An embodiment of an apparatus may include NAND memory organized as two or more memory planes and a controller communicatively coupled to the NAND memory, the controller including circuitry to provide synchronous independent plane read operations for the two or more memory planes of the NAND memory. Other embodiments are disclosed and claimed.
G11C 11/4096 - Circuits de commande ou de gestion d'entrée/sortie [E/S, I/O] de données, p. ex. circuits pour la lecture ou l'écriture, circuits d'attaque d'entrée/sortie ou commutateurs de lignes de bits
G11C 11/4074 - Circuits d'alimentation ou de génération de tension, p. ex. générateurs de tension de polarisation, générateurs de tension de substrat, alimentation de secours, circuits de commande d'alimentation
NAND performance is increased by reducing the time to perform program operations. An operation to program a portion of NAND cells in a NAND memory array includes multiple stages. NAND performance is increased by reducing the time in a first stage of the multiple stages to compute parameters that are used in a second stage to perform program operation(s) and verify operation(s). The time in the first stage is reduced by enabling dynamic prologue selection to dynamically select one of multiple sets of first stage operations to be performed in the first stage for a program operation based on the Word Line (WL), WL-Group, and block information for a current program operation and a previous program operation.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
Provided in the present invention is a memory device, comprising: a substrate; a plurality of memory arrays, provided on the substrate and formed of a stack; and staircase structures provided between the plurality of memory arrays. First dummy pillars (11, 21) that penetrate through a plurality of dielectric layers and conductive layers and do not function as memory cells are provided at edges of the stack; second dummy pillars (12, 22) that are adjacent to the first dummy pillars (11, 21) are provided in the staircase structures; and the second dummy pillars (12, 22) are covered by a filler that fills the interiors of the staircase structures. In the present invention, the introduction of more dummy pillars into the staircase structures can reduce the physical bending and displacement of effective memory arrays caused by stress, while not affecting the size of memory chips, thereby improving the yield and reliability in the vertical direction.
H10B 43/23 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés
4.
3D NAND COMINGLED WORDLINE CONTACT AND THROUGH ARRAY VIA AREA
Systems, apparatuses, and methods may provide for technology that arranges a wordline access structure for memory devices. The memory device includes a memory array and a memory block coupled to the memory array. The memory block includes a plurality of wordlines penetrating through a plurality of decks of a non-volatile memory structure. A plurality of through array vias penetrate through the plurality of decks, where the plurality of through array vias and the plurality of wordlines are comingled in a shared wordline access structure area. Additionally, or alternatively, the memory device is manufactured based on forming multi-level via holes penetrating through a plurality of decks of a non-volatile memory structure of a memory device based on wordline contact patterning. A metal film is deposited to fill the via holes to form wordline contacts.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
5.
ENHANCED IO INTERFACE FOR PLC PROGRAM AND PROGRAM-SUSPEND-RESUME OPERATIONS
Methods and apparatus for Enhanced IO Interface for PLC program and program-suspend-resume operations. A NAND memory device includes blocks of single-level cell (SLC) memory and multi-level cell (MLC) memory storing n-bits per cell such as quad-level cell (QLC) or penta-level cell (PLC) memory. The NAND memory device further includes a plurality of page buffer latches and logic to copy data from a set of n SLC pages in a block of SLC memory into n respective page buffer latches and copy data from the respective page buffer latches to an MLC page (e.g., QLC or PLC page) in a block of MLC memory. These operations can be extended for NAND memory devices having multiple planes with blocks of SLC and QLC/PLC memory. QLC/PLC program and program-resume operations are supported with optional ECC correction operations.
Systems, apparatuses and methods may provide for memory cell technology comprising a control gate, a conductive channel, and a charge storage structure coupled to the control gate and the conductive channel, wherein the charge storage structure includes a polysilicon layer and a metal layer. In one example, the metal layer includes titanium nitride or other high effective work function metal.
