes ou d'enzymes par énergie électrique ou ondulatoire, p. ex. par magnétisme, par des ondes sonores

Abrégé

Methods and systems for sterilization of objects by gas-cluster ion-beam (GCIB) irradiation or by accelerated Neutral Beam are disclosed. The sterilization may be in conjunction with other beneficial GCIB surface processing of the objects. The objects may be medical devices or surgically implantable medical prostheses. The accelerated Neutral Beam is derived from an accelerated GCIB.

Classes IPC  ?

• A61L 2/08 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet utilisant des phénomènes physiques des radiations

Abrégé

An apparatus, method and products thereof provide an accelerated neutral beam derived from an accelerated gas cluster ion beam for processing materials.

Classes IPC  ?

• B01D 59/00 - Séparation d'isotopes différents d'un même élément chimique

Abrégé

An apparatus, method and products thereof provide an accelerated neutral beam derived from an accelerated gas cluster ion beam for processing materials.

Classes IPC  ?

• H01J 37/00 - Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p. ex. pour y subir un examen ou un traitement
• H01J 37/147 - Dispositions pour diriger ou dévier la décharge le long d'une trajectoire déterminée
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie

Abrégé

The invention provides for a method of improving bioactivity of a surface of an implantable object. The invention also provides for a method of improving bioactivity of a surface of biological laboratory ware. The invention further provides a method of attaching cells to an object. The invention even further provides for a method of preparing an object for medical implantation. The invention also provides for an article with attached cell, and for an article for medical implantation. Improvements result from the application of gas-cluster ion beam technology and from the application of neutral beam technology, wherein neutral beams are derived from accelerated gas-cluster ion beams.

Classes IPC  ?

• H05H 3/00 - Production ou accélération de faisceaux de particules neutres, p. ex. de faisceaux moléculaires ou atomiques
• A61F 2/02 - Prothèses implantables dans le corps
• A61L 27/18 - Matériaux macromoléculaires obtenus par des réactions autres que celles faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone
• A61L 27/38 - Cellules animales
• H01J 37/05 - Dispositifs électronoptiques ou ionoptiques pour la séparation des électrons ou des ions en fonction de leur énergie
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• A61B 17/00 - Instruments, dispositifs ou procédés chirurgicaux

Abrégé

The invention provides for a method of improving bioactivity of a surface of an implantable object. The invention also provides for a method of improving bioactivity of a surface of biological laboratory ware. The invention further provides a method of attaching cells to an object. The invention even further provides for a method of preparing an object for medical implantation. The invention also provides for an article with attached cell, and for an article for medical implantation. Improvements result from the application of gas-cluster ion beam technology and from the application of neutral beam technology, wherein neutral beams are derived from accelerated gas-cluster ion beams.

Classes IPC  ?

• D04H 1/00 - Non-tissés formés uniquement ou principalement de fibres coupées ou autres fibres similaires relativement courtes

Abrégé

A gas-cluster-jet generator with improved vacuum management techniques and apparatus is disclosed. The gas-cluster-jet generator comprises a substantially conically shaped vacuum chamber for housing the nozzle and jet exit portions of the gas-cluster-jet generator. A skimmer may be located at the narrow end of the conical chamber and a close-coupled vacuum pump is located at the wide end of the conical chamber. Support members for the nozzle are high conductivity “spider” supports that provide support rigidity while minimizing gas flow obstruction for high pumping speed. The conically shaped vacuum chamber redirects un-clustered gas in a direction opposite the direction of the gas-cluster-jet for efficient evacuation of the un-clustered gas. The nozzle and a skimmer may have fixed precision relative alignment, or may optionally have a nozzle aiming adjustment feature for aligning the gas-cluster-jet with the skimmer and downstream beamline components. Also disclosed are various configurations of gas-cluster ion-beam processing tools employing the improved gas-cluster-jet generator.

Classes IPC  ?

• H01J 37/08 - Sources d'ionsCanons à ions
• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions
• G21K 5/10 - Dispositifs d'irradiation pourvus de dispositions permettant un mouvement relatif entre la source du rayonnement et l'objet à irradier

Abrégé

A gas-cluster-jet generator with improved vacuum management techniques and apparatus is disclosed The gas-cluster-jet generator comprises a substantially conically shaped vacuum chamber for housing the nozzle and jet exit portions of the gas-cluster-jet generator. A skimmer may be located at the narrow end of the conical chamber and a close coupled vacuum pump is located at the wide end of the conical chamber. Support members for the nozzle are high conductivity "spider" supports that provide support rigidity while minimizing gas flow obstruction for high pumping speed. The conically shaped vacuum chamber redirects un-clustered gas in a direction opposite the direction of the gas-cluster-jet for efficient evacuation of the un-clustered gas. The nozzle and a skimmer may have fixed precision relative alignment, or may optionally have a nozzle aiming adjustment feature for aligning the gas-cluster-jet with the skimmer and downstream beamline components. Also disclosed are gas-cluster ion-beam processing tools.

