National Yang Ming Chiao Tung University

Taïwan, Province de Chine

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        Brevet 316
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Juridiction
        États-Unis 309
        International 6
        Canada 3
Date
Nouveautés (dernières 4 semaines) 9
2025 juin (MACJ) 2
2025 mai 11
2025 avril 4
2025 mars 3
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Classe IPC
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs 26
G06T 7/00 - Analyse d'image 17
H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter 17
A61B 5/00 - Mesure servant à établir un diagnostic Identification des individus 16
H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives 16
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Statut
En Instance 168
Enregistré / En vigueur 150
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1.

FABRICATION METHOD FOR INCREASING BOTTOM GATE OXIDE THICKNESS OF A POWER TRANSISTOR AND TRENCH GATE STRUCTURE FORMED BY USING THE SAME

      
Numéro d'application 18595534
Statut En instance
Date de dépôt 2024-03-05
Date de la première publication 2025-06-12
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tsui, Bing-Yue
  • Hsueh, Li-Tien

Abrégé

A fabrication method for increasing bottom gate oxide thickness of a power transistor and trench gate structure formed by using the same are provided. A power transistor is provided, and a gate oxide layer is deposited along its trench. Two polysilicon sidewalls are formed and covering thereon. A barrier layer is provided on a side surface of each polysilicon sidewall. And wet etching process is used to remove the gate oxide layer underneath such that a vacancy is formed at the bottom of the trench. By oxidizing the polysilicon sidewalls, a thick oxide layer is formed and filling the vacancy. The disclosed barrier layer is used for avoiding the polysilicon sidewalls from lateral oxidation such that the process method is under better process control. By employing the present invention, it is advantageous of increasing bottom gate oxide thickness, reducing trench corner curvature as well as parasitic gate-drain capacitance.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
  • H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

2.

METHOD FOR FABRICATION OF SEMICONDUCTOR STRUCTURES AND APPARATUS FOR FABRICATION OF THE SAME

      
Numéro d'application 18527433
Statut En instance
Date de dépôt 2023-12-04
Date de la première publication 2025-06-05
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Samukawa, Seiji

Abrégé

The present inventive concept discloses a method for fabrication of a semiconductor structure, and an apparatus for fabrication of the semiconductor structure according to the method. The method comprises: providing a semiconductor structure which includes a plurality of first layers and a plurality of second layers, wherein each of the first layers lies parallelly on each of the second layers and the first layer comprises a first material and the second layer comprises a second material; performing a first etching process by irradiating neutral beam in a first direction onto a surface of the semiconductor structure to form a plurality of fin structures with sidewall surfaces of the first material and the second material; and performing a second etching process onto the sidewall surfaces to remove the second layers and form a plurality of voids, wherein the second etching process has an etching selectivity between the first material and the second material.

Classes IPC  ?

  • H01L 21/3065 - Gravure par plasmaGravure au moyen d'ions réactifs
  • H01J 37/32 - Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
  • H01L 21/3213 - Gravure physique ou chimique des couches, p. ex. pour produire une couche avec une configuration donnée à partir d'une couche étendue déposée au préalable
  • H01L 21/67 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants

3.

METHOD FOR PLANNING A MOVEMENT PATH FOR A ROBOTIC ARM

      
Numéro d'application 18627893
Statut En instance
Date de dépôt 2024-04-05
Date de la première publication 2025-05-29
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Song, Kai-Tai
  • Chiu, Shih-Wei

Abrégé

A method is provided for planning a movement path for a non-fixed end of a robotic arm. A mixed reality (MR) device is used to capture hand images of a user to obtain multiple target coordinate sets in an MR coordinate system. A computer device is used to convert the target coordinate sets into multiple path coordinate sets in a robot base coordinate system, and controls the non-fixed end of a robotic arm to move along a movement path as indicated by the path coordinate sets. A camera device is used to capture images of a base that the robotic arm is fixed to for conversion of the target coordinate sets into the path coordinate sets.

Classes IPC  ?

  • B25J 9/16 - Commandes à programme
  • B25J 13/08 - Commandes pour manipulateurs au moyens de dispositifs sensibles, p. ex. à la vue ou au toucher

4.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR FORMING THE SAME

      
Numéro d'application 18518766
Statut En instance
Date de dépôt 2023-11-24
Date de la première publication 2025-05-29
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Huang, Bo-Wei
  • Tu, Chien-Te
  • Liu, Chee-Wee

Abrégé

A semiconductor device includes a first transistor, a second transistor above the first transistor, and an isolation structure. The first transistor includes a first semiconductor channel layer, a first gate structure wrapping around the first semiconductor channel layer, and first source/drain epitaxy structures on opposite ends of the first semiconductor channel layer. The second transistor includes a second semiconductor channel layer, a second gate structure wrapping around the second semiconductor channel layer, and second source/drain epitaxy structures on opposite ends of the second semiconductor channel layer. The isolation structure electrically isolates the first gate structure from the second gate structure, wherein in a top view the isolation structure is adjacent to the second gate structure, and wherein in a first cross-sectional view, the isolation structure wraps around the first semiconductor channel layer.

Classes IPC  ?

  • H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
  • H01L 21/762 - Régions diélectriques
  • H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
  • H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique

5.

Acid-Base Controlled Nano-Bending Lassos to Manipulate Photo-Switching Units in [1]Rotaxanes

      
Numéro d'application 18935452
Statut En instance
Date de dépôt 2024-11-02
Date de la première publication 2025-05-29
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Hong-Cheu
  • Trang, Manh-Khang
  • Li, Yaw-Kuen

Abrégé

Provided is acid-base controlled nano-bending lassos to manipulate photo-switching units in [1]rotaxanes, which contain sequentially bonded a macrocyclic moiety including a cyclic polyether moiety, a photochromic photo-switching moiety, a first station moiety including a secondary ammonium group, a linear moiety, a second station moiety being capable of forming multiple hydrogen bonding with the macrocyclic moiety, and an aggregation-induced emission stopper moiety. Under the base condition (in the loosened lasso form), the photochromic photo-switching moiety can perform a ring-closing reaction upon ultraviolet light exposure, and a ring-opening reaction can occur when exposed to visible light. However, the mentioned photo-switchable ring-closing and ring-opening reactions cannot proceed under the acidic condition (in the tightened lasso form). A linear moiety is bonded to the first station moiety and passes through the macrocyclic moiety. The photo-switching moiety and the stopper moiety are located on both sides of the macrocyclic moiety.

Classes IPC  ?

  • C07D 409/14 - Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles, au moins un cycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle contenant au moins trois hétérocycles
  • A61K 9/107 - Émulsions
  • A61K 41/00 - Préparations médicinales obtenues par traitement de substances par énergie ondulatoire ou par rayonnement corpusculaire

6.

PASSIVE OPTOFLUIDIC DEVICE

      
Numéro d'application 18420413
Statut En instance
Date de dépôt 2024-01-23
Date de la première publication 2025-05-22
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Chen, How-Foo

Abrégé

A passive optofluidic device capable of making a microfluidic fluid flow downward to a test zone via an entrance at one side of a three-dimensional microfluidic structure, and then rise upward to a bridge passage by means of a capillary action provided by an uplink microfluidic passage on the other side of the three-dimensional microfluidic structure, and then flow downward to a waste holding tank through the bridge passage, thereby enabling the microfluidic fluid to flow through the test zone to undergo an optical detection without the need of electrical energy and an infusion pump.

Classes IPC  ?

  • B01L 3/00 - Récipients ou ustensiles pour laboratoires, p. ex. verrerie de laboratoireCompte-gouttes

7.

HIGH-SENSITIVITY HAPTEN DETECTION METHOD AND DEVICE

      
Numéro d'application 18420198
Statut En instance
Date de dépôt 2024-01-23
Date de la première publication 2025-05-22
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chen, How-Foo
  • Lin, Yu-Chun
  • Chen, Chih-Han

Abrégé

A high-sensitivity hapten detection method capable of deriving a real time hapten concentration by using a SPR device, in which different concentrations of a hapten in a sample solution result in different reflected light intensities on the SPR device, and by mapping a reflected light intensity, via a lookup table, to a corresponding concentration, a detection result of the concentration of the hapten in the sample solution can be instantly provided.

Classes IPC  ?

  • G01N 33/53 - Tests immunologiquesTests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiquesMatériaux à cet effet
  • G01N 33/553 - Support métallique ou recouvert d'un métal

8.

CCL4 ANTAGONIST FOR INHIBITING VASCULAR AGING

      
Numéro d'application 18953859
Statut En instance
Date de dépôt 2024-11-20
Date de la première publication 2025-05-22
Propriétaire
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
  • TAIPEI VETERANS GENERAL HOSPITAL (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Ting-Ting
  • Chen, Jaw-Wen

Abrégé

Provided is a method for inhibiting vascular aging in a subject in need thereof by administering a pharmaceutical composition including a CCL4 antagonist. The CCL4 antagonist inhibits vascular aging by reducing a CCL4 level, inhibiting a binding activity of CCL4 with a receptor thereof, or a combination thereof.

Classes IPC  ?

  • C07K 16/24 - Immunoglobulines, p. ex. anticorps monoclonaux ou polyclonaux contre du matériel provenant d'animaux ou d'humains contre des cytokines, des lymphokines ou des interférons
  • A61P 9/14 - VasoprotecteursAntihémorroïdauxMédicaments pour le traitement des varicesStabilisateurs capillaires

9.

METHOD FOR PREVENTING OR TREATING SKIN AGING OR INFLAMMATION OR INCREASING A CONTENT OF COLLAGEN

      
Numéro d'application 18805442
Statut En instance
Date de dépôt 2024-08-14
Date de la première publication 2025-05-15
Propriétaire
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
  • Taipei Veterans General Hospital (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Ting-Ting
  • Chen, Jaw-Wen

Abrégé

Provided is a method for treating or preventing skin aging or skin inflammation in an individual in need thereof, which includes administering an effective amount of a pharmaceutical composition to the individual. The pharmaceutical composition includes a CCL4 antagonist and/or a pharmaceutically acceptable salt thereof and a pharmaceutically acceptable carrier thereof. Also provided is a method for increasing a content of collagen in an individual in need thereof, which includes administering an effective amount of a cosmetic composition to the individual.

Classes IPC  ?

  • C07K 16/24 - Immunoglobulines, p. ex. anticorps monoclonaux ou polyclonaux contre du matériel provenant d'animaux ou d'humains contre des cytokines, des lymphokines ou des interférons
  • A61K 8/64 - ProtéinesPeptidesLeurs dérivés ou produits de dégradation
  • A61K 39/00 - Préparations médicinales contenant des antigènes ou des anticorps
  • A61P 17/02 - Médicaments pour le traitement des troubles dermatologiques pour traiter les blessures, les ulcères, les brûlures, les cicatrices, les cheloïdes, ou similaires
  • A61P 29/00 - Agents analgésiques, antipyrétiques ou anti-inflammatoires non centraux, p. ex. agents antirhumatismauxMédicaments anti-inflammatoires non stéroïdiens [AINS]
  • A61Q 19/08 - Préparations contre le vieillissement

10.

SYSTEM FOR INFORMATION SECURITY MANAGEMENT OVER 5G OPEN ARCHITECTURE INFRASTRUCTURES

      
Numéro d'application 18396523
Statut En instance
Date de dépôt 2023-12-26
Date de la première publication 2025-05-01
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Liou, En-Cheng
  • Tseng, Yu-Chee
  • Cheng, Chung-Hsiang
  • Lin, Tzu-Hang

Abrégé

A system for information security management over 5G open architecture infrastructures, in which a controlled 5G open architecture system connected to the 5G open architecture central management system and performs data transmission. A 5G virtualized infrastructure information security monitoring system, arranged in the 5G open architecture central management system, selects the 5G open architecture central management system, the controlled 5G open architecture system, an intelligent controller management platform, or the 5G virtualized infrastructure information security monitoring system as a scanning target for monitoring. The 5G virtualized infrastructure information security monitoring system includes multiple types of information security risk models and scans the scanning target based on the usage restrictions of one of the multiple types of information security risk models, thereby generating an information security risk result. The 5G virtualized infrastructure information security monitoring system provides an analytical recommendation based on the information security risk result.

Classes IPC  ?

  • H04W 12/67 - Sécurité dépendant du contexte dépendant du risque, p. ex. choix du niveau de sécurité selon les profils de risque
  • H04L 41/16 - Dispositions pour la maintenance, l’administration ou la gestion des réseaux de commutation de données, p. ex. des réseaux de commutation de paquets en utilisant l'apprentissage automatique ou l'intelligence artificielle
  • H04W 24/08 - Réalisation de tests en trafic réel

11.

METHOD FOR THE FABRICATION OF P-TYPE Ga2O3 BY PHOSPHORUS ION IMPLANTATION

      
Numéro d'application 18595493
Statut En instance
Date de dépôt 2024-03-05
Date de la première publication 2025-05-01
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Horng, Ray-Hua
  • Tsai, Xin-Ying

Abrégé

A method for the fabrication of p-type Ga2O3 by phosphorus ion implantation, wherein the method comprises: growing gallium oxide epilayer having a predetermined thickness on a substrate by controlling a growth temperature and a growth pressure; and implanting phosphorus ions on the gallium oxide epilayer by providing the phosphorus ion with a predetermined energy, wherein the phosphorus ions were implanted with a predetermined doses and with a predetermined incident angle.

Classes IPC  ?

  • C30B 31/22 - Dopage par irradiation au moyen de radiations électromagnétiques ou par rayonnement corpusculaire par implantation d'ions
  • C30B 25/16 - Commande ou régulation
  • C30B 29/16 - Oxydes
  • C30B 33/02 - Traitement thermique

12.

HEAT SINK

      
Numéro d'application 18792330
Statut En instance
Date de dépôt 2024-08-01
Date de la première publication 2025-05-01
Propriétaire
  • COOLER MASTER CO., LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chen, Hao-Jun
  • Wang, Chi-Chuan

Abrégé

A heat sink includes a thermally conductive base. The thermally conductive base has a first surface, a second surface, a guiding surface and an accommodating recess. The second surface faces away from the first surface. The guiding surface are connected to the first surface and the second surface. The guiding surface is not perpendicular to the first surface and the second surface. The accommodating recess is located at the first surface. The thermally conductive base has an inner bottom surface and an inner annular side surface which surround and form the accommodating recess. The inner annular side surface is connected to the inner bottom surface. The accommodating recess accommodates a heat source. The inner bottom surface is thermally coupled to the heat source.

Classes IPC  ?

  • H05K 7/20 - Modifications en vue de faciliter la réfrigération, l'aération ou le chauffage

13.

SPERM SORTING DEVICE

      
Numéro d'application 18444744
Statut En instance
Date de dépôt 2024-02-18
Date de la première publication 2025-05-01
Propriétaire National Yang-Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Li, Bor-Ran
  • Peng, Siao-Yun
  • Huang, Chung-Hsien

Abrégé

A sperm sorting device includes a foundation unit and a channel unit. The foundation unit includes a foundation wall, a surrounding wall extending from a periphery of the foundation wall, and a plurality of column portions. The channel unit has an inner bordering wall, a base plate surrounded by and connected to the inner bordering wall and having first and second surfaces, and a plurality of channel holes. The column portions of the foundation unit respectively extend through the channel holes. A distance between a summit surface of each of the column portions and the foundation wall is not smaller than a distance between the second surface and the foundation wall. Each of the channel holes has a selection space that is not occupied by the respective one of the column portions and that gradually reduces in size in a direction from the foundation wall to the base plate.

Classes IPC  ?

  • G01N 15/149 - Techniques de recherche optique, p. ex. cytométrie en flux spécialement adaptées au tri des particules, p. ex. selon leur taille ou leurs propriétés

14.