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
Methods for fabricating interconnect arrangements of a metallization layer Mx by using stitching that is enabled by subtractive metallization are disclosed. An example method includes providing a metal layer and a collection layer over the metal layer. The method then includes forming openings for two sets of metal lines by performing a first lithographic process to provide, in the collection layer, first openings for a first set of lines, and then performing a second lithographic process to provide, in the collection layer, second openings for a second set of lines. The method further includes performing a third lithographic process to provide a further opening (a stitch opening) that overlaps with at least one of the first openings of a first track and at least one of the second openings of a second track, and, finally, transferring the pattern of the first, second, and stitch openings to the metal layer.
H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
H01L 23/535 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions internes, p. ex. structures d'interconnexions enterrées
8.
DIAGNOSTIC RING OSCILLATOR CIRCUIT FOR DC AND TRANSIENT CHARACTERIZATION
Methods and apparatus for a diagnostic ring oscillator (RO) circuit for DC and transient characterization. The RO circuit includes a plurality of symmetrical stages coupled via a feedback signal line and forming an inverter chain, where each stage includes a CMOS inverter comprising a pair of pMOS and nMOS transistors coupled between power-gating transistors respectively coupled to a positive voltage source and ground. An output of a CMOS inverter for the stage is coupled to an input for the CMOS inverter of a next stage. The first stage is an enable stage configured to set the inverter chain into a defined logic state, followed by multiple pre-stage—DUT stages. The output of the last stage is feed back to the input of the enable stage to form a feedback signal. The RO circuit can operate in multiple modes including an AC mode, a DC mode, and a hybrid mode.
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ
9.
EXPRESS STATUS OPERATION FOR STORAGE DEVICES WITH INDEPENDENT PLANES AND PLANE GROUPS
A storage device includes a storage array with multiple planes organized as plane groups, where the planes of a plane group receive and process commands in parallel. The storage device includes a storage controller that receives a command from a host controller. In response to receipt of the command the storage controller provides ready information for all planes to the host controller. The multiple planes can optionally have independent multiplane read operation (IMPRO). Each plane group can have a first plane and a second plane, and the storage controller can optionally read data from the first plane of a plane group in response to a virtual ready signal for the first plane, before the second plane of the plane group is ready.
A request to read data stored in a non-volatile memory (NVM) is processed by incrementing a global read counter for the NVM, incrementing a local read counter for a zone of the NVM being accessed by processing of the read request, computing a degree of read hotness for the zone, computing a read concentration of the zone based at least in part on the degree of read hotness of the zone, the global read counter, and the local read counter, and relocating the data in the NVM when the read concentration of the zone meets or exceeds a threshold.
An apparatus, a method and a system. The apparatus comprises a memory array including word lines defining a staircase structure, and a staircase etch stop layer including: a sandwich etch stop layer disposed on a top region the staircase and including a first etch stop layer and a third etch stop layer of a first material, and a second etch stop layer sandwiched between the first etch stop layer and the third etch stop layer and made of a second material having etch properties different from the first material; a precut etch stop layer disposed at a region of the staircase structure below the top region and including the second etch stop layer and the third etch stop layer and not the first etch stop layer; and contact structures extending through a dielectric layer and the staircase etch stop layer and landing on the word lines at the staircase structure.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
12.
LEAN COMMAND SEQUENCE FOR MULTI-PLANE READ OPERATIONS
Systems, apparatuses and methods may provide for technology that generates address information for a plurality of planes in NAND memory, excludes column information from the address information, and sends a read command sequence to the NAND memory, wherein the read command sequence includes the address information. In one example, the technology also excludes plane confirm commands and busy cycles from the read command sequence.
A method is described. The method includes programming a column of flash storage cells in a direction along the column in which a parasitic transistor that resides between a cell being programmed and an immediately next cell to be programmed has lower resistivity as compared to a corresponding parasitic transistor that exists if the programming were to be performed in an opposite direction along the column.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
G11C 7/02 - Dispositions pour écrire une information ou pour lire une information dans une mémoire numérique avec des moyens d'éviter les signaux parasites
G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
G11C 16/24 - Circuits de commande de lignes de bits
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
14.