Classes IPC  ?

• H01J 37/317 - Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p. ex. implantation d'ions

Abrégé

The invention provides a method for preparing a biological mateπal for implanting The invention also provides a biological material for surgical implantation The invention further provides a biological composition for surgical implantation, wherein the biological composition has been treated with a gas cluster ion beam to modify the surface for enhanced hydrophilicity or wettability.

Classes IPC  ?

• A61K 9/00 - Préparations médicinales caractérisées par un aspect particulier

Abrégé

The invention provides methods for surgical grafting of a tissue. The method comprises the steps of explaining a graft tissue from a donor, irradiating at least a first portion of the graft tissue with an ion beam, and surgically grafting the graft tissue into a recipient wherein the tissue has been irradiated with a gas cluster ion beam.

Classes IPC  ?

• C12N 5/07 - Cellules animales ou tissus animaux

Abrégé

The invention provides for a method of improving bioactivity of a surface of an implantable object. The invention also provides for a method of improving bioactivity of a surface of biological laboratory ware. The invention further provide a method of attaching cells to an object. The invention even further provides for a method of preparing an object for medical implantation. The invention also provides for an article with attached cells, and for an article for medical implantation.

Classes IPC  ?

• A61F 2/02 - Prothèses implantables dans le corps

Abrégé

The invention provides a method for preparing a biological material for implanting. The invention also provides a biological material for surgical implantation. The invention further provides a biological composition for surgical implantation.

Classes IPC  ?

• A61B 17/58 - Instruments ou procédés chirurgicaux pour le traitement des os ou des articulationsDispositifs spécialement adaptés à cet effet pour ostéosynthèse, p. ex. plaques, vis ou matériels de fixation
• A61K 35/32 - OsOstéocytesOstéoblastesTendonsTénocytesDentsOdontoblastesCartilageChondrocytesMembrane synoviale
• A61K 35/34 - MusclesCellules musculaires lissesCœurCellules souches cardiaquesMyoblastesMyocytesCardiomyocytes
• A61K 35/12 - Substances provenant de mammifèresCompositions comprenant des tissus ou des cellules non spécifiésCompositions comprenant des cellules souches non embryonnairesCellules génétiquement modifiées
• C23C 14/46 - Pulvérisation cathodique par un faisceau d'ions produit par une source d'ions externe

Abrégé

The invention provides methods for surgical grafting of a tissue. The method comprises the steps of explanting a graft tissue from a donor, irradiating at least a first portion of the graft tissue with an ion beam, and surgically grafting the graft tissue into a recipient.

Classes IPC  ?

• A61K 25/12 -

Abrégé

A bone implantable medical device made from a biocompatible material, preferably comprising titania or zirconia, has at least a portion of its surface modified to facilitate improved integration with bone. The implantable device may incorporate a surface infused with osteoinductive agent and/or may incorporate holes loaded with a therapeutic agent. The infused surface and/or the holes may be patterned to determine the distribution of and amount of osteoinductive agent and/or therapeutic agent incorporated. The rate of release or elution profile of the therapeutic agent may be controlled. Methods for producing such a bone implantable medical device are also disclosed and employ the use of ion beam irradiation, preferably gas cluster ion beam irradiation for improving bone integration.

Classes IPC  ?

• A61L 27/28 - Matériaux pour le revêtement de prothèses
• A61L 27/04 - Métaux ou alliages
• A61L 27/54 - Matériaux biologiquement actifs, p. ex. substances thérapeutiques

Abrégé

A medical device for surgical implantation adapted to serve as a drug delivery system has one or more drug loaded holes with barrier layers to control release or elution of the drug from the holes or to control inward diffusion of fluids into the holes. The barrier layers are non-polymers and are formed from the drug material itself by ion beam processing. The holes may be in patterns to spatially control drug delivery. Flexible options permit combinations of drugs, variable drug dose per hole, multiple drugs per hole, temporal control of drug release sequence and profile. Methods for forming such a drug delivery system are also disclosed.

Classes IPC  ?

• A61L 27/54 - Matériaux biologiquement actifs, p. ex. substances thérapeutiques
• A61L 27/50 - Matériaux caractérisés par leur fonction ou leurs propriétés physiques
• A61F 2/02 - Prothèses implantables dans le corps
• A61F 2/04 - Éléments ou organes creux ou tubulaires, p. ex. vessies, trachées, bronches ou voies biliaires
• A61F 2/82 - Dispositifs maintenant le passage ou évitant l’affaissement de structures tubulaires du corps, p. ex. stents

Abrégé

Methods and systems for sterilization of objects by gas-cluster ion-beam (GCIB) irradiation are disclosed. The sterilization may be in conjunction with other beneficial GCIB surface processing of the objects. The objects may be medical devices or surgically implantable medical prostheses.