DUAL GATE HIGH ELECTRON MOBILITY TRANSISTOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

      
Numéro d'application 18403244
Statut En instance
Date de dépôt 2024-01-03
Date de la première publication 2025-04-17
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Hsu, Heng-Tung
  • Chiu, Ping-Hsun

Abrégé

A dual gate high electron mobility transistor (HEMT) includes a substrate, a channel layer above the substrate, a source electrode, a drain electrode, a first gate electrode, and a second gate electrode. The source electrode and the drain electrode are respectively electrically coupled to the channel layer and are respectively above the channel layer. The first gate electrode and the second gate electrode are respectively electrically coupled to the channel layer and are respectively above the channel layer. The first gate electrode is located between the source electrode and the drain electrode. The second gate electrode is located between the source electrode and the first gate electrode. The second gate electrode is biased with a DC voltage.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
  • H01L 23/31 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements caractérisées par leur disposition
  • H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
  • H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

15.

TRANSISTOR SENSOR FOR DISTINGUISHING CELL HETEROGENEITY AND METHOD FOR USING THE SAME

      
Numéro d'application 18606570
Statut En instance
Date de dépôt 2024-03-15
Date de la première publication 2025-04-17
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Ko, Tai-Ming
  • Yang, Yuh-Shyong
  • Chen, Kuan-Hsing
  • Lin, Che-Ming

Abrégé

A transistor includes a field effect transistor, a surface modification layer, and a cell detection layer. The field effect transistor includes a source region, a drain region, a channel region, a gate dielectric layer, and a gate. The drain region is spaced apart from the source region in a first direction. The channel extends in the first direction and is disposed between the source region and the drain region. The gate dielectric layer is disposed below the channel region. The gate is disposed below the gate dielectric layer. The surface modification layer is disposed on the channel region. The cell detection layer is disposed on the surface modification layer and includes a plurality of antibodies, wherein the antibodies are configured to identify cell surface antigens, and the cell detection layer is configured to capture cells identified by the antibodies.

Classes IPC  ?

  • G01N 27/414 - Transistors à effet de champ sensibles aux ions ou chimiques, c.-à-d. ISFETS ou CHEMFETS
  • B01L 3/00 - Récipients ou ustensiles pour laboratoires, p. ex. verrerie de laboratoireCompte-gouttes
  • G01N 33/68 - Analyse chimique de matériau biologique, p. ex. de sang ou d'urineTest par des méthodes faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques par ligandsTest immunologique faisant intervenir des protéines, peptides ou amino-acides

16.

HEPARIN CONJUGATE AND METHOD FOR PREVENTING THROMBOGENESIS BY ADMINISTERING A PHARMACEUTICAL COMPOSITION COMPRISING THE SAME

      
Numéro d'application 18907862
Statut En instance
Date de dépôt 2024-10-07
Date de la première publication 2025-04-10
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Chia-Ching
  • Chang, Chia-Yu
  • Yang, Chih-Yu

Abrégé

Provided are a composition and a method for preventing thrombogenesis. The composition includes a conjugate of heparin and a viral capsid protein, wherein the heparin is covalently bonded with the viral capsid protein.

Classes IPC  ?

  • A61K 47/69 - Préparations médicinales caractérisées par les ingrédients non actifs utilisés, p. ex. les supports ou les additifs inertesAgents de ciblage ou de modification chimiquement liés à l’ingrédient actif l’ingrédient non actif étant chimiquement lié à l’ingrédient actif, p. ex. conjugués polymère-médicament le conjugué étant caractérisé par sa forme physique ou sa forme galénique, p. ex. émulsion, particule, complexe d’inclusion, stent ou kit
  • A61K 47/64 - Conjugués médicament-peptide, médicament-protéine ou médicament-acide polyaminé, c.-à-d. l’agent de modification étant un peptide, une protéine ou un acide polyaminé lié par covalence ou complexé à un agent thérapeutiquement actif
  • A61P 7/02 - Agents antithrombotiquesAnticoagulantsAnti-agrégants plaquettaires

17.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18477489
Statut En instance
Date de dépôt 2023-09-28
Date de la première publication 2025-04-03
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Hsin-Cheng
  • Chiu, Kuan-Ying
  • Liu, Chee-Wee

Abrégé

A device includes a first transistor, a second transistor, an interlayer dielectric (ILD) layer, and a backside gate rail. The first and second transistors are arranged along a first direction in a top view. The first transistor includes a first channel layer, a gate structure surrounding the first channel layer, a first source/drain epitaxial structure and a second source/drain epitaxial structure connected to the first channel layer. The second transistor includes a second channel layer, the gate structure surrounding the second channel layer, a third source/drain epitaxial structure and a fourth source/drain epitaxial structure connected to the second channel layer. A portion of the ILD layer is sandwiched between the first and third source/drain epitaxial structures. The backside gate rail is under the ILD layer and is electrically connected to the gate structure. The portion of the ILD layer is directly above the backside gate rail.

Classes IPC  ?

  • H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
  • H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
  • H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
  • H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
  • H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
  • H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
  • H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique

18.

METHOD OF BONDING SEMICONDUCTOR MATERIALS AND STRUCTURE FORMED BY THE SAME

      
Numéro d'application 18239143
Statut En instance
Date de dépôt 2023-08-29
Date de la première publication 2025-03-06
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Samukawa, Seiji

Abrégé

The present inventive concept discloses a method of bonding two pieces of semiconductor materials, which comprises: providing the two pieces of semiconductor materials each having a surface that is suitable for molecular bonding; and activating at least one surface monolayer of one of the two pieces of semiconductor materials by irradiating neutral beam onto the surface(s) being activated while controlling activation parameters of the neutral beam to provide kinetic energy to the pieces sufficient to create an activated region of controlled thickness beneath the surface(s) being activated.

Classes IPC  ?

  • H01L 21/324 - Traitement thermique pour modifier les propriétés des corps semi-conducteurs, p. ex. recuit, frittage

19.

METHOD FOR IMPROVING WOUND HEALING

      
Numéro d'application 18459866
Statut En instance
Date de dépôt 2023-09-01
Date de la première publication 2025-03-06
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Ting-Ting
  • Chen, Jaw-Wen

Abrégé

Provided is a method for improving would healing, including administering an effective amount of a chemokine C-C motif ligand 7 (CCL7) antagonist to a subject in need thereof to inhibit CCL7 activity.

Classes IPC  ?

  • C07K 16/24 - Immunoglobulines, p. ex. anticorps monoclonaux ou polyclonaux contre du matériel provenant d'animaux ou d'humains contre des cytokines, des lymphokines ou des interférons
  • A61K 31/713 - Acides nucléiques ou oligonucléotides à structure en double-hélice
  • A61P 17/02 - Médicaments pour le traitement des troubles dermatologiques pour traiter les blessures, les ulcères, les brûlures, les cicatrices, les cheloïdes, ou similaires
  • C12N 15/113 - Acides nucléiques non codants modulant l'expression des gènes, p. ex. oligonucléotides anti-sens

20.

THREE DIMENSIONAL INTEGRATED CIRCUIT AND FABRICATION THEREOF

      
Numéro d'application 18461700
Statut En instance
Date de dépôt 2023-09-06
Date de la première publication 2025-03-06
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Liu, Yi-Chun
  • Cheng, Chun-Yi
  • Tu, Chien-Te
  • Liu, Chee-Wee

Abrégé

A method includes following steps. A first transistor is formed on a substrate. A first dielectric layer is formed over the first transistor. A first trench is formed in the first dielectric layer. An amorphous semiconductor layer is deposited in the first trench and over the first dielectric layer. The amorphous semiconductor layer is crystallized into a crystalline semiconductor layer. A second transistor is formed over the crystalline semiconductor layer.

Classes IPC  ?

  • H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
  • H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
  • H01L 21/822 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie au silicium
  • H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
  • H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
  • H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
  • H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique

21.

HIGH ELECTRON MOBILITY TRANSISTOR AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

      
Numéro d'application 18539580
Statut En instance
Date de dépôt 2023-12-14
Date de la première publication 2025-02-27
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Edward Yi
  • Lin, Yueh-Chin
  • Yang, He-Yu
  • Tseng, Howie

Abrégé

A method for manufacturing a high electron mobility transistor (HEMT), which comprises the following steps: providing a substrate, wherein a semiconductor layer is formed on the substrate, and a source electrode and a drain electrode are formed on the semiconductor layer; forming a passivation layer on the source electrode and the drain electrode; etching the passivation layer to form a through hole between the source electrode and the drain electrode, wherein a region of the semiconductor layer is exposed through the through hole; forming a photoresist layer on the passivation layer, wherein a first sub-region of the region of the semiconductor layer is covered by the photoresist layer, and a second sub-region of the region of the semiconductor layer is not covered by the photoresist layer; forming a metal layer on the second sub-region to form a gate electrode; and removing the passivation layer.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
  • H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
  • H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT

22.

USE OF CCL7 ANTAGONISTS FOR THE PREVENTION OR TREATMENT OF DIABETIC KIDNEY DISEASE

      
Numéro d'application 18649626
Statut En instance
Date de dépôt 2024-04-29
Date de la première publication 2025-02-27
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Ting-Ting
  • Chen, Jaw-Wen

Abrégé

Provided are compositions and methods of use of a pharmaceutical composition in the manufacture of a medicament for preventing or treating a diabetic kidney disease, the pharmaceutical composition including a chemokine C-C motif ligand 7 (CCL7) antagonist and/or a pharmaceutically acceptable salt thereof and a pharmaceutically acceptable carrier. The medicament can prevent or treat diabetic kidney disease by protecting tubular epithelial cells, reducing glomerular hypertrophy, glomerulosclerosis, and fibrosis. The present disclosure also provides a method for preventing or treating a diabetic kidney disease in a subject in need thereof, including administering an effective amount of a CCL7 antagonist and/or a pharmaceutically acceptable salt thereof to the subject to inhibit an activity of CCL7.

Classes IPC  ?

  • C12N 15/113 - Acides nucléiques non codants modulant l'expression des gènes, p. ex. oligonucléotides anti-sens
  • A61P 13/12 - Médicaments pour le traitement des troubles du système urinaire des reins
  • C07K 16/24 - Immunoglobulines, p. ex. anticorps monoclonaux ou polyclonaux contre du matériel provenant d'animaux ou d'humains contre des cytokines, des lymphokines ou des interférons
  • C07K 16/28 - Immunoglobulines, p. ex. anticorps monoclonaux ou polyclonaux contre du matériel provenant d'animaux ou d'humains contre des récepteurs, des antigènes de surface cellulaire ou des déterminants de surface cellulaire

23.

DEVICE AND FORMATION METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18454546
Statut En instance
Date de dépôt 2023-08-23
Date de la première publication 2025-02-27
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chen, Yu-Rui
  • Zhao, Zefu
  • Chen, Yun-Wen
  • Liu, Chee-Wee

Abrégé

A device includes a substrate, a semiconductor layer and a ferroelectric layer. The semiconductor layer is over the substrate. The semiconductor layer is a single crystal silicon layer or a single crystal germanium layer. The ferroelectric layer is over the semiconductor layer. The ferroelectric layer is in physical contact with the semiconductor layer and has an orthorhombic phase.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
  • H01L 29/51 - Matériaux isolants associés à ces électrodes
  • H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

24.

NANOMATERIAL COMPOSITION AND USE OF THE SAME FOR MAGNETIC FIELD-INDUCED ELECTRICAL STIMULATION OF CELLS

      
Numéro d'application 18540750
Statut En instance
Date de dépôt 2023-12-14
Date de la première publication 2025-02-20
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chiang, Po-Han
  • Cheng, Chao-Chun

Abrégé

A nanomaterial composition for magnetic field-induced electrical stimulation of cells includes a piezoelectric nanoparticle and a magnetic nanodisc. The piezoelectric nanoparticle is conjugated to a first molecule of a specific binding molecule pair and is coated with a cell-binding molecule. The magnetic nanodisc is conjugated to a second molecule of the specific binding molecule pair and is attached to the piezoelectric nanoparticle through bonding of the second molecule and the first molecule. The magnetic nanodisc converts a magnetic energy into a mechanical energy in the presence of an external magnetic field, and the mechanical energy is then applied to the piezoelectric nanoparticle that is in contact with the cells via the cell-binding molecule, such that the piezoelectric nanoparticle converts the mechanical energy into an electrical energy, so as to electrically stimulate the cells. A method for magnetic field-induced electrical stimulation of cells in a subject is also provided.

Classes IPC  ?

  • A61K 49/18 - Préparations de contraste pour la résonance magnétique nucléaire [RMN]Préparations de contraste pour l'imagerie par résonance magnétique [IRM] caractérisées par un aspect physique particulier, p. ex. émulsions, microcapsules, liposomes
  • A61N 1/36 - Application de courants électriques par électrodes de contact courants alternatifs ou intermittents pour stimuler, p. ex. stimulateurs cardiaques

25.

INSUFFLATION NEEDLE ASSEMBLY AND METHOD OF INSUFFLATING A BODY CAVITY BY USING SAME

      
Numéro d'application US2024042400
Numéro de publication 2025/038798
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-08-15
Date de publication 2025-02-20
Propriétaire
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
  • CHIOU, Arthur Er Terg (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Kuo, Wen-Chuan
  • Kao, Meng-Chun
  • Huang, Yi-Hsiu

Abrégé

Provided is an insufflation needle assembly with remote visual functionality. The insufflation needle assembly includes a needle having an outer tubular sharp-ended cannula and an inner hollow blunt-ended cannula with a side opening near its blunt end, an optic fiber removably disposed in the inner hollow blunt-ended cannula, a driving mechanism coupled to the optic fiber and configured to rotate the optic fiber around its longitudinal axis, and an optical coherence tomography imaging system. Also provided is a method for insufflating a body cavity in a subject in need thereof by using the insufflation needle assembly for a visual-guided procedure to insufflate the body cavity.

Classes IPC  ?

  • A61B 17/34 - TrocartsAiguilles à ponction
  • A61B 1/015 - Commande de l'alimentation en fluide ou de l'évacuation de fluide
  • A61B 1/05 - Instruments pour procéder à l'examen médical de l'intérieur des cavités ou des conduits du corps par inspection visuelle ou photographique, p. ex. endoscopesDispositions pour l'éclairage dans ces instruments combinés avec des dispositifs photographiques ou de télévision caractérisés par le fait que le capteur d'images, p. ex. l'appareil photographique, est placé dans la partie de l'extrémité distale
  • A61B 1/07 - Instruments pour procéder à l'examen médical de l'intérieur des cavités ou des conduits du corps par inspection visuelle ou photographique, p. ex. endoscopesDispositions pour l'éclairage dans ces instruments avec dispositifs d'éclairement utilisant des moyens conduisant la lumière, p. ex. des fibres optiques
  • A61B 10/04 - Instruments endoscopiques, p. ex. instruments de type cathéther
  • A61B 90/00 - Instruments, outillage ou accessoires spécialement adaptés à la chirurgie ou au diagnostic non couverts par l'un des groupes , p. ex. pour le traitement de la luxation ou pour la protection de bords de blessures

26.

POWER DEVICE THRESHOLD VOLTAGE MEASUREMENT CIRCUIT AND OPERATION METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18235267
Statut En instance
Date de dépôt 2023-08-17
Date de la première publication 2025-02-20
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Kumar, Rustam
  • Wu, Tian-Li

Abrégé

A power device threshold voltage measurement circuit and its operation method thereof are provided. The measurement circuit includes a switch component, a device under test, a common source capacitor and a decoupling capacitor. The switch component and the device under test forms a half bridge circuit and the common source capacitor is in series connected at the source of the device under test. The device under test is connected as a lower switch of the half bridge circuit and the decoupling capacitor is connected between the device under test and the common source capacitor. By applying an OFF-state stress mode and a measurement mode successively afterwards, a threshold voltage of the device under test is obtained. And the present invention is beneficial to achieving in shorter pulse width, faster measuring speed and inexpensive measuring equipment, and can thus be widely applied to group III-N based power devices.

Classes IPC  ?