STAGGERED READ RECOVERY FOR IMPROVED READ WINDOW BUDGET IN A THREE DIMENSIONAL (3D) NAND MEMORY ARRAY
After reading a 3D (three dimensional) NAND array, the wordlines of the 3D NAND array can be transitioned to ground in a staggered manner. The 3D NAND array includes a 3D stack with multiple wordlines vertically stacked, including a bottom-most wordline, a top-most wordline, and middle wordlines between the bottom-most wordline and the top-most wordline. A controller that controls the reading can set the multiple wordlines to a read voltage for reading operations and then transition a selected wordline of the multiple wordlines from the read voltage to ground prior to transitioning the other wordlines to ground. Thus, the controller will transition the other wordlines from the read voltage to ground after a delay.
G11C 7/04 - Dispositions pour écrire une information ou pour lire une information dans une mémoire numérique avec des moyens d'éviter les effets perturbateurs thermiques
G11C 11/4074 - Circuits d'alimentation ou de génération de tension, p. ex. générateurs de tension de polarisation, générateurs de tension de substrat, alimentation de secours, circuits de commande d'alimentation
Proactively adjusting read voltages at the system level, before performing a read operation on data located in a partially-programmed block in a block-addressable non-volatile memory, can significantly reduce the re-read trigger rate. This reduces the rate of entering a read recovery flow and subsequent read latency. Determining in advance a wordline-specific pattern of wordline offsets associated with past unsuccessful reads in partially-programmed blocks allows read voltages to be proactively adjusted for vulnerable wordlines. Read voltages are restored for subsequent read operations.
An embodiment of a memory device may include a full block memory array of a lower tile of 3D NAND string memory cells, a full block memory array of an upper tile of 3D NAND string memory cells, a first portion of a string driver circuit coupled to the full block memory array of the lower tile, a second portion of the string driver circuit coupled to the full block memory array of the upper tile, a first split block memory array of the lower tile coupled to the first portion of the string driver circuit, and a second split block memory array of the upper tile coupled to the second portion of the string driver circuit. Other embodiments are disclosed and claimed.
A method is described. The method includes performing the following on a flash memory chip: measuring a temperature of the flash memory chip; and, changing a program step size voltage of the flash memory chip because the temperature of the flash memory chip has changed.
Systems, apparatuses and methods may provide for technology that boosts strings of a plurality of NAND sub-blocks to a pass voltage, deboosts a first subset of the boosted strings based on data associated with the plurality of NAND sub-blocks, and simultaneously programs the first subset while a second subset of the boosted strings remain at the pass voltage. In one example, to boost the strings of the NAND sub-blocks, the technology applies the pass voltage to selected and unselected wordlines that are connected to the NAND sub-blocks while selected and unselected strings are disconnected from a bitline that receives the data associated with the NAND sub-blocks.
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
G06F 3/06 - Entrée numérique à partir de, ou sortie numérique vers des supports d'enregistrement
G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
G11C 16/24 - Circuits de commande de lignes de bits
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
Systems, apparatuses and methods may provide for technology that sends a first command to a NAND die, sends first address information to the NAND die, and sends a second command to the NAND die, wherein the first command and the second command define a first command sequence and wherein the first address information signal a beginning of a first asynchronous read request from a first plurality of planes. In one example, the technology also sends a second command sequence and second address information to the NAND die wherein the second command sequence signals an end of the first asynchronous read request.
G11C 11/4096 - Circuits de commande ou de gestion d'entrée/sortie [E/S, I/O] de données, p. ex. circuits pour la lecture ou l'écriture, circuits d'attaque d'entrée/sortie ou commutateurs de lignes de bits
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
20.