Classes IPC  ?

• G21K 5/04 - Dispositifs d'irradiation avec des moyens de formation du faisceau
• A61L 2/00 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet

Abrégé

Methods and systems for sterilization of objects by gas-cluster ion-beam (GCIB) irradiation are disclosed. The sterilization may be in conjunction with other beneficial GCIB surface processing of the objects. The objects may be medical devices or surgically implantable medical prostheses.

Classes IPC  ?

• A61L 2/14 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet utilisant des phénomènes physiques du plasma, c.-à-d. des gaz ionisés
• A61L 2/20 - Procédés ou appareils de désinfection ou de stérilisation de matériaux ou d'objets autres que les denrées alimentaires ou les lentilles de contactAccessoires à cet effet utilisant des substances chimiques des substances gazeuses, p. ex. des vapeurs

Abrégé

Methods and systems for the improvement of a crystalline and/or poly-crystalline surgical blade include gas cluster ion beam irradiation of the blades in order to smooth; or to sharpen; or to reduce the brittleness and thus reduce susceptibility of the blade to crack, chip, or fracture; or to render the blades hydrophilic. Crystalline or poly-crystalline surgical blade (silicon for example) having a thin film cutting edge with improved properties.

Classes IPC  ?

• C23F 4/00 - Procédés pour enlever des matériaux métalliques des surfaces, non couverts par le groupe ou
• A61B 17/3211 - Scalpels chirurgicaux ou bistourisLeurs accessoires

Abrégé

A multi-layer drug coated medical device such as for example an expandable vascular drug eluting stent is formed by vacuum pulse spray techniques wherein each layer is irradiated to improve adhesion and/or drug elution properties prior to formation of subsequent layers. Layers may be homogeneous or of diverse drugs. Layers may incorporate a non-polymer elution-retarding material. Layers may alternate with one or more layers of non-polymer elution-retarding materials. Polymer binders and/or matrices are not used in the formation of the coatings, yet the pure drug coatings have good mechanical and elution rate properties. Systems, methods and medical device articles are disclosed.

Classes IPC  ?

• A61L 33/00 - Traitement antithrombogénique d'articles chirurgicaux, p. ex. de sutures, cathéters, prothèses ou d'articles pour la manipulation ou le conditionnement du sangMatériaux pour un tel traitement

Abrégé

A multi-layer drug coated medical device such as for example an expandable vascular drug eluting stent is formed by vacuum pulse spray techniques wherein each layer is irradiated to improve adhesion and/or drug elution properties prior to formation of subsequent layers. Layers may be homogeneous or of diverse drugs. Layers may incorporate a non-polymer elution-retarding material. Layers may alternate with one or more layers of non-polymer elution-retarding materials. Polymer binders and/or matrices are not used in the formation of the coatings, yet the pure drug coatings have good mechanical and elution rate properties. Systems, methods and medical device articles are disclosed.

Classes IPC  ?

• B05D 3/00 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliquésTraitement ultérieur des revêtements appliqués, p. ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides
• B05C 13/02 - Moyens pour manipuler ou tenir des objets, p. ex. des objets individuels pour des objets particuliers
• C23C 14/00 - Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
• A61F 2/82 - Dispositifs maintenant le passage ou évitant l’affaissement de structures tubulaires du corps, p. ex. stents

Abrégé

Irradiation of a surface of a material with a gas cluster ion beam modifies the wettability of the surface. The wettability may be increased or decreased dependent on the characteristics of the gas cluster ion beam. Improvements in wettability of a surface by the invention exceed those obtained by conventional plasma cleaning or etching. The improvements may be applied to surfaces of medical devices, such as vascular stents for example, and may be used to enable better wetting of medical device surfaces with liquid drugs in preparation for adhesion of the drug to the device surfaces, A mask may be used to limit processing to a portion of the surface. Medical devices formed by using the methods of the invention are disclosed.

Classes IPC  ?

• B05D 3/00 - Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliquésTraitement ultérieur des revêtements appliqués, p. ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides
• A61N 1/18 - Application de courants électriques par électrodes de contact
• A61B 19/00 - Instruments, outillage ou accessoires pour la chirurgie ou le diagnostic non couverts par l'un des groupes A61B 1/00-A61B 18/00, p.ex. pour stéréotaxie, opération aseptique, traitement de la luxation, protecteurs des bords des blessures(masques de protection du visage A41D 13/11; blouses de chirurgien ou vêtements pour malades A41D 13/12; dispositifs pour retirer, traiter ou transporter les liquides du corps A61M 1/00)