  • G01R 31/12 - Test de la rigidité diélectrique ou de la tension disruptive
  • G01R 31/26 - Test de dispositifs individuels à semi-conducteurs

27.

SEMICONDUCTOR STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18447544
Statut En instance
Date de dépôt 2023-08-10
Date de la première publication 2025-02-13
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chou, Tao
  • Lin, Hsin-Cheng
  • Yao, Ching-Wang
  • Wang, Li-Kai
  • Liu, Chee-Wee
  • Hu, Chenming

Abrégé

A method includes forming a first pull-up transistor and a first pass-gate transistor over a substrate at a first level height, the first pull-up and first pass-gate transistors being of a dual port static random access memory (SRAM) cell; forming a first pull-down transistor and a second pass-gate transistor of the dual port SRAM cell over the substrate at a second level height; forming a second pull-down transistor and a third pass-gate transistor of the dual port SRAM cell over the substrate at a third level height; forming a second pull-up transistor and a fourth pass-gate transistor of the dual port SRAM cell over the substrate at a fourth level height.

Classes IPC  ?

  • H10B 10/00 - Mémoires statiques à accès aléatoire [SRAM]
  • H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
  • H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
  • H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
  • H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
  • H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
  • H01L 29/786 - Transistors à couche mince

28.

COMPOSITION AND METHOD OF TREATING A CANCER THROUGH AFFECTING MEMBRANE RECEPTORS OF CANCER CELLS AND THEIR DERIVED EXTRACELLULAR VESICLES

      
Numéro d'application 18790668
Statut En instance
Date de dépôt 2024-07-31
Date de la première publication 2025-02-06
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Huang, Chi-Ying
  • Tsai, Wei-Ni
  • Solomon, Cayla
  • Cheng, Tai-Shan
  • Chuang, Ming-Hsi
  • Lee, Ly James
  • Chang, Peter Mu-Hsin
  • Huang, Yu-Tang
  • Nguyen, Thi Tuong Linh
  • Lo, Yi-Ning

Abrégé

The present invention is related to a use of prochlorperazine (PCP), or analog thereof for treating a cancer in a subject by influencing membrane proteins and receptors and inducing alterations in the expressions of the surface marker on cancer cells and their derived extracellular vesicles. The invention method offers a novel approach for the treatment and diagnosis of cancer and metastasis. Specific surface markers serve as a potential candidate for cancer-associated extracellular vesicles (EVs) and have applications in diagnosis, prognosis, and therapeutic targeting.

Classes IPC  ?

  • G01N 33/574 - Tests immunologiquesTests faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiquesMatériaux à cet effet pour le cancer
  • A61K 31/4178 - 1,3-Diazoles non condensés et contenant d'autres hétérocycles, p. ex. pilocarpine, nitrofurantoïne

29.

SYSTEM FOR NAVIGATING A VIRTUAL ENVIRONMENT USING SEATED WALKING-IN-PLACE FOOTSTEP LOCOMOTION

      
Numéro d'application 18653294
Statut En instance
Date de dépôt 2024-05-02
Date de la première publication 2025-02-06
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chan, Li-Wei
  • Mi, Tzu-Wei
  • Hsueh, Chung-Hao
  • Huang, Yi-Ci

Abrégé

A system for navigating a virtual environment using seated walking-in-place footstep locomotion includes a virtual reality device, a first sensing device, and a second sensing device. The first sensing device senses the first footstep locomotion of one of feet of a user seated in a physical environment to generate and transmit a first stepping signal to the virtual reality device. The second sensing device senses the second footstep locomotion of another of the feet of the user seated in the physical environment to generate and transmit a second stepping signal to the virtual reality device. The virtual reality device navigates the virtual environment in a virtual locomotion mode based on a combination of the first stepping signal and the second stepping signal.

Classes IPC  ?

  • G06F 3/01 - Dispositions d'entrée ou dispositions d'entrée et de sortie combinées pour l'interaction entre l'utilisateur et le calculateur

30.

OPTICAL SYSTEM HAVING ADJUSTABLE FOCAL LENGTH

      
Numéro d'application 18921407
Statut En instance
Date de dépôt 2024-10-21
Date de la première publication 2025-02-06
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Yi-Hsin
  • Huang, Ting-Wei
  • Wang, Yu-Jen

Abrégé

An optical system includes a pancake lens assembly and a varifocal lens device. The varifocal lens device is coupled to the pancake lens assembly in a way that an optical axis of the varifocal lens device is in alignment with an optical axis of the pancake lens assembly, thereby permitting the optical system to have an adjustable focal length.

Classes IPC  ?

  • G02F 1/1335 - Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p. ex. des polariseurs ou des réflecteurs
  • G02B 3/14 - Lentilles remplies d'un fluide ou à l'intérieur desquelles le vide a été fait à distance focale variable
  • G02F 1/13363 - Éléments à biréfringence, p. ex. pour la compensation optique

31.

COMPOSITION AND METHOD OF TREATING A CANCER THROUGH AFFECTING MEMBRANE RECEPTORS OF CANCER CELLS AND THEIR DERIVED EXTRACELLULAR VESICLES

      
Numéro d'application US2024040346
Numéro de publication 2025/029893
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2024-07-31
Date de publication 2025-02-06
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Huang, Chi-Ying
  • Tsai, Wei-Ni
  • Solomon, Cayla
  • Cheng, Tai-Shan
  • Chuang, Ming-Hsi
  • Chang, Peter Mu-Hsin
  • Huang, Yu-Tang
  • Nguyen, Thi Tuong Linh
  • Lo, Yi-Ning

Abrégé

The present invention is related to a use of prochlorperazine (PCP), or analog thereof for treating a cancer in a subject by influencing membrane proteins and receptors and inducing alterations in the expressions of the surface marker on cancer cells and their derived extracellular vesicles. The invention method offers a novel approach for the treatment and diagnosis of cancer and metastasis. Specific surface markers serve as a potential candidate for cancer-associated extracellular vesicles (EVs) and have applications in diagnosis, prognosis, and therapeutic targeting.

Classes IPC  ?

  • A61K 31/517 - PyrimidinesPyrimidines hydrogénées, p. ex. triméthoprime condensées en ortho ou en péri avec des systèmes carbocycliques, p. ex. quinazoline, périmidine
  • A61K 31/519 - PyrimidinesPyrimidines hydrogénées, p. ex. triméthoprime condensées en ortho ou en péri avec des hétérocycles
  • A61K 31/537 - Composés hétérocycliques ayant l'azote comme hétéro-atome d'un cycle, p. ex. guanéthidine ou rifamycines ayant des cycles à six chaînons avec au moins un azote et au moins un oxygène comme hétéro-atomes d'un cycle, p. ex. 1,2-oxazines condensées en spiro ou formant une partie de systèmes cycliques pontés
  • A61P 35/00 - Agents anticancéreux
  • A61P 35/04 - Agents anticancéreux spécifiques pour le traitement des métastases

32.

BLOOD PHYSIOLOGICAL PARAMETER SENSING DEVICE AND SYSTEM

      
Numéro d'application 18779780
Statut En instance
Date de dépôt 2024-07-22
Date de la première publication 2025-01-30
Propriétaire
  • National Taiwan University (Taïwan, Province de Chine)
  • National Taiwan University Hospital Hsin-Chu Branch (Taïwan, Province de Chine)
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chen, Yih-Sharng
  • Tsai, Hsiao-En
  • Cheng, Yu-Ting

Abrégé

A blood physiological parameter sensing device includes a housing, a flow channel structure, a control unit and a sensing unit. The flow channel structure is disposed in the housing and forms a channel for a liquid to be measured to pass. The control unit is disposed in the housing. The sensing unit is disposed in the housing, is electrically connected to the control unit, and has a sensing end. The sensing end passes through the flow channel structure, is configured in the channel, and has an electrochemical sensing material. The electrochemical sensing material is used to exchange electrons with the blood physiological parameter in the liquid to be measured to produce redox reactions to generate current or voltage change parameters. The sensing unit transmits the current or voltage change parameters to the control unit, which obtains a blood physiological parameter concentration value to achieve instantaneous and continuous monitor the patients.

Classes IPC  ?

  • A61B 5/1468 - Mesure des caractéristiques du sang in vivo, p. ex. de la concentration des gaz dans le sang ou de la valeur du pH du sang en utilisant des procédés chimiques ou électrochimiques, p. ex. par des moyens polarographiques
  • A61B 5/00 - Mesure servant à établir un diagnostic Identification des individus

33.

EARLY CLASSIFICATION METHOD AND ELECTRICAL DEVICE FOR MULTI-OBJECTIVE OPTIMIZATION

      
Numéro d'application 18220402
Statut En instance
Date de dépôt 2023-07-11
Date de la première publication 2025-01-16
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tseng, Shin-Mu
  • Yen, Gary

Abrégé

An early classification method with multiple-objectives optimization is provided. The method includes: dividing time series data into multiple snippets; input a snippet into a first machine learning model to obtain a spatial feature vector; calculating, by a recurrent neural network, a current spatiotemporal feature vector according to the spatial feature vector and a previous spatiotemporal feature vector; determining whether to perform early classification according to the spatiotemporal feature vector; if determined not to perform the early classification, processing a subsequent snippet; if determined to perform the early classification, input the spatiotemporal feature vector into a second machine learning model to calculate a predicted label of the time series data. Accordingly, multiple-objectives optimization is achieved.

Classes IPC  ?

34.

PACKAGE STRUCTURE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME

      
Numéro d'application 18348092
Statut En instance
Date de dépôt 2023-07-06
Date de la première publication 2025-01-09
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chen, Chih
  • He, Pin-Syuan
  • Shie, Kai-Cheng

Abrégé

A method includes forming a first conductive feature over a first semiconductor structure; forming a first dielectric layer over the first conductive feature and the first semiconductor structure; removing a portion of the first dielectric layer to expose a top surface of the first conductive feature; forming a second conductive feature over a second semiconductor structure, wherein the first and second conductive features comprise nanotwinned copper; forming a second dielectric layer over the second conductive feature and the second semiconductor structure, wherein the second dielectric layer comprises a same material as the first dielectric layer; removing a portion of the second dielectric layer to expose a top surface of the second conductive feature; and performing a hybrid bonding process to bond the first dielectric layer to the second dielectric layer and bond the first conductive feature to the second conductive feature.

Classes IPC  ?

  • H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
  • H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
  • H01L 23/48 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p. ex. fils de connexion ou bornes
  • H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux

35.

FUSED RING ACCEPTOR MATERIAL AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

      
Numéro d'application 18757513
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-28
Date de la première publication 2025-01-09
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Cheng, Yen-Ju
  • Xue, Yung-Jing
  • Lu, Han-Cheng
  • Hong, Jun-Cheng
  • Huang, Kuo-Hsiu

Abrégé

A fused ring acceptor material includes a structure of following formula (I). A fused ring acceptor material includes a structure of following formula (I). A fused ring acceptor material includes a structure of following formula (I). formula (I), where R1 is a C1-C24 alkyl, a phenyl, a phenyl derivative, a furyl, a furyl derivative, a thienyl, a thienyl derivative, a selenophene or a selenophene derivative; B is A fused ring acceptor material includes a structure of following formula (I). formula (I), where R1 is a C1-C24 alkyl, a phenyl, a phenyl derivative, a furyl, a furyl derivative, a thienyl, a thienyl derivative, a selenophene or a selenophene derivative; B is A fused ring acceptor material includes a structure of following formula (I). formula (I), where R1 is a C1-C24 alkyl, a phenyl, a phenyl derivative, a furyl, a furyl derivative, a thienyl, a thienyl derivative, a selenophene or a selenophene derivative; B is R2 is a C1-C24 alkyl, a phenyl, a phenyl derivative, a thienyl or a thienyl derivative; D is A fused ring acceptor material includes a structure of following formula (I). formula (I), where R1 is a C1-C24 alkyl, a phenyl, a phenyl derivative, a furyl, a furyl derivative, a thienyl, a thienyl derivative, a selenophene or a selenophene derivative; B is R2 is a C1-C24 alkyl, a phenyl, a phenyl derivative, a thienyl or a thienyl derivative; D is A fused ring acceptor material includes a structure of following formula (I). formula (I), where R1 is a C1-C24 alkyl, a phenyl, a phenyl derivative, a furyl, a furyl derivative, a thienyl, a thienyl derivative, a selenophene or a selenophene derivative; B is R2 is a C1-C24 alkyl, a phenyl, a phenyl derivative, a thienyl or a thienyl derivative; D is R3 is a hydrogen atom, a halogen, a C1-C24 alkyl or a C1-C24 alkoxy; and A1 is A fused ring acceptor material includes a structure of following formula (I). formula (I), where R1 is a C1-C24 alkyl, a phenyl, a phenyl derivative, a furyl, a furyl derivative, a thienyl, a thienyl derivative, a selenophene or a selenophene derivative; B is R2 is a C1-C24 alkyl, a phenyl, a phenyl derivative, a thienyl or a thienyl derivative; D is R3 is a hydrogen atom, a halogen, a C1-C24 alkyl or a C1-C24 alkoxy; and A1 is

Classes IPC  ?

  • H10K 85/60 - Composés organiques à faible poids moléculaire
  • C07D 495/22 - Composés hétérocycliques contenant dans le système condensé au moins un hétérocycle comportant des atomes de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle dans lesquels le système condensé contient au moins quatre hétérocycles
  • H10K 30/20 - Dispositifs organiques sensibles au rayonnement infrarouge, à la lumière, au rayonnement électromagnétique de plus courte longueur d'onde ou au rayonnement corpusculaire comprenant des jonctions organiques-organiques, p. ex. des jonctions donneur-accepteur

36.

METHOD FOR TREATING A PERIOHERAL ARTERIAL DISEASE

      
Numéro d'application 18214178
Statut En instance
Date de dépôt 2023-06-26
Date de la première publication 2024-12-26
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Ting-Ting
  • Chen, Jaw-Wen

Abrégé

Provided is a method for preventing or treating a peripheral arterial disease (PAD) in a subject in need thereof, including administering an effective amount of a chemokine C-C motif ligand 7 (CCL7) antagonist to the subject to inhibit CCL7 activity.

Classes IPC  ?

  • C07K 16/24 - Immunoglobulines, p. ex. anticorps monoclonaux ou polyclonaux contre du matériel provenant d'animaux ou d'humains contre des cytokines, des lymphokines ou des interférons
  • A61K 9/00 - Préparations médicinales caractérisées par un aspect particulier
  • A61P 9/10 - Médicaments pour le traitement des troubles du système cardiovasculaire des maladies ischémiques ou athéroscléreuses, p. ex. médicaments antiangineux, vasodilatateurs coronariens, médicaments pour le traitement de l'infarctus du myocarde, de la rétinopathie, de l'insuffisance cérébro-vasculaire, de l'artériosclérose rénale

37.

SEMICONDUCTOR DEVICES AND METHODS OF MANUFACTURE

      
Numéro d'application 18336829
Statut En instance
Date de dépôt 2023-06-16
Date de la première publication 2024-12-19
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chiu, Hsin-Yuan
  • Chao, Tzu-Ang
  • Pitner, Gregory Michael
  • Passlack, Matthias
  • Chien, Chao-Hsin
  • Wang, Han

Abrégé

A device includes a carbon nanotube having a channel region and dopant-free source/drain regions at opposite sides of the channel region, a first metal oxide layer interfacing a first one of the dopant-free source/drain regions of the carbon nanotube, a second metal oxide layer interfacing a second one of the dopant-free source/drain regions of the carbon nanotube and a gate structure over the channel region of the carbon nanotube, and laterally between the first metal oxide layer and the second metal oxide layer.

Classes IPC  ?

  • H10K 10/84 - Électrodes ohmiques, p. ex. électrodes de source ou de drain
  • H10K 10/46 - Transistors à effet de champ, p. ex. transistors organiques à couche mince [OTFT]

38.