EFFICIENT BITLINE STABILIZATION FOR PROGRAM INHIBIT IN NAND ARRAYS
A storage device charges bitlines in preparation for a program pulse. To charge the bitlines, the storage device connects the bitlines to an external regulator instead of an internal regulator to prepare them for the program pulse. The system can charge all bitlines to the external regulator high voltage reference before changing to the internal regulator for bitline stabilization before the program pulse.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
G11C 16/24 - Circuits de commande de lignes de bits
21.
METHOD AND APPARATUS TO REDUCE TIME TO PROGRAM SINGLE LEVEL CELL BLOCKS IN A NON-VOLATILE MEMORY
NAND performance is increased by reducing the time to perform program operations. An operation to program a portion of NAND cells in a NAND memory array includes multiple stages. NAND performance is increased by reducing the time in a first stage of the multiple stages to compute parameters that are used in a second stage to perform program operation(s) and verify operation(s). The time in the first stage is reduced by enabling dynamic prologue selection to dynamically select one of multiple sets of first stage operations to be performed in the first stage for a program operation based on the Word Line (WL), WL-Group, and block information for a current program operation and a previous program operation.
G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
22.
APPARATUS AND METHOD TO IMPROVE READ WINDOW BUDGET IN A THREE DIMENSIONAL NAND MEMORY
A NAND device comprises a memory array, the memory array including a plurality of blocks of NAND cells and circuitry to perform a touchup program on a portion of programmed NAND cells in a block of NAND cells after all word lines in the block have been programmed. The gap width in a threshold voltage (Vt) distribution for a 3D NAND Flash cell is improved by performing touchup program on a selected portion of the word lines in a block after all of the word lines in the block have been programmed.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
Modulation of the source voltage in a NAND-flash array read waveform can enable improved read-disturb mitigation. For example, increasing the source line voltage to a voltage with a magnitude greater than the non-idle source voltage during the read operation when the array is idle (e.g., not during sensing) enables a reduction in read disturb without the complexity arising from the consideration of multiple read types. Additional improvement in FN disturb may also be obtained on the sub-blocks in the selected SGS by increasing the source line voltage during the selected wordline ramp when the array is idle.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
24.
Persistent data structure to track and manage SSD defects
An embodiment of an electronic apparatus may include one or more substrates, and logic coupled to the one or more substrates, the logic to control access to a persistent storage media based on a block and sub-block access structure, store a data structure in the persistent storage media to track read fails at a sub-block granularity for a word-line for every block, and update the data structure in response to a read fail on a block to indicate a failed sub-block that corresponds to the read fail for a word-line for the block. Other embodiments are disclosed and claimed.
G06F 11/00 - Détection d'erreursCorrection d'erreursContrôle de fonctionnement
G06F 1/30 - Moyens pour agir en cas de panne ou d'interruption d'alimentation
G06F 11/16 - Détection ou correction d'erreur dans une donnée par redondance dans le matériel
G06F 11/20 - Détection ou correction d'erreur dans une donnée par redondance dans le matériel en utilisant un masquage actif du défaut, p. ex. en déconnectant les éléments défaillants ou en insérant des éléments de rechange
G11C 29/00 - Vérification du fonctionnement correct des mémoiresTest de mémoires lors d'opération en mode de veille ou hors-ligne
Vertical wordline driver structures and methods. The vertical wordline driver comprises a transistor that is used to drive a wordline in a three-dimensional 3D memory structure. A vertical transistor structure is formed in a semiconductor substrate comprising a gate all around (GAA) structure or a double-gate structure including a gate oxide, an amorphous IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide) channel, adjacent to the gate oxide, and a liner adjacent to the amorphous IGZO channel. The GAA structure may comprise a conical frustrum shape or a cylindrical shape with straight walls. The double-gate structure may have straight or angled walls. An outer wall of the gate oxide is in contact with a polysilicon gate layer. An upper and lower contact is electrically coupled to the amorphous IGZO channel.