METHOD AND PHARMACEUTICAL COMPOSITION FOR TREATING A CARTILAGE DAMAGE USING SOX9 GENE

      
Numéro d'application 18737607
Statut En instance
Date de dépôt 2024-06-07
Date de la première publication 2024-12-12
Propriétaire
  • FAR EASTERN MEMORIAL HOSPITAL (Taïwan, Province de Chine)
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Liao, Hsiu-Jung
  • Chang, Chih-Hung
  • Huang, Chi-Ying
  • Lee, Ly James
  • Cheng, Tai-Shan
  • Chen, Sin-Yu

Abrégé

The present invention is related to a method and pharmaceutical composition for treating a cartilage damage in a subject (including a human or an animal), particularly osteoarthritis (OA), using extracellular vesicles (EVs) with SOX9 gene, called as “EV-SOX9”. The EV-SOX9 is obtained by encapsulating the SOX9 mRNA or the mRNA of its upstream and downstream gene in EVs, naïve EVs with high expression level of SOX9 mRNA or its upstream and downstream gene from different cell sources, or MSC-derived EV-SOX9, which is obtained by transferring the SOX9 gene or its upstream and downstream gene into a multipotent cell and collecting EVs.

Classes IPC  ?

  • A61K 48/00 - Préparations médicinales contenant du matériel génétique qui est introduit dans des cellules du corps vivant pour traiter des maladies génétiquesThérapie génique
  • A61K 9/00 - Préparations médicinales caractérisées par un aspect particulier
  • A61K 9/50 - Microcapsules
  • A61K 38/39 - Peptides du tissu connectif, p. ex. collagène, élastine, laminine, fibronectine, vitronectine, globuline insoluble à froid [CIG]
  • A61K 45/06 - Mélanges d'ingrédients actifs sans caractérisation chimique, p. ex. composés antiphlogistiques et pour le cœur
  • A61P 19/02 - Médicaments pour le traitement des troubles du squelette des troubles articulaires, p. ex. arthrites, arthroses
  • C12N 15/88 - Introduction de matériel génétique étranger utilisant des procédés non prévus ailleurs, p. ex. co-transformation utilisant la micro-encapsulation, p. ex. utilisant des vésicules liposomiques

39.

THREE DIMENSIONAL INTEGRATED CIRCUIT AND FABRICATION THEREOF

      
Numéro d'application 18789369
Statut En instance
Date de dépôt 2024-07-30
Date de la première publication 2024-11-28
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Hu, Chenming
  • Chang, Shu-Jui
  • Chou, Chen-Han
  • Ho, Yen-Teng
  • Wu, Chia-Hsing
  • Peng, Kai-Yu
  • Shen, Cheng-Hung

Abrégé

A method includes following steps. A dielectric layer is formed over a substrate. A transition metal-containing layer is deposited on the dielectric layer. The transition metal-containing layer is patterned into a plurality of transition metal-containing pieces. The transition metal-containing pieces are sulfurized or selenized to form a plurality of semiconductor seeds. Semiconductor films are grown from semiconductor seeds. Transistors are formed on the semiconductor films.

Classes IPC  ?

  • H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
  • H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
  • H01L 21/8234 - Technologie MIS
  • H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
  • H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive

40.

PACKAGE STRUCTURE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME

      
Numéro d'application 18323403
Statut En instance
Date de dépôt 2023-05-24
Date de la première publication 2024-11-28
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chen, Chih
  • Lin, Yi-Quan

Abrégé

A method includes forming a first conductive feature and a second conductive feature over a first substrate, wherein the first and second conductive features comprise nano-twinned copper; and depositing a first metal cap layer over the first conductive feature and a second metal cap layer over the second conductive feature, wherein the first metal cap layer is spaced apart from the second metal cap layer in a cross-sectional view.

Classes IPC  ?

  • H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide

41.

INTEGRATED CIRCUIT STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18310489
Statut En instance
Date de dépôt 2023-05-01
Date de la première publication 2024-11-07
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Hsin-Cheng
  • Liu, Yi-Chun
  • Chiu, Kung-Ying
  • Liu, Chee-Wee

Abrégé

An integrated circuit structure includes a substrate, a bottom nanostructure transistor, and a top nanostructure transistor. The bottom nanostructure transistor is over the substrate and includes a first channel layer, a first gate structure, and first source/drain epitaxial structures. The first gate structure wraps around the first channel layer. The first source/drain epitaxial structures are on opposite sides of the first channel layer. The top nanostructure transistor is over the bottom nanostructure transistor and includes a second channel layer, a second gate structure, and second source/drain epitaxial structures. The second channel layer is over the first channel layer. The second gate structure wraps around the second channel layer. A bottom surface of the second gate structure is substantially coplanar with a bottom surface of the first gate structure. The second source/drain epitaxial structures are on opposite sides of the second channel layer.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
  • H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
  • H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
  • H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
  • H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
  • H01L 29/786 - Transistors à couche mince

42.

STACKED TRANSISTORS AND METHODS OF FORMING THE SAME

      
Numéro d'application 18508841
Statut En instance
Date de dépôt 2023-11-14
Date de la première publication 2024-11-07
Propriétaire
  • Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. (Taïwan, Province de Chine)
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Hsin-Cheng
  • Yao, Ching-Wang
  • Chiu, Kung-Ying
  • Liu, Chee Wee

Abrégé

Various embodiments include stacked transistors and methods of forming stacked transistors. In an embodiment, a device includes: a first nanostructure; a second nanostructure above the first nanostructure; a first gate structure extending along a top surface and a bottom surface of the first nanostructure; and a second gate structure extending along a top surface and a bottom surface of the second nanostructure. The first gate structure is disposed at a first side of the first nanostructure and a first side of the second nanostructure. The second gate structure is disposed at a second side of the first nanostructure and a second side of the second nanostructure. The second side of the first nanostructure is opposite the first side of the first nanostructure. The second side of the second nanostructure opposite the first side of the second nanostructure.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
  • H01L 21/8234 - Technologie MIS
  • H01L 27/088 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant uniquement des composants semi-conducteurs d'un seul type comprenant uniquement des composants à effet de champ les composants étant des transistors à effet de champ à porte isolée
  • H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
  • H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
  • H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
  • H01L 29/786 - Transistors à couche mince

43.

SEMICONDUCTOR DEVICE WITH TWO-DIMENSIONAL MATERIALS AND FORMING METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18308106
Statut En instance
Date de dépôt 2023-04-27
Date de la première publication 2024-10-31
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Shu-Jui
  • Wang, Shin-Yuan
  • Huang, Yu-Che
  • Chien, Chao-Hsin
  • Hu, Chenming

Abrégé

A method includes following steps. A single-crystalline two-dimensional (2D) semiconductor layer is formed over a substrate. A single-crystalline 2D material layer is epitaxially grown on the single-crystalline 2D semiconductor layer. The single-crystalline 2D material layer is lattice-matched with the single-crystalline 2D semiconductor layer. A semiconductor device is over the single-crystalline 2D semiconductor layer.

Classes IPC  ?

  • H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
  • C30B 25/18 - Croissance d'une couche épitaxiale caractérisée par le substrat
  • C30B 29/40 - Composés AIII BV
  • H01L 29/04 - Corps semi-conducteurs caractérisés par leur structure cristalline, p.ex. polycristalline, cubique ou à orientation particulière des plans cristallins

44.

EXPANDED SPINAL FUSION CAGE

      
Numéro d'application 18533438
Statut En instance
Date de dépôt 2023-12-08
Date de la première publication 2024-10-24
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Chun-Li
  • Shen, Shih-Chieh
  • Huang, Shao-Fu
  • Sun, Wei-Hsiang

Abrégé

An expanded spinal fusion cage is provided and includes: an outer frame; a sliding block set with a middle sliding block located within the outer frame, and the middle sliding block is located between two outer sliding blocks; a screw rod penetrating through and combined with the outer frame, and the screw rod is screwed with the middle sliding block, so that the middle sliding block is moved in translation in the outer frame and simultaneously expands the two outer sliding blocks by rotating the screw rod; two curved surface elements located outside the outer frame and combined with the two outer sliding blocks respectively, each of the curved surface elements has a wing plate; and two vertebral arch screws penetrating through and combined with the two wing plates.

Classes IPC  ?

  • A61F 2/44 - Articulations pour l'épine dorsale, p. ex. vertèbres, disques intervertébraux
  • A61F 2/30 - Articulations

45.

THREE DIMENSIONAL INTEGRATED CIRCUIT WITH POLYCRYSTALLINE STRUCTURE

      
Numéro d'application 18762138
Statut En instance
Date de dépôt 2024-07-02
Date de la première publication 2024-10-24
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Hu, Chenming
  • Huang, Po-Tsang

Abrégé

An IC structure includes a first transistor, an interconnect structure, a dielectric layer, a polysilicon fin, and a second transistor. The first transistor is over a substrate. The interconnect structure is over the first transistor. The dielectric layer is over the interconnect structure. The polysilicon fin includes a first portion laterally extending over the dielectric layer, and a second portion extending through the dielectric layer to a metal material within the interconnect structure. The second transistor is formed on the first portion of the polysilicon fin.

Classes IPC  ?

  • H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
  • H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
  • H01L 21/822 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie au silicium
  • H01L 21/8234 - Technologie MIS
  • H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
  • H01L 27/12 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant

46.

EPITAXIAL STRUCTURE AND METHOD OF FORMING THE SAME

      
Numéro d'application 18299610
Statut En instance
Date de dépôt 2023-04-12
Date de la première publication 2024-10-17
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Shu-Jui
  • Wang, Shin-Yuan
  • Huang, Yu-Che
  • Chien, Chao-Hsin
  • Hu, Chenming

Abrégé

An epitaxial structure includes a substrate and a dielectric layer. The dielectric layer is on the substrate. The substrate comprises a single crystal metal or a single crystal 2D material. The dielectric layer is in physical contact with the substrate. The dielectric layer comprises a non-perovskite structure with defined grain orientation with ferroelectric (FE) phase or antiferroelectric (AFE) phase.

Classes IPC  ?

  • H01L 21/20 - Dépôt de matériaux semi-conducteurs sur un substrat, p. ex. croissance épitaxiale
  • H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
  • H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
  • H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/51 - Matériaux isolants associés à ces électrodes

47.

SEMICONDUCTOR STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18193041
Statut En instance
Date de dépôt 2023-03-30
Date de la première publication 2024-10-03
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Chun-Liang
  • Hu, Chenming
  • Chen, Wan-Hsin
  • Kawakami, Naoya

Abrégé

The present disclosure in various embodiments provides a method. In some embodiments of the present disclosure, the method includes forming a transition metal dichalcogenide layer on a substrate; and performing an ion bombardment process on the transition metal dichalcogenide layer, performing an annealing process on the transition metal dichalcogenide layer.

Classes IPC  ?

  • H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives

48.

CONTAINER NETWORK COMMUNICATION SYSTEM AND METHOD

      
Numéro d'application 18218919
Statut En instance
Date de dépôt 2023-07-06
Date de la première publication 2024-10-03
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tseng, Chien Chao
  • Chang, Chieh Chih

Abrégé

The present disclosure provides a container network communication method, which includes steps as follows. An encapsulation based on a tunneling protocol is performed on a first packet with a destination network address indicating a second pod by a first tunnel endpoint of a first SDN switch, so as to obtain a first tunnel packet; the first tunnel packet is sent from the first SDN switch to the second SDN switch, and then performing a decapsulation based on the tunneling protocol on the first tunnel packet by a second tunnel endpoint of the second SDN switch, so that the second pod obtains a data of the first packet.

Classes IPC  ?

  • H04L 45/76 - Routage dans des topologies définies par logiciel, p. ex. l’acheminement entre des machines virtuelles
  • H04L 12/46 - Interconnexion de réseaux

49.

METHOD AND SYSTEM FOR PATH PLANNING OF ROBOT ARM IN DYNAMIC ENVIRONMENT AND NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE MEDIUM

      
Numéro d'application 18214100
Statut En instance
Date de dépôt 2023-06-26
Date de la première publication 2024-09-26
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Song, Kai-Tai
  • Lee, Chuan-Che

Abrégé

A method for path planning of a robot arm in a dynamic environment includes steps as follows. During an operation of the robot arm in a three-dimensional environment, a state of an obstacle is obtained in real time, and when a collision danger occurs, the robot arm is allowed to dodge the obstacle. In the collision danger, a partial path of the robot arm is re-planned based on a hybrid RRT, so that the robot arm avoids dynamic and static obstacles in an environment and then returns to an original path for continuing operation.

Classes IPC  ?

50.

ROBOT AND METHOD FOR AUTONOMOUSLY MOVING AND GRASPING OBJECTS

      
Numéro d'application 18384377
Statut En instance
Date de dépôt 2023-10-26
Date de la première publication 2024-09-26
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Song, Kai-Tai
  • Chiu, Chien-Wei

Abrégé

A robot and method for autonomously moving and grasping objects are provided. The robot includes a robotic arm for grasping a target object; a mobile platform for moving the robotic arm to the target object's location; a semantic navigation system for navigating the mobile platform to the target object's location; a first camera for shooting the external environment during navigation; a second camera for obtaining relative images of the environment for the robotic arm; an object recognition and pose estimation system for performing semantic segmentation and pose estimation of the target object; an automatic docking coordination controller for obtaining the best mobile grasping path and pose for the robotic arm and the mobile platform; a mobile grasping controller for controlling the movement of the robotic arm through the object recognition and pose estimation system; and a mobile platform controller for controlling the motion of the robot.

Classes IPC  ?

51.

AUTOMATED DETECTION SYSTEM FOR ACUTE ISCHEMIC STROKE

      
Numéro d'application 18209830
Statut En instance
Date de dépôt 2023-06-14
Date de la première publication 2024-09-19
Propriétaire
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
  • Kaohsiung Chang Gung Memorial Hospital (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chen, Yong-Sheng
  • Lin, Wei-Che
  • Lin, Shih-Yen
  • Yang, Hsiang-Chun
  • Yeh, Yu-Lin
  • Calista, Evelyne
  • Chiang, Pi-Ling

Abrégé

In an automated detection system for acute ischemic stroke, a preprocessor performs registration on a whole-brain image and a standard-brain spatial template to extract individual brain region masks from the whole-brain image. A deep learning encoder performs feature extraction on the whole-brain image and the individual brain region masks, thereby converting the whole-brain image into 2D whole-brain slice images. A first processor maps the individual brain masks onto the whole-brain slice images for registration, thereby generating sets of brain region slice images. A second processor computes the stroke-related weight values of the slice images of each of the sets of brain region slice images and sums the weight values to obtain the characteristic value of each brain region. A disparity-aware classifier determines whether any brain region has acute ischemic stroke according to the characteristic value of each brain region.

Classes IPC  ?

  • G06T 7/00 - Analyse d'image
  • G06T 7/11 - Découpage basé sur les zones
  • G06T 7/174 - DécoupageDétection de bords impliquant l'utilisation de plusieurs images
  • G06V 10/24 - Alignement, centrage, détection de l’orientation ou correction de l’image
  • G06V 10/42 - Extraction de caractéristiques globales par l’analyse du motif entier, p. ex. utilisant des transformations dans le domaine de fréquence ou d’autocorrélation
  • G06V 10/764 - Dispositions pour la reconnaissance ou la compréhension d’images ou de vidéos utilisant la reconnaissance de formes ou l’apprentissage automatique utilisant la classification, p. ex. des objets vidéo
  • G06V 10/82 - Dispositions pour la reconnaissance ou la compréhension d’images ou de vidéos utilisant la reconnaissance de formes ou l’apprentissage automatique utilisant les réseaux neuronaux
  • G16H 30/40 - TIC spécialement adaptées au maniement ou au traitement d’images médicales pour le traitement d’images médicales, p. ex. l’édition
  • G16H 50/20 - TIC spécialement adaptées au diagnostic médical, à la simulation médicale ou à l’extraction de données médicalesTIC spécialement adaptées à la détection, au suivi ou à la modélisation d’épidémies ou de pandémies pour le diagnostic assisté par ordinateur, p. ex. basé sur des systèmes experts médicaux

52.

SYSTEM FOR DETECTING OBSTACLE STATE AND AN OPERATION METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18203385
Statut En instance
Date de dépôt 2023-05-30
Date de la première publication 2024-09-12
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Guo, Jiun-In
  • Hu, Zhe-Lun

Abrégé

The invention provides a system for detecting obstacle state and an operating method thereof, comprising an image capturing module, a semantic segmentation module, a feature extraction module, an object detection module, and a distance table calibration module. The invention is delivered a semantic segmentation information to a model for processing self-learning, and selected an output of an original image size, for a carrier of an attention mechanism.

Classes IPC  ?

  • G06V 20/58 - Reconnaissance d’objets en mouvement ou d’obstacles, p. ex. véhicules ou piétonsReconnaissance des objets de la circulation, p. ex. signalisation routière, feux de signalisation ou routes
  • G06T 7/50 - Récupération de la profondeur ou de la forme
  • G06V 10/26 - Segmentation de formes dans le champ d’imageDécoupage ou fusion d’éléments d’image visant à établir la région de motif, p. ex. techniques de regroupementDétection d’occlusion
  • G06V 10/40 - Extraction de caractéristiques d’images ou de vidéos
  • G06V 10/764 - Dispositions pour la reconnaissance ou la compréhension d’images ou de vidéos utilisant la reconnaissance de formes ou l’apprentissage automatique utilisant la classification, p. ex. des objets vidéo
  • G06V 10/77 - Traitement des caractéristiques d’images ou de vidéos dans les espaces de caractéristiquesDispositions pour la reconnaissance ou la compréhension d’images ou de vidéos utilisant la reconnaissance de formes ou l’apprentissage automatique utilisant l’intégration et la réduction de données, p. ex. analyse en composantes principales [PCA] ou analyse en composantes indépendantes [ ICA] ou cartes auto-organisatrices [SOM]Séparation aveugle de source
  • G06V 10/774 - Génération d'ensembles de motifs de formationTraitement des caractéristiques d’images ou de vidéos dans les espaces de caractéristiquesDispositions pour la reconnaissance ou la compréhension d’images ou de vidéos utilisant la reconnaissance de formes ou l’apprentissage automatique utilisant l’intégration et la réduction de données, p. ex. analyse en composantes principales [PCA] ou analyse en composantes indépendantes [ ICA] ou cartes auto-organisatrices [SOM]Séparation aveugle de source méthodes de Bootstrap, p. ex. "bagging” ou “boosting”

53.

DEVICE STRUCTURE FOR SENSING INFRARED LIGHT AND METHOD OF SENSING INFRARED LIGHT

      
Numéro d'application 18369167
Statut En instance
Date de dépôt 2023-09-16
Date de la première publication 2024-09-05
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tai, Ya-Hsiang
  • Yuan, Yi-Cheng

Abrégé

The present disclosure relates to a device structure for sensing infrared light. The device structure includes a substrate, a first metal electrode, a second metal electrode, and a semiconductor layer. The first metal electrode and the second metal electrode are located on the substrate. The semiconductor layer is located on the substrate, in which the semiconductor layer is located between the first metal electrode and the second metal electrode and above the first metal electrode and the second metal electrode. The semiconductor layer directly contacts the first metal electrode and the second metal electrode.

Classes IPC  ?

54.

SYSTEM OF GENERATING DATA FROM DIFFUSION-WEIGHTED IMAGES FOR PRE-PROCESSING AND METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18232293
Statut En instance
Date de dépôt 2023-08-09
Date de la première publication 2024-08-29
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chong, Shin Tai
  • Hsu, Chih-Chin
  • Kung, Yi-Chia
  • Kuo, Kuan-Tsen
  • Huang, Chu-Chung
  • Lin, Ching-Po

Abrégé

A system of generating data from diffusion-weighted images for pre-processing and a method thereof are disclosed. In the system, a processing parameter set including diffusion information is acquired; after a raw diffusion-weighted image including data images and image information is acquired, the image information is interpreted to set image processing data of the raw diffusion-weighted image, and non-deformation correction and deformation correction are performed on the raw diffusion-weighted image to generate a pre-processed diffusion-weighted image based on the processing parameter set and the image processing data. Therefore, the image processing data can be automatically set based on the raw diffusion-weighted image, to achieve the effect of lowering difficulty for analyzing DWI and saving setup time of image processing data.

Classes IPC  ?

  • G06T 11/00 - Génération d'images bidimensionnelles [2D]
  • G06T 5/00 - Amélioration ou restauration d'image
  • G06T 7/00 - Analyse d'image
  • G06T 7/30 - Détermination des paramètres de transformation pour l'alignement des images, c.-à-d. recalage des images

55.

PHARMACEUTICAL COMPOSITION COMPRISING MODIFIED NATURAL KILLER CELLS AND ANTIGEN-SPECIFIC T CELLS, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND METHOD OF USING THE SAME

      
Numéro d'application 18170671
Statut En instance
Date de dépôt 2023-02-17
Date de la première publication 2024-08-22
Propriétaire
  • FULLHOPE BIOMEDICAL CO., LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lee, Jan-Mou
  • Lan, Keng-Li
  • Fang, Chih-Hao
  • Cheng, Ya-Fang

Abrégé

This disclosure provides method of manufacturing pharmaceutical composition for treating cancer, which provides great cell yield via not performing negative selection on CD3−CD19−CD14−. By administration of the pharmaceutical composition, cancer cells in a subject may be effectively inhibited via cell-mediated immunity.

Classes IPC  ?

  • C12N 5/0783 - Cellules TCellules NKProgéniteurs de cellules T ou NK
  • A61P 35/00 - Agents anticancéreux

56.

DIFFERENTIAL CHANNEL CIRCUIT STRUCTURE AND METHOD OF TRANSMITTING SIGNALS BY THE DIFFERENTIAL CHANNEL

      
Numéro d'application 18416167
Statut En instance
Date de dépôt 2024-01-18
Date de la première publication 2024-08-08
Propriétaire National YANG MING Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chen, Wei-Zen
  • Lin, Hsiao-Ming
  • Mo, Hao-Kai

Abrégé

A differential channel circuit structure is disclosed. The differential channel circuit structure comprises a first differential circuit including a differential channel and a termination circuit. The differential channel has a differential mode impedance and a common mode impedance, and includes a first end and a second end, each capable of processing at least a first differential signal and a first common mode signal. The termination circuit includes a third end and a fourth end connected to the first end and the second end of the differential channel respectively, so as to simultaneously match the differential mode impedance and the common mode impedance of the differential channel.

Classes IPC  ?

  • H04L 25/02 - Systèmes à bande de base Détails

57.

NANOPARTICLE AND USE THEREOF FOR THE COMBINATORIAL THERAPY OF ENDOPLASMIC RETICULUM STRESS INDUCER AND IMMUNOTHERAPEUTIC TO TUMORS AND IMMUNE CELLS

      
Numéro d'application 18353723
Statut En instance
Date de dépôt 2023-07-17
Date de la première publication 2024-07-25
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Lo, Yu-Li

Abrégé

Multifunctional nanoparticles incorporate an ERS inducer (p97 inhibitors) and immunotherapeutics (immune-modulating miR or aptamer plus immunoadjuvants) to address the poor aqueous solubility and toxicity associated with p97 inhibitors and immunotherapeutics while also enhancing the immune activation of these therapeutics. The nanoformulation offers several advantages, such as pH-sensitivity, self-detachable coating, active targeting, and intracellular localization in tumors, and has the potential to overcome the limitations of systemic administration, such as the degradation of nucleic acid therapeutics and toxicities associated with ERS inducer.

Classes IPC  ?

  • A61K 47/69 - Préparations médicinales caractérisées par les ingrédients non actifs utilisés, p. ex. les supports ou les additifs inertesAgents de ciblage ou de modification chimiquement liés à l’ingrédient actif l’ingrédient non actif étant chimiquement lié à l’ingrédient actif, p. ex. conjugués polymère-médicament le conjugué étant caractérisé par sa forme physique ou sa forme galénique, p. ex. émulsion, particule, complexe d’inclusion, stent ou kit
  • A61K 45/06 - Mélanges d'ingrédients actifs sans caractérisation chimique, p. ex. composés antiphlogistiques et pour le cœur
  • A61K 47/54 - Préparations médicinales caractérisées par les ingrédients non actifs utilisés, p. ex. les supports ou les additifs inertesAgents de ciblage ou de modification chimiquement liés à l’ingrédient actif l’ingrédient non actif étant chimiquement lié à l’ingrédient actif, p. ex. conjugués polymère-médicament l’ingrédient non actif étant un agent de modification l’agent de modification étant un composé organique
  • A61K 47/66 - Préparations médicinales caractérisées par les ingrédients non actifs utilisés, p. ex. les supports ou les additifs inertesAgents de ciblage ou de modification chimiquement liés à l’ingrédient actif l’ingrédient non actif étant chimiquement lié à l’ingrédient actif, p. ex. conjugués polymère-médicament l’ingrédient non actif étant un agent de modification l’agent de modification étant une protéine, un peptide ou un acide polyaminé l’agent de modification étant un système de pré-ciblage impliquant un peptide ou une protéine pour cibler des cellules spécifiques
  • A61P 35/00 - Agents anticancéreux

58.

PATH PLANNING SYSTEM AND PATH PLANNING METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18196245
Statut En instance
Date de dépôt 2023-05-11
Date de la première publication 2024-07-25
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Guo, Jiun-In
  • Xue, Zheng-Yi

Abrégé

The path planning system projects a plurality of path distance point clouds to a path image to generate a path and distance point composition image, and then input the path and distance point composition image to a deep learning model and a probabilistic graphical model to obtain a path segmentation image. The path planning system obtains an adjacent lane point cloud and a main lane point cloud. The path planning system clusters the adjacent lane point cloud and the main lane point cloud, calculates an adjacent lane cluster center and a main lane cluster center, and transforms a LIDAR coordinates of the adjacent lane cluster center and the main lane cluster center to a car coordinate. The path planning system obtains a changing path and a main path by smoothing the car coordinate, and selects the changing path or the main path as a driving path according to obstacle information.

Classes IPC  ?

  • B60W 60/00 - Systèmes d’aide à la conduite spécialement adaptés aux véhicules routiers autonomes
  • B60W 30/08 - Anticipation ou prévention de collision probable ou imminente
  • B60W 30/12 - Maintien de la trajectoire dans une voie de circulation
  • B60W 30/18 - Propulsion du véhicule
  • B60W 40/06 - Calcul ou estimation des paramètres de fonctionnement pour les systèmes d'aide à la conduite de véhicules routiers qui ne sont pas liés à la commande d'un sous-ensemble particulier liés aux conditions ambiantes liés à l'état de la route
  • G01S 17/86 - Combinaisons de systèmes lidar avec des systèmes autres que lidar, radar ou sonar, p. ex. avec des goniomètres
  • G01S 17/89 - Systèmes lidar, spécialement adaptés pour des applications spécifiques pour la cartographie ou l'imagerie
  • G01S 17/931 - Systèmes lidar, spécialement adaptés pour des applications spécifiques pour prévenir les collisions de véhicules terrestres
  • G06V 10/762 - Dispositions pour la reconnaissance ou la compréhension d’images ou de vidéos utilisant la reconnaissance de formes ou l’apprentissage automatique utilisant le regroupement, p. ex. de visages similaires sur les réseaux sociaux
  • G06V 10/84 - Dispositions pour la reconnaissance ou la compréhension d’images ou de vidéos utilisant la reconnaissance de formes ou l’apprentissage automatique utilisant les modèles graphiques de probabilités à partir de caractéristiques d’images ou de vidéos, p. ex. les modèles de Markov ou les réseaux bayésiens
  • G06V 20/56 - Contexte ou environnement de l’image à l’extérieur d’un véhicule à partir de capteurs embarqués
  • G06V 20/58 - Reconnaissance d’objets en mouvement ou d’obstacles, p. ex. véhicules ou piétonsReconnaissance des objets de la circulation, p. ex. signalisation routière, feux de signalisation ou routes

59.

CAPACITOR AND METHOD FOR FORMING THE SAME

      
Numéro d'application 18153831
Statut En instance
Date de dépôt 2023-01-12
Date de la première publication 2024-07-18
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Hsin-Cheng
  • Chou, Tao
  • Liu, Chee-Wee

Abrégé

A method includes forming a sacrificial multi-layer stack including first, second, and third sacrificial layers stacked in a vertical direction on a substrate; removing the first sacrificial layer to form a first space; depositing a first dielectric layer and a first electrode material in the first space; removing the second sacrificial layer to form a second space; depositing a second dielectric layer and a second electrode material in the second space; removing the third sacrificial layer to form a third space; depositing a third dielectric layer and a third electrode material in the third space.

Classes IPC  ?

  • H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées

60.

ATRIAL HIGH RATE EPISODE PREDICTION MODEL TRAINING METHOD AND APPARATUS

      
Numéro d'application 18205942
Statut En instance
Date de dépôt 2023-06-05
Date de la première publication 2024-07-18
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tseng, Shin-Mu
  • Tsao, Hsuan-Ming
  • Huang, Sung-Hao
  • Tang, Gau-Jun

Abrégé

A prediction model training method comprises following steps. A plurality of valid electrocardiograms is filtered from a plurality of electrocardiograms according to an elimination rule. A plurality of training features corresponding to the valid electrocardiograms is generated according to a training category set. A prediction model is trained according to the valid electrocardiograms, the training features, and a plurality of episode data corresponding to the valid electrocardiograms. The prediction model is configured to predict whether the atrial high rate episode state will last more than a time threshold according to an untested electrocardiogram in the atrial high rate episode state.

Classes IPC  ?

  • G06N 5/022 - Ingénierie de la connaissanceAcquisition de la connaissance

61.

LEFT VENTRICULAR HYPERTROPHY PREDICTION MODEL TRAINING METHOD AND DEVICE THEREOF

      
Numéro d'application 18308625
Statut En instance
Date de dépôt 2023-04-27
Date de la première publication 2024-07-18
Propriétaire
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
  • TAIPEI VETERANS GENERAL HOSPITAL (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tseng, Shin-Mu
  • Hu, Yu-Feng
  • Liu, Chih-Min

Abrégé

A prediction model training method includes the following steps. A first model is trained according to first electrocardiograms, wherein the first model includes a feature extraction layer, and the feature extraction layer is configured to extract features corresponding to an electrocardiogram. First feature information corresponding to second electrocardiograms is extracted according to the second electrocardiograms and the feature extraction layer of the first model. A second model is trained according to the first feature information, gender information corresponding to the second electrocardiograms, and age information corresponding to the second electrocardiograms.

Classes IPC  ?

  • G16H 50/30 - TIC spécialement adaptées au diagnostic médical, à la simulation médicale ou à l’extraction de données médicalesTIC spécialement adaptées à la détection, au suivi ou à la modélisation d’épidémies ou de pandémies pour le calcul des indices de santéTIC spécialement adaptées au diagnostic médical, à la simulation médicale ou à l’extraction de données médicalesTIC spécialement adaptées à la détection, au suivi ou à la modélisation d’épidémies ou de pandémies pour l’évaluation des risques pour la santé d’une personne
  • A61B 5/35 - Détection de paramètres spécifiques du cycle de l'électrocardiogramme par comparaison à des gabarits
  • G06N 20/00 - Apprentissage automatique

62.