H10B 43/40 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région de circuit périphérique
H10B 41/41 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région de circuit périphérique de régions de mémoire comprenant un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
26.
EARLY READ OPERATION FOR STORAGE DEVICES WITH INDEPENDENT PLANES AND PLANE GROUPS
A storage device includes a storage array with multiple planes organized as plane groups, where the planes of a plane group receive and process commands in parallel. The storage device includes a storage controller that receives a command from a host controller. In response to receipt of the command the storage controller provides ready information for all planes to the host controller. The multiple planes can optionally have independent multiplane read operation (IMPRO). Each plane group can have a first plane and a second plane, and the storage controller can optionally read data from the first plane of a plane group in response to a virtual ready signal for the first plane, before the second plane of the plane group is ready.
For a nonvolatile (NV) storage media such as NAND (not AND) media that is written by a program and program verify operation, the system can apply a smart prologue operation. A smart prologue operation can selectively apply a standard program prologue, to compute program parameters for a target subblock. The smart prologue operation can selectively apply an accelerated program prologue, applying a previously-computed program parameter for a subsequent subblock of a same block of the NV storage media. Application of a prior program parameter can reduce the need to compute program parameters for the other subblocks.
G11C 16/12 - Circuits de commutation de la tension de programmation
G11C 7/22 - Circuits de synchronisation ou d'horloge pour la lecture-écriture [R-W]Générateurs ou gestion de signaux de commande pour la lecture-écriture [R-W]
G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
28.
METHOD AND APPARATUS TO REDUCE MEMORY IN A NAND FLASH DEVICE TO STORE PAGE RELATED INFORMATION
The size of page map memory in a NAND flash device used to store page related information is decreased by embedding page type in a row address. The row address is received by the NAND flash device from the host on the data bus in a six-cycle sequence. The received row address is used to decode a physical page address received during the row address cycle to obtain a word line and a block segment number for a block segment in the word line in the NAND flash array. A same block segment number is used for each page type in the block segment.
A ring oscillator (RO) circuit for capturing one or more characteristics relating to aging of CMOS circuitry in a CMOS device has been described. The RO circuit includes a plurality of stages coupled via an RO feedback signal line and forming an inverter chain. The plurality of stages include, for each stage, a respective CMOS inverter comprising a pair of pMOS and nMOS transistors followed by a pass gate, wherein an output of a pass gate for a stage is coupled to an input for the respective CMOS inverter of a next stage. The plurality of stages include an enable stage to enable the inverter chain to be put into a free oscillating mode or another mode in which the RO circuit does not freely oscillate. The plurality of stages include a Device Under Test (DUT) stage preceded by a pre-stage where respective supply rails of the DUT stage and pre-stage are isolated from one another.
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ
Systems, apparatuses, and methods may provide for technology for an aging protection scheme for memory structures. For example, such technology determines a completion of a burst cycle operation. Such technology alternates between a first park status applied to even node devices and a second park status applied to odd node devices in response to the determined completion of the burst cycle operation.
A test system for memory can be calibrated based on an indirect determination of the channel loss. A characteristic receive eye parameter can be computed for a memory die on a first test platform, and then used to indirectly determine the channel loss for a different test platform. The different test platform can adjust the transmit data eye based on the calculation of its channel loss.
Program verify can be performed simultaneously on multiple subblocks in a storage device. The program verify occurs after a program operation of the storage cells. The program verify can include application of a verify read pulse to multiple subblocks simultaneously and then a count a number of bitlines of the multiple subblocks that do not discharge in response to the verify read pulse. The program verify passes if the count is within an expected range, instead of requiring all storage cells to pass program verify before moving on. If the number of bitlines not discharging is outside the expected range, the system can perform a second program pass.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
G11C 16/24 - Circuits de commande de lignes de bits
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
33.
Efficient bitline stabilization for program inhibit in NAND arrays
A storage device charges bitlines in preparation for a program pulse. To charge the bitlines, the storage device connects the bitlines to an external regulator instead of an internal regulator to prepare them for the program pulse. The system can charge all bitlines to the external regulator high voltage reference before changing to the internal regulator for bitline stabilization before the program pulse.
G06F 12/00 - Accès à, adressage ou affectation dans des systèmes ou des architectures de mémoires
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
G11C 16/24 - Circuits de commande de lignes de bits
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
34.
Diagnostic ring oscillator circuit for DC and transient characterization
Methods and apparatus for a diagnostic in situ ring oscillator (RO) circuit for DC and transient characterization. The RO circuit includes a plurality of symmetrical stages coupled via an RO feedback signal line and forming an inverter chain, where each stage includes a CMOS inverter comprising a pair of pMOS and nMOS transistors coupled between power-gating transistors respectively coupled to a positive voltage source and ground, wherein an output of a CMOS inverter for the stage is coupled to an input for the CMOS inverter of a next stage. The first stage is a configurable enable stage to enable the inverter chain to be set into a defined logic state, followed by multiple pre-stage-DUT stages. The output of the last stage is feed back to the input of the enable stage to form an RO feedback signal. The RO circuit can operate in multiple modes including an AC mode, a DC mode, and a hybrid mode.
H03K 17/687 - Commutation ou ouverture de porte électronique, c.-à-d. par d'autres moyens que la fermeture et l'ouverture de contacts caractérisée par l'utilisation de composants spécifiés par l'utilisation, comme éléments actifs, de dispositifs à semi-conducteurs les dispositifs étant des transistors à effet de champ
H03K 19/0185 - Dispositions pour le couplageDispositions pour l'interface utilisant uniquement des transistors à effet de champ
A storage device includes a storage array having multiple decks of NAND cells in a three dimensional (3D) stack. There can be any number of decks that have multiple wordlines in vertical stacks. The decks include a first deck and a second deck. Bias circuitry can apply different voltages to different decks of the storage array. The bias circuitry can apply a low bias to the first deck, with a first voltage low enough to not turn on the NAND cells of the first deck, and simultaneously apply a high bias to the second deck, with a second voltage high enough to turn on the NAND cells of the second deck.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
36.
ALD VS PVD IGZO CHANNEL AND ALOX CHANNEL PASSIVATION IN A 3D NAND VERTICAL WORDLINE DRIVER
ALD versus PVD IGZO Channel and AlOx channel passivation in a vertical wordline driver. A pillar is formed in a stacked layer semiconductor structure including a source layer, wherein forming the pillar exposes layers in the semiconductor structure and exposes a portion of the source layer at the bottom of the pillar. A gate oxide film is formed over exposed layers in the semiconductor structure and over the exposed portion of the source layer. A sacrificial silicon liner is formed over the gate oxide, and subsequently both the gate oxide and the sacrificial silicon liner are removed from the pillar bottom in an anisotropic dry etch (“punch”) process that exposes the source layer. The sacrificial silicon liner is stripped from the gate oxide wall, and a film of IGZO is formed over the gate oxide film and a portion of the source layer, and a high-κ channel passivation deposition process follows to form a film of a high-κ material over the film of IGZO to form a hermetically sealed IGZO channel contained within a vertical wordline driver supporting a drive voltage of at least 10 volts.
H10B 43/40 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région de circuit périphérique
H10B 41/41 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région de circuit périphérique de régions de mémoire comprenant un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
37.