ELECTRICAL CONNECTION AND FORMING METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18348365
Statut En instance
Date de dépôt 2023-07-07
Date de la première publication 2024-07-11
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chen, Chih
  • Yang, Shih-Chi

Abrégé

An electrical connection includes a first driving substrate, a first adhesive layer, a first bonding pad a first bonding pad and a second bonding pad. The first driving substrate includes a first substrate and a first dielectric layer on the first substrate. The first adhesive layer is at a sidewall of the first dielectric layer of the first driving substrate. The first bonding pad is on the first substrate of the first driving substrate and in contact with the first adhesive layer, and the first bonding pad includes a plurality of grains, the grains are connected with each other, the grains include [111]-oriented copper grains, and a maximum width of the first bonding pad is equal to or less than 8 microns. The second bonding pad is on the first bonding pad.

Classes IPC  ?

  • H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
  • H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe

63.

HIGH ELECTRON MOBILITY TRANSISTOR

      
Numéro d'application 18096916
Statut En instance
Date de dépôt 2023-01-13
Date de la première publication 2024-07-11
Propriétaire
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
  • National Chung-Shan Institute of Science and Technology (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Edward Yi
  • Weng, You-Chen
  • Kao, Min-Lu

Abrégé

A high electron mobility transistor includes a growth substrate, a lattice matching layer, an back-barrier layer, an electron blocking layer, a channel layer, an active layer, a source, a gate, and a drain. The lattice matching layer and the back-barrier layer are formed on the growth substrate. The back-barrier layer includes GaN doped with C. The electron blocking layer is formed on the back-barrier layer. The electron blocking layer includes AlGaN, wherein the doping percent of Al atoms of the AlGaN is 3˜5% and the doping percent of Ga atoms of the AlGaN is 95˜97%. The electron blocking layer has a thickness of 2˜5 nm. The channel layer and the active layer are formed on the electron blocking layer. The source, the gate, and the drain are formed on the active layer.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
  • H01L 29/15 - Structures avec une variation de potentiel périodique ou quasi périodique, p.ex. puits quantiques multiples, superréseaux
  • H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV

64.

HIGH ELECTRON MOBILITY TRANSISTOR AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME

      
Numéro d'application 18097074
Statut En instance
Date de dépôt 2023-01-13
Date de la première publication 2024-07-11
Propriétaire
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
  • National Chung-Shan Institute of Science and Technology (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Edward Yi
  • Weng, You-Chen
  • Kao, Min-Lu

Abrégé

A high electron mobility transistor and a method for fabricating the same is disclosed. Firstly, a lattice matching layer, a channel layer, and an AlGaN layer are sequentially formed on a growth substrate. The AlGaN layer includes a first area, a second area, and a third area, wherein the second area is located between the first area and the third area. Then, an insulation block is formed on the second area of the AlGaN layer and two GaN blocks are respectively formed on the first area and the third area of the AlGaN layer. Two InAlGaN blocks are respectively formed on the GaN blocks and the insulation block is removed. Finally, a gate is formed to interfere the second area of the AlGaN layer and a source and a drain are respectively formed on the InAlGaN blocks.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
  • H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
  • H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT

65.

METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT THIN FILM TRANSISTOR-BASED PHOTOSENSITIVE DEVICE

      
Numéro d'application 18406630
Statut En instance
Date de dépôt 2024-01-08
Date de la première publication 2024-07-11
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Liu, Po-Tsun
  • Chiu, Yu-Chuan
  • Huang, Jia-Lin

Abrégé

A method for manufacturing a transparent thin film transistor-based photosensitive device includes preparing a semiconductor substrate unit including a gate electrode layer, forming a gate insulator layer by depositing a high dielectric constant material using plasma-assisted atomic layer deposition to cover the gate electrode layer, forming a sensing channel layer made of an indium oxide-based material on the gate insulator layer in a position corresponding to the gate electrode layer by sputtering and doping nitrogen into the sensing channel layer, and forming a source electrode and a drain electrode on two opposite end portions of the sensing channel layer, respectively.

Classes IPC  ?

  • H01L 31/113 - Dispositifs sensibles au rayonnement infrarouge, visible ou ultraviolet caractérisés par un fonctionnement par effet de champ, p.ex. phototransistor à effet de champ à jonction du type conducteur-isolant-semi-conducteur, p.ex. transistor à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur
  • H01L 31/032 - Matériaux inorganiques comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés non couverts par les groupes
  • H01L 31/20 - Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives - les dispositifs ou leurs parties constitutives comprenant un matériau semi-conducteur amorphe

66.

NANO-TWINNED COPPER FOIL, ELECTRONIC ELEMENT AND METHODS FOR MANUFACTURING THE SAME

      
Numéro d'application 18456923
Statut En instance
Date de dépôt 2023-08-28
Date de la première publication 2024-07-11
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chen, Chih
  • Shen, Guan-You

Abrégé

A nano-twinned copper foil is provided, which comprises: plural twinned grains, wherein at least part of the plural twinned grains are formed by stacking plural nano-twins along a [111] crystal axis. The nano-twinned copper foil has a first surface and a second surface opposite to the first surface, and 80% or more of areas of the first surface and the second surface respectively exposes (111) planes of the nano-twins. In addition, the present invention further provides a method for manufacturing the aforesaid nano-twinned copper foil, an electronic element comprising the same, and a method for manufacturing the electronic element.

Classes IPC  ?

  • C25D 1/04 - FilsBandesFeuilles
  • C25D 3/38 - Dépôt électrochimiqueBains utilisés à partir de solutions de cuivre
  • C25D 7/06 - FilsBandesFeuilles

67.

Image sensors chip with depth information

      
Numéro d'application 18191714
Numéro de brevet 12192661
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-03-28
Date de la première publication 2024-07-11
Date d'octroi 2025-01-07
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lee, Chen-Yi
  • Huang, Hsi-Hao
  • Huang, Tzu-Yun

Abrégé

An image sensor chip with depth information is provided. The image sensor chip includes an SPAD array, a time-to-digital converter module, a storage circuit, and a data processing circuit. The SPAD array includes a plurality of image sensor units, and each of the image sensor units includes a plurality of SPAD units and a decision circuit, wherein each of the SPAD units outputs a photon detection result within a scan period, and the decision circuit generates an image-sensing signal based on the photon detection results. The time-to-digital converter module generates a plurality of first time data in response to the image-sensing signals. The storage circuit stores the first time data temporarily. The data processing unit reads the first time data from the storage circuit and generates a plurality of second time data in response to the first time data.

Classes IPC  ?

  • H04N 25/773 - Circuits de pixels, p. ex. mémoires, convertisseurs A/N, amplificateurs de pixels, circuits communs ou composants communs comprenant des convertisseurs A/N, V/T, V/F, I/T ou I/F comprenant des circuits de comptage de photons, p. ex. des diodes de détection de photons uniques [SPD] ou des diodes à avalanche de photons uniques [SPAD]
  • G04F 10/00 - Appareils pour mesurer des intervalles de temps inconnus par des moyens électriques
  • H04N 25/779 - Circuits de balayage ou d'adressage de la matrice de pixels

68.

METHOD FOR TREATING REFRACTORY BRAIN TUMOR

      
Numéro d'application 18150058
Statut En instance
Date de dépôt 2023-01-04
Date de la première publication 2024-07-04
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Tung-Yi
  • Tu, Tsung-Hsi
  • Tseng, Ai-Jung

Abrégé

Provided is a method for preventing and treating brain tumor, especially refractory brain tumor, glioblastoma multiforme (GBM), or refractory GBM in a subject in need thereof, including administering to the subject with an effective amount of an immunomodulatory protein of Ganoderma, a recombinant thereof, or a fungal immunomodulatory protein of a similar structure.

Classes IPC  ?

  • A61K 38/16 - Peptides ayant plus de 20 amino-acidesGastrinesSomatostatinesMélanotropinesLeurs dérivés
  • A61K 31/495 - Composés hétérocycliques ayant l'azote comme hétéro-atome d'un cycle, p. ex. guanéthidine ou rifamycines ayant des cycles à six chaînons avec deux azote comme seuls hétéro-atomes d'un cycle, p. ex. pipérazine
  • A61K 36/074 - Ganoderma
  • A61K 38/08 - Peptides ayant de 5 à 11 amino-acides
  • A61P 25/00 - Médicaments pour le traitement des troubles du système nerveux
  • A61P 35/00 - Agents anticancéreux

69.

ELECTRICAL SIGNAL SENSING COMPOSITION, ELECTRICAL SIGNAL SENSOR AND METHOD OF FORMING THE SAME

      
Numéro d'application 18302390
Statut En instance
Date de dépôt 2023-04-18
Date de la première publication 2024-07-04
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Hsin-Chieh
  • Xiao, Yuan-Hao

Abrégé

The present disclosure relates to an electrical signal sensing composition. The electrical signal sensing composition includes an oxidoreductase and an amphiphilic molecule. The amphiphilic molecule includes alkyl sulfuric acid, alkyl sulfate, alkyl sulfonic acid, alkyl sulfonate, alkyl ammonium, alkyl ammonium salt, alkyl phosphoric acid, alkyl phosphate, alkyl carboxylic acid, alkyl carboxylate, alkylboronic acid, alkylborate, or combinations thereof.

Classes IPC  ?

70.

METHOD FOR INHIBITING METASTASIS OF TRIPLE-NEGATIVE BREAST CANCER USING ROSOXACIN

      
Numéro d'application 18329895
Statut En instance
Date de dépôt 2023-06-06
Date de la première publication 2024-06-27
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Yang, Jinn-Moon
  • Lee, Chia-Hwa
  • Lee, Jung-Yu
  • Chen, Yun-Ti

Abrégé

A method for inhibiting the metastasis of triple-negative breast cancer, which includes administering to a subject in need thereof a pharmaceutical composition containing rosoxacin or a pharmaceutically acceptable salt thereof.

Classes IPC  ?

  • A61K 31/4709 - Quinoléines non condensées contenant d'autres hétérocycles
  • A61P 35/04 - Agents anticancéreux spécifiques pour le traitement des métastases

71.

MOCVD METHOD FOR GROWING INALGAN/GAN HETEROSTRUCTURE

      
Numéro d'application 18094836
Statut En instance
Date de dépôt 2023-01-09
Date de la première publication 2024-06-27
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Edward Yi
  • Weng, You-Chen
  • Zheng, Xia-Xi

Abrégé

A MOCVD method for growing an InAlGaN/GaN heterostructure comprises steps: sequentially growing a nitride nucleation layer, a GaN buffer layer, an InAlGaN barrier layer on a substrate; using a precursor gas containing silane to in-situ grow a SiNx protective layer on the InAlGaN barrier layer at a temperature of 950-1000° C. in the same reaction chamber. Thereby is achieved a SiNx/InAlGaN/GaN heterostructure having an ultrathin barrier layer, which is suitable to fabricate HEMT elements. The present invention needn't take sample out of the reaction chamber and thus can prevent the heterostructure from oxidation and damage.

Classes IPC  ?

  • H01L 21/02 - Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
  • H01L 21/56 - Encapsulations, p. ex. couches d’encapsulation, revêtements

72.

COMPOSITION AND METHOD FOR PREVENTING OR TREATING SARS-COV-2 INFECTION

      
Numéro d'application 18540384
Statut En instance
Date de dépôt 2023-12-14
Date de la première publication 2024-06-20
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Chia-Ching
  • Chang, Chia-Yu
  • Shih, Shin-Ru
  • Huang, Sheng-Yu

Abrégé

Provided is a non-natural polypeptide including a fragment of major histocompatibility complex class I (MHC I). Also provided are a method for inhibiting combination between SARS-COV-2 and a cell of a subject and a method for preventing or treating SARS-COV-2 infection in a subject in need thereof, including contacting the cell or administering to the subject with the non-natural polypeptide.

Classes IPC  ?

  • C07K 14/74 - Complexe majeur d'histocompatibilité [MHC]

73.

ULTRASOUND GENERATOR FOR INHIBITING INTESTINAL INFLAMMATORY FACTOR AND/OR IMPROVING NEUROINFLAMMATION AND ITS SYSTEM AND METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18194743
Statut En instance
Date de dépôt 2023-04-03
Date de la première publication 2024-06-13
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Yang, Feng-Yi

Abrégé

The system includes: an ultrasound imaging probe located in the center of the ultrasound probe device; an ultrasound stimulation probe located around the center of the ultrasound probe device, and two independent piezoelectric elements with a slight frequency difference can focused ultrasound and applied to the same target area, and fixed on a specific position of the abdomen with a touch fastener to generate an acoustic field that changes the intensity of the acoustic field with time: Stimulate the area of the inflammatory bowel in the abdomen through this acoustic field: to suppress the inflammatory bowel disease and the brain inflammation through the gut-brain axis.

Classes IPC  ?

  • A61B 90/00 - Instruments, outillage ou accessoires spécialement adaptés à la chirurgie ou au diagnostic non couverts par l'un des groupes , p. ex. pour le traitement de la luxation ou pour la protection de bords de blessures
  • A61N 7/00 - Thérapie par ultrasons

74.

EARLY ASSISTIVE DIAGNOSIS SYSTEM OF ADHD

      
Numéro d'application 18531895
Statut En instance
Date de dépôt 2023-12-07
Date de la première publication 2024-06-13
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Ko, Li-Wei
  • Chen, I-Chun
  • Huang, I-Wen
  • Lin, Jo-Wei
  • Fan, Zuo-Cian
  • Chang, Chih-Hao
  • Chang, Yang

Abrégé

An early assistive diagnosis system of ADHD provides a test to the subject and uses a brain-computer interface (BCI) to detect the electroencephalography (EEG) signals of subject. A host receives the EEG signals, captures the features associated with ADHD heterogeneities, obtains feature EEG signals, and classifies the subject as typical development or ADHD, then uses the EEG feature signals to train a predicted index score range for the heterogeneities of ADHD. The test scores of a new subject is tested, it is compared whether the scores fall within the predicted index score range to determine the ADHD heterogeneity types to which the new subject belongs. Thus, the present invention uses attention tests for ADHD in combination with EEG signals to assess symptoms of a subject, further predicts the potential aptitude of a subject for ADHD and provides objective assistive diagnosis to physicians.

Classes IPC  ?

  • A61B 5/16 - Dispositifs pour la psychotechnieTest des temps de réaction
  • A61B 5/00 - Mesure servant à établir un diagnostic Identification des individus
  • A61B 5/291 - Électrodes bioélectriques à cet effet spécialement adaptées à des utilisations particulières pour l’électroencéphalographie [EEG]
  • A61B 5/372 - Analyse des électroencéphalogrammes
  • A61B 5/378 - Stimuli visuels
  • A61B 5/38 - Stimuli acoustiques ou auditifs

75.

GALLIUM NITRIDE TRANSISTOR

      
Numéro d'application 18175108
Statut En instance
Date de dépôt 2023-02-27
Date de la première publication 2024-06-13
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Edward Yi
  • Wu, Jui-Sheng

Abrégé

A GaN transistor is provided, which comprises: a substrate; a GaN layer disposed on the substrate; a barrier layer disposed on the GaN layer; a source electrode disposed on the barrier layer; a drain electrode disposed on the barrier layer; a composite dielectric layer disposed on the barrier layer and comprising a first seed layer and a La-doped HZO layer, wherein the first seed layer comprises ZrO2; and a gate electrode disposed on the composite dielectric layer.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
  • H01L 29/51 - Matériaux isolants associés à ces électrodes
  • H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

76.

Electrically tunable liquid crystal lens and composite electrically tunable liquid crystal lens including the same

      
Numéro d'application 18333160
Numéro de brevet 12085834
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2023-06-12
Date de la première publication 2024-05-30
Date d'octroi 2024-09-10
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Yi-Hsin
  • Huang, Ting-Wei
  • Cheng, Wei-Cheng
  • Mao, Chang-Nien

Abrégé

An electrically tunable liquid crystal lens includes a carrier substrate, a common electrode layer disposed on the carrier substrate, a liquid crystal unit, a patterned electrode layer, a terminal electrode layer, a dielectric insulating layer, and a cover. The liquid crystal unit is disposed on the common electrode layer opposite to the carrier substrate, and includes a plurality of liquid crystal molecules. The patterned electrode layer is disposed on the liquid crystal unit opposite to the common electrode layer, and has a plurality of aperture patterns located within a projection of the liquid crystal unit on the patterned electrode layer. The terminal electrode layer is disposed on the patterned electrode layer opposite to the liquid crystal unit. The dielectric insulating layer is disposed between the patterned electrode layer and the terminal electrode layer. The cover is disposed on the terminal electrode layer opposite to the dielectric insulating layer.

Classes IPC  ?

  • G02F 1/29 - Dispositifs ou dispositions pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p. ex. commutation, ouverture de porte ou modulationOptique non linéaire pour la commande de la position ou de la direction des rayons lumineux, c.-à-d. déflexion

77.

MULTI-BIT ANALOG MULTIPLICATION AND ACCUMULATION CIRCUIT SYSTEM

      
Numéro d'application 18340643
Statut En instance
Date de dépôt 2023-06-23
Date de la première publication 2024-05-30
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Jou, Shyh-Jye
  • Hou, Tuo-Hung
  • Chang, Tian-Sheuan
  • Lin, Kuan-Chih
  • Zuo, Hao

Abrégé

A multi-bit analog multiplication and accumulation circuit system, which includes: a plurality of analog multiplication circuits, first to fourth accumulation lines, and a binary place value combiner. Each of the analog multiplication circuits performs multiplications on four-bit input data and four-bit weight data, wherein each of the analog multiplication circuits includes four capacitor and switch arrays for performing multiplications on one bit of the four-bit input data and the four-bit weight data. Each of the accumulation lines outputs an accumulation of multiplications performed by each capacitor switch array of each analog multiplication circuit on one bit of the four-bit input data and the four-bit weight data. The binary place value combiner sums up the accumulated result outputted from the accumulation line with corresponding binary place value.

Classes IPC  ?

  • G06F 7/544 - Méthodes ou dispositions pour effectuer des calculs en utilisant exclusivement une représentation numérique codée, p. ex. en utilisant une représentation binaire, ternaire, décimale utilisant des dispositifs n'établissant pas de contact, p. ex. tube, dispositif à l'état solideMéthodes ou dispositions pour effectuer des calculs en utilisant exclusivement une représentation numérique codée, p. ex. en utilisant une représentation binaire, ternaire, décimale utilisant des dispositifs non spécifiés pour l'évaluation de fonctions par calcul
  • G06F 7/50 - AdditionSoustraction
  • G06F 7/523 - Multiplication uniquement
  • H03M 1/46 - Valeur analogique comparée à des valeurs de référence uniquement séquentiellement, p. ex. du type à approximations successives avec convertisseur numérique/analogique pour fournir des valeurs de référence au convertisseur

78.

Method for preventing human cell infection by herpesviruses

      
Numéro d'application 18058516
Numéro de brevet 12018055
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-11-23
Date de la première publication 2024-05-23
Date d'octroi 2024-06-25
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tsai, Ming-Han
  • Lin, Tung-Yi

Abrégé

Ganoderma, a recombinant thereof, or a fungal immunomodulatory protein of a similar structure. Also provided is a method for preventing or treating an EBV-associated cancer.

Classes IPC  ?

  • C07K 14/00 - Peptides ayant plus de 20 amino-acidesGastrinesSomatostatinesMélanotropinesLeurs dérivés
  • A61P 31/20 - Antiviraux pour le traitement des virus ADN
  • A61P 35/00 - Agents anticancéreux
  • C07K 14/375 - Peptides ayant plus de 20 amino-acidesGastrinesSomatostatinesMélanotropinesLeurs dérivés provenant de champignons provenant de Basidiomycetes

79.

METHOD FOR TREATING LUNG INJURY

      
Numéro d'application 18057676
Statut En instance
Date de dépôt 2022-11-21
Date de la première publication 2024-05-23
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lin, Wei-Ting
  • Wu, Hao-Hsiang
  • Lee, Oscar Kuang-Sheng
  • Ho, Jennifer Hui-Chun

Abrégé

The present disclosure provides a method for treating and/or ameliorating a lung injury or inflammation in the lung, and/or promoting polarization of macrophages in a subject in need thereof, wherein the method comprises administering microRNA-7704 (miR-7704) or a composition comprising miR-7704 to the subject.

Classes IPC  ?

  • C12N 15/113 - Acides nucléiques non codants modulant l'expression des gènes, p. ex. oligonucléotides anti-sens
  • A61P 11/00 - Médicaments pour le traitement des troubles du système respiratoire
  • C12N 5/0775 - Cellules souches mésenchymateusesCellules souches dérivées du tissu adipeux

80.

METHOD FOR DETERMINING PROBABILITY OF SUBJECT WITH MILD COGNITION IMPAIRMENT DEVELOPING ALZHEIMER'S DISEASE WITHIN PREDETERMINED TIME PERIOD

      
Numéro d'application 18309943
Statut En instance
Date de dépôt 2023-05-01
Date de la première publication 2024-05-16
Propriétaire
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
  • Taipei Veterans General Hospital (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Fuh, Jong-Ling
  • Yang, Albert Chihchieh
  • Fang, Shih-Yu

Abrégé

A method is to be implemented by a computing device that stores a risk assessment model, and includes steps of: obtaining an entry of target physiological data and target magnetic resonance imaging (MRI) images of a brain of a subject with mild cognition impairment (MCI); obtaining, based on the target MRI images, voxel values respectively of primitive voxels that are related to grey matter of the brain of the subject; selecting, from among the primitive voxels, any primitive voxel satisfying a filtering criterion as a selected voxel; calculating an average of the voxel value(s) respectively of the selected voxel(s) to obtain an average target voxel value; and obtaining a probability of the subject developing Alzheimer's disease within a predetermined time period by feeding the average target voxel value and the entry of target physiological data into the risk assessment model.

Classes IPC  ?

  • A61B 5/00 - Mesure servant à établir un diagnostic Identification des individus
  • G06T 7/00 - Analyse d'image

81.

RADAR OBJECT RECOGNITION SYSTEM AND METHOD AND NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE MEDIUM

      
Numéro d'application 18171685
Statut En instance
Date de dépôt 2023-02-21
Date de la première publication 2024-05-09
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lee, Ta-Sung
  • Lee, Ming-Chun
  • Huang, Tai-Yuan
  • Yang, Chia-Hsing

Abrégé

The present disclosure provides a radar object recognition method, which includes steps as follows. The radar image generation is performed on radar data to generate a radar image; the radar image is inputted into an object recognition model, so that the object recognition model outputs a recognition result; the post-process is performed on the recognition result to eliminate recognition errors from the recognition result.

Classes IPC  ?

  • G01S 7/41 - Détails des systèmes correspondant aux groupes , , de systèmes selon le groupe utilisant l'analyse du signal d'écho pour la caractérisation de la cibleSignature de cibleSurface équivalente de cible
  • G06T 5/00 - Amélioration ou restauration d'image
  • G06V 10/32 - Normalisation des dimensions de la forme
  • G06V 10/764 - Dispositions pour la reconnaissance ou la compréhension d’images ou de vidéos utilisant la reconnaissance de formes ou l’apprentissage automatique utilisant la classification, p. ex. des objets vidéo

82.

MEMORY ARRAY FOR COMPUTE-IN-MEMORY AND THE OPERATING METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18175895
Statut En instance
Date de dépôt 2023-02-28
Date de la première publication 2024-05-09
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Tian-Sheuan
  • Chen, Wei-Zen
  • Jou, Shyh-Jye
  • Kuo, Shu-Hung
  • Kao, Shih-Hang
  • Chen, Li-Kai

Abrégé

A memory array for computing-in-memory (CIM) is disclosed. The memory array for CIM includes a bit cell array, at least one word line and at least one bit line. The bit cell array has a plurality of bit cells, wherein each bit cell is operated at an operating voltage. The at least one word line is electrically connected to the bit cell array, wherein the at least one word line is associated with a first parameter. The at least one bit line is electrically connected to the bit cell array, wherein the bit cells extend along a specific direction, each the at least one bit line has an electrical parameter associated therewith, each the bit cell is associated with a second parameter, a first quantity of the plurality of bit cells of the bit cell array extends along the specific direction, and the memory array determines how an expansion associated with at least one of the first parameter and the second parameter is according to the specific direction.

Classes IPC  ?

  • G11C 11/54 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments simulateurs de cellules biologiques, p. ex. neurone
  • G11C 11/408 - Circuits d'adressage
  • G11C 11/4097 - Organisation de lignes de bits, p. ex. configuration de lignes de bits, lignes de bits repliées

83.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18311249
Statut En instance
Date de dépôt 2023-05-03
Date de la première publication 2024-05-02
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Edward Yi
  • Weng, You-Chen
  • Kao, Min-Lu

Abrégé

A semiconductor device includes a substrate, a channel layer, a first barrier layer, a source/drain contact, and a gate layer. The channel layer is on the substrate. The first barrier layer is on the channel layer and the thickness of the first barrier layer is less than 6 nm. The source/drain contact is on the first barrier layer and is directly contact with the first barrier layer. The gate layer is over the first barrier layer.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
  • H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT

84.

METHOD FOR PREVENTING OR TREATING LIVER DISEASE

      
Numéro d'application 18467437
Statut En instance
Date de dépôt 2023-09-14
Date de la première publication 2024-05-02
Propriétaire
  • TAIPEI VETERANS GENERAL HOSPITAL (Taïwan, Province de Chine)
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
  • PHARMAESSENTIA CORPORATION (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Wu, Jaw-Ching
  • Chang, Yung-Sheng
  • Kao, Kuo-Hsi
  • Hwang, Chan-Kou
  • Lin, Ko-Chung

Abrégé

Provided is a method for preventing or treating a liver disease, including administering a therapeutically effective amount of pharmaceutical composition to a subject in need, and the pharmaceutical composition includes the isothiocyanate structural modified compound and a pharmaceutically acceptable carrier thereof.

Classes IPC  ?

  • A61K 31/26 - Esters d'acide cyanique ou isocyaniqueEsters d'acide thiocyanique ou isothiocyanique
  • A61K 45/06 - Mélanges d'ingrédients actifs sans caractérisation chimique, p. ex. composés antiphlogistiques et pour le cœur
  • A61P 1/16 - Médicaments pour le traitement des troubles du tractus alimentaire ou de l'appareil digestif des troubles de la vésicule biliaire ou du foie, p. ex. protecteurs hépatiques, cholagogues, cholélitholytiques
  • A61P 35/00 - Agents anticancéreux

85.

A METHOD FOR CONSTRUCTING A COFILIN-1 TRANSGENIC MODEL AND USE THEREOF

      
Numéro d'application 18165038
Statut En instance
Date de dépôt 2023-02-06
Date de la première publication 2024-04-18
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Lee, Yi-Jang
  • Lin, Yu-Chuan
  • Lin, Min-Ying
  • Lin, Bing-Ze
  • Kang, Chia-Yun

Abrégé

The present invention demonstrated a Cre-loxP based cofilin-1 transgenic animal model to address the pathophysiological role of over-expressed cofilin-1 on systemic development.

Classes IPC  ?

  • A01K 67/027 - Nouvelles races ou races modifiées de vertébrés

86.

GROUP III-N BASED SEMICONDUCTOR THREE-DIMENSIONAL INTEGRATED CIRCUIT

      
Numéro d'application 18146788
Statut En instance
Date de dépôt 2022-12-27
Date de la première publication 2024-04-11
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Wu, Tian-Li
  • Liu, Yen-Wei

Abrégé

A group III-N based semiconductor 3D integrated circuit that directly stacks a thin-film transistor on a group III-N based transistor is provided. Since the group III-N based semiconductor 3D integrated circuit integrates the group III-N based transistor and the thin-film transistor without performing a packaging process, the group III-N based semiconductor 3D integrated circuit can reduce the packaging cost and have better circuit performance and reliability.

Classes IPC  ?

  • H01L 27/06 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface le substrat étant un corps semi-conducteur comprenant une pluralité de composants individuels dans une configuration non répétitive
  • H01L 29/20 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, uniquement des composés AIIIBV
  • H01L 29/778 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à deux dimensions, p.ex. transistors à effet de champ à haute mobilité électronique HEMT
  • H01L 29/786 - Transistors à couche mince

87.

METHOD AND ELECTRONIC DEVICE FOR DETERMINING ROAD TYPE

      
Numéro d'application 18058384
Statut En instance
Date de dépôt 2022-11-23
Date de la première publication 2024-04-11
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Wang, Chia-Cheng
  • Chen, Jyh-Cheng
  • Xiao, Yu-Xin

Abrégé

A method for determining a road type includes measuring, for a preset period, a magnetic field of an environment in which an electronic device is located to obtain a plurality of magnetic field values, calculating an absolute value of a difference between every two adjacent magnetic field values among the magnetic field values sorted in chronological order, calculating an average of the absolute values related to the magnetic field values to serve as a variation value for the environment, determining whether the variation value is smaller than a predetermined threshold value, determining that the environment is a surface road when the determination result is affirmative, and determining that the environment is a non-surface road when the determination result is negative.

Classes IPC  ?

  • G01R 33/00 - Dispositions ou appareils pour la mesure des grandeurs magnétiques
  • B60W 40/06 - Calcul ou estimation des paramètres de fonctionnement pour les systèmes d'aide à la conduite de véhicules routiers qui ne sont pas liés à la commande d'un sous-ensemble particulier liés aux conditions ambiantes liés à l'état de la route

88.

MULTI-WAVELENGTH LASER DEVICE FOR PHOTOCOAGULATION SURGERY

      
Numéro d'application 18107993
Statut En instance
Date de dépôt 2023-02-09
Date de la première publication 2024-04-04
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chen, Yung-Fu
  • Liang, Hsing-Chih
  • Tsou, Chia-Han

Abrégé

A laser device for photocoagulation surgery is disclosed, wherein the laser device includes a multi-wavelength laser source having a first direction and a second direction different from the first direction. The laser device includes a positioning light source, a first laser light source, a first lens, a second laser light source, a second lens, a third laser light source, a third lens, a fourth laser light source and a fourth lens. The positioning light source configured to project a positioning visible light along the first direction, wherein the positioning visible light has a specific wavelength being about 635 nm. The first laser light source configured to project a first laser light having a first wavelength along the second direction. The first lens disposed in a main optical path of the positioning visible light, and configured to receive the first laser light and reflect the first laser light along the first direction.

Classes IPC  ?

  • A61B 18/22 - Instruments, dispositifs ou procédés chirurgicaux pour transférer des formes non mécaniques d'énergie vers le corps ou à partir de celui-ci par application de radiations électromagnétiques, p. ex. de micro-ondes en utilisant des lasers le faisceau étant dirigé le long, ou à l'intérieur d'un conduit flexible, p. ex. d'une fibre optiquePièces à main à cet effet

89.

GATE FABRICATION METHOD OF AN U-METAL-OXIDE-SEMICONDUCTOR FIELD-EFFECT TRANSISTOR AND TRENCH GATE STRUCTURE FORMED THEREOF

      
Numéro d'application 18107397
Statut En instance
Date de dépôt 2023-02-08
Date de la première publication 2024-03-28
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tsui, Bing-Yue
  • Hsueh, Li-Tien

Abrégé

A gate fabrication method of an UMOSFET and a trench gate structure formed thereof are provided, comprising providing a transistor structure and a lithography process is employed to define a trench region. A gate oxide layer is deposited along the trench and two polysilicon sidewalls having a spacing there in between are formed afterwards. A wet etching is used to remove the gate oxide layer underneath the polysilicon sidewalls such that a vacancy is formed at the trench bottom. By oxidizing the polysilicon sidewalls, a thick oxide layer is formed, enfolding periphery of the polysilicon sidewalls and filling the vacancy. The spacing can be alternatively retained between the polysilicon sidewalls covered with the thick oxide layer, such that the trench can be alternatively filled. The present invention is effective in increasing oxide thickness of the gate bottom, reducing the trench corner curvature as well as the feedback capacitance.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
  • H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

90.