Fast and efficient verify recovery and array discharge for 3D NAND memory arrays
Methods and apparatus for fast and efficient verify recovery and array discharge for 3D NAND memory arrays and other 3D storage devices. The 3D storage device includes storage arrays including strings of memory cells stacked on top of one another and sharing a channel in a pillar for the string. The memory cells for a string occupy respective tiers in a 3D structure with each tier having an associated wordline. A controller is used to program charge levels in the memory cells. Programming is followed by a fast verify recovery where a voltage is applied to the wordlines to perform a program verify, followed by discharging wordlines. Erased wordlines are identified and discharged first, followed by programmed wordlines, which may employ staggered discharge sequences. Dummy wordlines are then discharged, with an optional timer delay. For multi-deck devices, wordlines in the deck with an active wordline are discharged before wordlines in one or more other decks.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
G11C 7/14 - Gestion de cellules facticesGénérateurs de tension de référence de lecture
G11C 7/22 - Circuits de synchronisation ou d'horloge pour la lecture-écriture [R-W]Générateurs ou gestion de signaux de commande pour la lecture-écriture [R-W]
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
NAND performance is increased by reducing the time to perform program operations. An operation to program a portion of NAND cells in a NAND memory array includes multiple stages. NAND performance is increased by reducing the time in a first stage of the multiple stages to compute parameters that are used in a second stage to perform program operation(s) and verify operation(s). The time in the first stage is reduced by enabling dynamic prologue selection to dynamically select one of multiple sets of first stage operations to be performed in the first stage for a program operation based on the Word Line (WL), WL-Group, and block information for a current program operation and a previous program operation.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
39.
PREVENTION OF FLOATING GATE 3D-NAND CELL RESIDUAL BY USING HYBRID PLUG PROCESS IN SUPER-DECK STRUCTURE
Integration methods for prevention of floating gate 3D-NAND cell residual using a hybrid plug process in a super-deck structure and associated apparatus. A first desk layered structure comprising alternating isolation and conductor layers having a top isolation layer is formed over a substrate. A Silicon Nitride (SiN) layer is formed over the top isolation layer. An array of pillar holes vertically passing through the SiN layer and layers in the first deck layered structure are formed. The pillar holes are filled with a sacrificial film and an upper portion of the pillar holes are filled with a hybrid plug comprising first and second oxides. A second layered structure comprising alternating isolation and conductor layers having a bottom isolation layer is formed over the SiN layer, and an array of pillar holes are formed in the second deck layered structure. The hybrid plugs and sacrificial film is then removed using etching.
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
40.
FLOATING GATE NAND CELL – METHODS AND APPROACHES FOR FABRICATION
Methods and approaches for fabricating floating gate NAND cells and associated memory devices. A stacked layer structure comprising alternating layers of polysilicon and silicon nitride is fabricated, and an array of memory hole passing vertically through the alternating layers of polysilicon and silicon nitride are formed. Multiple films of materials, such as silicon oxide, silicon nitrides, and polysilicon are sequentially formed over sidewalls of the memory holes during in-memory hole processing. The back-side processing begins with removal of silicon nitride layers (dielectric spacers between wordlines) using an etchant introduced through replacement holes which enables inter-wordline airgaps between FG memory cells in adjacent polysilicon layers. Etching processes selective to silicon oxide and silicon nitride are performed to form the gate, inter-poly dielectric (IPD) layers, and the storage node of the FG memory cells. The films formed during the in-memory hole processing that are not etched comprise the channels.
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
41.
LARGE GRAIN AND HALOGEN-FREE SILICON CELL CHANNEL FOR 3D NAND STRING
An example of an apparatus may include an array of linear cell channels and a string of NAND memory cells arranged along a cell channel of the array of linear cell channels, where a polysilicon cell channel layer comprises material with less than E17 halogen atoms per cubic centimeter, where a thickness of the polysilicon cell channel layer is less than or equal to 25 nanometers, and where an area-weighted grain height mean of the polysilicon cell channel layer is greater than 30 nanometers. Other examples are disclosed and claimed.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
42.