PROCESS METHOD FOR FABRICATING A THREE-DIMENSIONAL SOURCE CONTACT STRUCTURE

      
Numéro d'application 18098930
Statut En instance
Date de dépôt 2023-01-19
Date de la première publication 2024-03-21
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tsui, Bing-Yue
  • Wang, Jui-Cheng
  • Hsueh, Li-Tien
  • Hsiao, Jui-Tse

Abrégé

A process method for fabricating a three-dimensional source contact structure is provided, which is applicable to form a step-like three-dimensional source contact structure in a MOSFET of a power device. The proposed method sequentially adopts a lithography process and a shallow trench process to form a metal contact window. And a lateral etching process, or spacers which will be removed eventually, can be alternatively provided for increasing horizontal surface contact when depositing a source contact metal. Meanwhile, a longitudinal surface exposed by the shallow trench process is also beneficial to increase vertical contact when depositing the source contact metal. As a result, a step-like three-dimensional source contact structure can be formed by employing the present invention. It is believed that the present invention achieves in reducing cell pitch effectively and can be widely applied to various power devices having MOSFET structure thereof.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée
  • H01L 21/306 - Traitement chimique ou électrique, p. ex. gravure électrolytique
  • H01L 21/3065 - Gravure par plasmaGravure au moyen d'ions réactifs
  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

91.

THREE-DIMENSIONAL SOURCE CONTACT STRUCTURE AND FABRICATION PROCESS METHOD OF MAKING THE SAME

      
Numéro d'application 18099090
Statut En instance
Date de dépôt 2023-01-19
Date de la première publication 2024-03-21
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tsui, Bing-Yue
  • Wang, Jui-Cheng
  • Hsueh, Li-Tien
  • Hsiao, Jui-Tse

Abrégé

A three-dimensional source contact structure and fabrication process method thereof are provided. A lithography process and shallow trench process are sequentially performed to form a metal contact window in a power device. A source heavily doped area is divided by the metal contact window into a first and second heavily doped region. A lateral etching process is applied to an inter-layer dielectric to form a first and a second dielectric layer, each of which is in a trapezoid shape. Meanwhile, a first and a second metal-source surface contact regions are exposed. A longitudinal surface exposed by the shallow trench process is beneficial to increase vertical contact when depositing a source contact metal, thereby a step-like three-dimensional source contact structure can be formed. The present invention achieves in reducing cell pitch effectively and can be widely applied to various power devices having MOSFET structure thereof.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/16 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée
  • H01L 29/40 - Electrodes
  • H01L 29/45 - Electrodes à contact ohmique
  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
  • H01L 29/78 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée

92.

THREE-DIMENSIONAL SOURCE CONTACT STRUCTURE AND FABRICATION PROCESS METHOD OF MAKING THE SAME

      
Numéro d'application 18098760
Statut En instance
Date de dépôt 2023-01-19
Date de la première publication 2024-03-21
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tsui, Bing-Yue
  • Wang, Jui-Cheng
  • Hsueh, Li-Tien
  • Hsiao, Jui-Tse

Abrégé

A three-dimensional source contact structure and its fabrication process method thereof are applicable to a power device, in which an inter-layer dielectric is deposited thereon. A lithography process is applied for forming a first and second dielectric layer. A spacer is respectively provided on opposite sidewalls of the first and second dielectric layer. And a shallow trench process is sequentially performed along the opposite surfaces of the spacers. The spacers are removed after the shallow trench process is complete for exposing a first and a second metal-source surface contact region. The present invention achieves in increasing horizontal surface contact and longitudinal vertical contact when depositing a source contact metal, thereby a step-like three-dimensional source contact structure can be formed. By employing the present invention, it enhances to reduce cell pitch effectively and can be widely applied to various power devices having MOSFET structure thereof.

Classes IPC  ?

  • H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/16 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les matériaux dont ils sont constitués comprenant, mis à part les matériaux de dopage ou autres impuretés, seulement des éléments du groupe IV de la classification périodique, sous forme non combinée
  • H01L 29/40 - Electrodes
  • H01L 29/45 - Electrodes à contact ohmique
  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs

93.

TRANSISTOR, MEMORY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF MEMORY DEVICE

      
Numéro d'application 17901777
Statut En instance
Date de dépôt 2022-09-01
Date de la première publication 2024-03-07
Propriétaire
  • Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. (Taïwan, Province de Chine)
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Liu, Po-Tsun
  • Lin, Meng-Han
  • Li, Zhen-Hao
  • Chiang, Tsung-Che
  • Young, Bo-Feng
  • Huang, Hsin-Yi
  • Yeong, Sai-Hooi
  • Lin, Yu-Ming

Abrégé

A transistor includes a first semiconductor layer, a second semiconductor layer, a semiconductor nanosheet, a gate electrode and source and drain electrodes. The semiconductor nanosheet is physically connected to the first semiconductor layer and the second semiconductor layer. The gate electrode wraps around the semiconductor nanosheet. The source and drain electrodes are disposed at opposite sides of the gate electrode. The first semiconductor layer surrounds the source electrode, the second semiconductor layer surrounds the drain electrode, and the semiconductor nanosheet is disposed between the source and drain electrodes.

Classes IPC  ?

  • H01L 27/11597 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs les électrodes de grille comprenant une couche utilisée pour ses propriétés de mémoire ferro-électrique, p.ex. semi-conducteur métal-ferro-électrique [MFS] ou semi-conducteur d’isolation métal-ferro-électrique-métal [MFMIS] caractérisées par des agencements tridimensionnels, p.ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur
  • H01L 21/28 - Fabrication des électrodes sur les corps semi-conducteurs par emploi de procédés ou d'appareils non couverts par les groupes
  • H01L 27/11587 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs les électrodes de grille comprenant une couche utilisée pour ses propriétés de mémoire ferro-électrique, p.ex. semi-conducteur métal-ferro-électrique [MFS] ou semi-conducteur d’isolation métal-ferro-électrique-métal [MFMIS] caractérisées par la configuration vue du dessus
  • H01L 27/1159 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs les électrodes de grille comprenant une couche utilisée pour ses propriétés de mémoire ferro-électrique, p.ex. semi-conducteur métal-ferro-électrique [MFS] ou semi-conducteur d’isolation métal-ferro-électrique-métal [MFMIS] caractérisées par la région noyau de mémoire
  • H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
  • H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/49 - Electrodes du type métal-isolant-semi-conducteur
  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
  • H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique
  • H01L 29/786 - Transistors à couche mince

94.

SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

      
Numéro d'application 18147006
Statut En instance
Date de dépôt 2022-12-28
Date de la première publication 2024-03-07
Propriétaire
  • HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Hsu, Wen-Cheng
  • Hong, Yu-Heng
  • Huang, Yao-Wei
  • Hong, Kuo-Bin
  • Kuo, Hao-Chung

Abrégé

A semiconductor device includes a first contact layer, a second contact layer, an active layer, a photonic crystal layer, a passivation layer, a first electrode and a second electrode. The first contact layer has a first surface and a second surface opposite to each other. Microstructures are located on the second surface. The second contact layer is located below the first surface. The active layer is located between the first contact layer and the second contact layer. The photonic crystal layer is located between the active layer and the second contact layer. The passivation layer is located on the second contact layer. The first electrode is located on the passivation layer and is electrically connected the first surface of the first contact layer. The second electrode is located on the passivation layer and is electrically connected to the second contact layer.

Classes IPC  ?

  • H01S 5/042 - Excitation électrique
  • H01S 5/028 - Revêtements
  • H01S 5/11 - Structure ou forme du résonateur optique comprenant une structure de bande photonique interdite

95.

Lithium metal powder, preparing method thereof, and electrode comprising the same

      
Numéro d'application 17967646
Numéro de brevet 11965226
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-10-17
Date de la première publication 2024-02-29
Date d'octroi 2024-04-23
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Chang, Jeng-Kuei
  • Chen, Si-Hao

Abrégé

The present invention relates to a lithium metal powder, a preparing method thereof, and an electrode including the same, wherein the method for preparing the lithium metal powder includes: providing a lithium metal material and a ultrasonication solution; mixing the lithium metal material and the ultrasonication solution to form a mixed solution; and ultrasonically vibrating the mixed solution to form a lithium metal powder, wherein the lithium metal powder is covered by a protective layer, and the aforementioned protective layer includes a protective layer material, wherein the protective layer material includes a sulfide, fluoride, or nitride, or a combination thereof.

Classes IPC  ?

  • C22B 3/22 - Traitement ou purification de solutions, p. ex. de solutions obtenues par lixiviation par des procédés physiques, p. ex. par filtration, par des moyens magnétiques
  • B22F 9/04 - Fabrication des poudres métalliques ou de leurs suspensionsAppareils ou dispositifs spécialement adaptés à cet effet par des procédés physiques à partir d'un matériau solide, p. ex. par broyage, meulage ou écrasement à la meule
  • C22B 26/12 - Obtention du lithium

96.

VERTICALLY STACKED TRANSISTORS AND FABRICATION THEREOF

      
Numéro d'application 18306004
Statut En instance
Date de dépôt 2023-04-24
Date de la première publication 2024-02-29
Propriétaire
  • TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING COMPANY, LTD. (Taïwan, Province de Chine)
  • NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Tu, Chien-Te
  • Liu, Chee-Wee

Abrégé

A device comprises a first semiconductor layer, a dielectric layer, a second semiconductor layer, and a gate structure. The first semiconductor layer is over a substrate. The first semiconductor layer comprises a first channel region and first source/drain regions on opposite sides of the first channel region. The dielectric layer is over the first semiconductor layer. The second semiconductor layer is over the dielectric layer. The second semiconductor layer comprises a second channel region and second source/drain regions on opposite sides of the second channel region. The gate structure comprises a first portion extending in the dielectric layer, a second portion wrapping around the first channel region of the first semiconductor layer, and a third portion wrapping around the second channel region of the second semiconductor layer.

Classes IPC  ?

  • H01L 27/092 - Transistors à effet de champ métal-isolant-semi-conducteur complémentaires
  • H01L 21/822 - Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun avec une division ultérieure du substrat en plusieurs dispositifs individuels pour produire des dispositifs, p.ex. des circuits intégrés, consistant chacun en une pluralité de composants le substrat étant un semi-conducteur, en utilisant une technologie au silicium
  • H01L 21/8238 - Transistors à effet de champ complémentaires, p.ex. CMOS
  • H01L 29/06 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices
  • H01L 29/08 - Corps semi-conducteurs caractérisés par les formes, les dimensions relatives, ou les dispositions des régions semi-conductrices avec des régions semi-conductrices connectées à une électrode transportant le courant à redresser, amplifier ou commuter, cette électrode faisant partie d'un dispositif à semi-conducteur qui comporte trois électrodes ou plus
  • H01L 29/417 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative transportant le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
  • H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
  • H01L 29/775 - Transistors à effet de champ avec un canal à gaz de porteurs de charge à une dimension, p.ex. FET à fil quantique

97.

Curved Surface Measurement Device and Method for Preparation Thereof

      
Numéro d'application 18156602
Statut En instance
Date de dépôt 2023-01-19
Date de la première publication 2024-02-15
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Wen, Kuei Ann
  • Huang, Yu Jie

Abrégé

Curved surface measurement device comprises a plurality of vector sensors, each comprising: a main body and a vector device connected thereto. The vector device comprises a linear extension, with an end provided with a connector for connecting with the main body of another vector sensor; a sensing chip to sense the vector of gravity; a wireless communication circuit to transmit to the external a sensing value of the sensing chip. Computing device calculates the vector value of the end of the linear extension relative to the gravity, the result of which is a plurality of point representing a curve in the space. Method for preparation of the vector device is disclosed.

Classes IPC  ?

  • G01B 7/28 - Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de techniques électriques ou magnétiques pour mesurer des contours ou des courbes

98.

Robotic surgical system

      
Numéro d'application 18050332
Numéro de brevet 12144557
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-10-27
Date de la première publication 2024-02-08
Date d'octroi 2024-11-19
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Song, Kai-Tai
  • Chiu, Shih-Wei
  • Li, Bing-Yi

Abrégé

A robotic surgical system includes a surgical robot holding a surgical instrument, a wearable device worn by a person, a camera for capturing images, and a computer device. The camera captures images of a base marker, and a dynamic reference frame disposed on an affected part of a patient. The computer device calculates a plurality of conversion relationships among different coordinate systems, and controls the surgical robot to move the surgical instrument according to a pre-planned surgical path and based on the conversion relationships. Furthermore, the computer device transmits data of a 3D model and the pre-planned surgical path to the wearable device, such that the wearable device is configured to present the 3D model in combination with the pre-planned surgical path as an AR image based on the conversion relationships.

Classes IPC  ?

  • A61B 34/10 - Planification, simulation ou modélisation assistées par ordinateur d’opérations chirurgicales
  • A61B 34/00 - Chirurgie assistée par ordinateurManipulateurs ou robots spécialement adaptés à l’utilisation en chirurgie
  • A61B 34/20 - Systèmes de navigation chirurgicaleDispositifs pour le suivi ou le guidage d'instruments chirurgicaux, p. ex. pour la stéréotaxie sans cadre
  • A61B 34/30 - Robots chirurgicaux
  • A61B 90/00 - Instruments, outillage ou accessoires spécialement adaptés à la chirurgie ou au diagnostic non couverts par l'un des groupes , p. ex. pour le traitement de la luxation ou pour la protection de bords de blessures
  • A61B 90/50 - Supports pour instruments chirurgicaux, p. ex. bras articulés

99.

POWER AMPLIFIER AND RADIO FREQUENCY FRONT-END CIRCUIT

      
Numéro d'application 18050471
Statut En instance
Date de dépôt 2022-10-28
Date de la première publication 2024-02-08
Propriétaire National Yang Ming Chiao Tung University (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s)
  • Hsu, Heng-Tung
  • Tsao, Yi-Fan

Abrégé

A power amplifier includes an amplifying circuit, a feedback circuit and a grounding capacitor. The amplifier circuit includes at least a first transistor and a second transistor. A control terminal of the first transistor is configured to receive an input signal, a first terminal of the second transistor is coupled to the first transistor, and a second terminal of the second transistor is configured to generate an output signal. The feedback circuit is coupled to the control terminal of the first transistor and the second terminal of the second transistor. The ground capacitor is configured to couple the control terminal of the second transistor to ground. When a frequency of the input signal is between a first band and a second band, an amplification gain of the output signal relative to the input signal is substantially the same.

Classes IPC  ?

  • H04B 1/04 - Circuits
  • H04B 1/00 - Détails des systèmes de transmission, non couverts par l'un des groupes Détails des systèmes de transmission non caractérisés par le milieu utilisé pour la transmission

100.

Kit comprising antibody binding acrolein-protein conjugate for diagnosing nephropathy

      
Numéro d'application 17929254
Numéro de brevet 12181483
Statut Délivré - en vigueur
Date de dépôt 2022-09-01
Date de la première publication 2024-02-01
Date d'octroi 2024-12-31
Propriétaire NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taïwan, Province de Chine)
Inventeur(s) Wang, Hsiang-Tsui

Abrégé

A biomarker includes acrolein-protein conjugate (Acr-PC). An assay kit includes an antibody capable of binding to the biomarker for diagnosing nephropathy, monitoring the progression of nephropathy, or assessing the therapeutic response of nephropathy. The antibody includes a heavy chain having the amino acid sequence of SEQ ID NO:1 and a light chain having the amino acid sequence of SEQ ID NO:2.

Classes IPC  ?

  • C07K 16/18 - Immunoglobulines, p. ex. anticorps monoclonaux ou polyclonaux contre du matériel provenant d'animaux ou d'humains
  • G01N 33/68 - Analyse chimique de matériau biologique, p. ex. de sang ou d'urineTest par des méthodes faisant intervenir la formation de liaisons biospécifiques par ligandsTest immunologique faisant intervenir des protéines, peptides ou amino-acides
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