INTEGRATED WORD LINE CONTACT STRUCTURES IN THREE-DIMENSIONAL (3D) MEMORY ARRAY
A memory array including integrated word line (WL) contact structures are disclosed. The memory array comprises a plurality of WLs that includes at least a first WL and a second WL. An integrated WL contact structure includes a first WL contact and a second WL contact for the first WL and the second WL, respectively. The second WL contact extends through the first WL contact. For example, the second WL contact is nested within the first WL contact. An intervening isolation material isolates the second WL contact from the first WL contact. In an example, the second WL contact extends through a hole in the first WL to reach the second WL. The isolation material isolates the second WL contact from sidewalls of the hole in the first WL.
H01L 23/535 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions internes, p. ex. structures d'interconnexions enterrées
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
43.
MEMORY DEVICES WITH GRADIENT-DOPED CONTROL GATE MATERIAL
Disclosed herein are memory devices with gradient-doped control gate material, as well as related methods and devices. In some embodiments, a memory device may include a first isolation material, a second isolation material, and a control gate material between the first isolation material and the second isolation material along an axis. The control gate material may include a dopant having a non-uniform concentration along the axis.
H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
44.
Techniques for preventing read disturb in NAND memory
In one example, reads in a NAND memory device are tracked for sub-groups. When the number of reads to a sub-group meets a threshold, the data at the wordline on which the threshold was met is moved along with the data at neighboring wordlines to an SLC block without moving the entire block. The performance impact and write amplification impact of read disturb mitigation can be significantly reduced while maintaining some data continuity.
G11C 11/00 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants
G06F 3/06 - Entrée numérique à partir de, ou sortie numérique vers des supports d'enregistrement
G11C 11/56 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments d'emmagasinage comportant plus de deux états stables représentés par des échelons, p. ex. de tension, de courant, de phase, de fréquence
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
45.
Enhanced IO interface for plc program and program-suspend-resume operations
Methods and apparatus for Enhanced IO Interface for PLC program and program-suspend-resume operations. A NAND memory device includes blocks of single-level cell (SLC) memory and multi-level cell (MLC) memory storing n-bits per cell such as quad-level cell (QLC) or penta-level cell (PLC) memory. The NAND memory device further includes a plurality of page buffer latches and logic to copy data from a set of n SLC pages in a block of SLC memory into n respective page buffer latches and copy data from the respective page buffer latches to an MLC page (e.g., QLC or PLC page) in a block of MLC memory. These operations can be extended for NAND memory devices having multiple planes with blocks of SLC and QLC/PLC memory. QLC/PLC program and program-resume operations are supported with optional ECC correction operations.
An example of a memory device may comprise NAND media with a plurality of decks, and circuitry coupled to the NAND media to control access to a superblock of memory cells aligned along a pillar of the NAND media, wherein the superblock includes at least a first block that corresponds to memory cells aligned along the pillar in a first deck of the plurality of decks and a second block that corresponds to memory cells aligned along the pillar in a second deck of the plurality of decks, configure the NAND media in a first program mode for the first block of the superblock, and configure the NAND media in a second program mode for the second block of the superblock. Other examples are disclosed and claimed.
Systems, apparatuses and methods may provide for technology that issues a program pulse to a selected subblock of a NAND memory array, conducts a pulse recovery phase after the program pulse, and shuts down unselected subblocks in the NAND memory array during the pulse recovery phase.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
Methods and apparatus for low-cost punch through flows. Pillar recesses are formed in a semiconductor structure comprising a stack of layers. A negative photoresist coating is applied over regions containing the plurality of pillar recesses. Using a mask, the negative photoresist is in regions in which dummy pillars are to be formed to causing the negative photoresist to polymerize and become insoluble to a developer. A developer is then applied to the semiconductor structure to dissolve the negative photoresist in the pillar recesses that are not exposed. A punch through operation is then performed using an etchant to punch through the bottoms of the pillar recesses that are not covered by the polymerized photoresist, while the bottoms of the pillar recesses that are covered are not punched through. The semiconductor process flow may be used in memory device, such as but not limited to 3D NAND devices.
H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
H10B 80/00 - Ensembles de plusieurs dispositifs comprenant au moins un dispositif de mémoire couvert par la présente sous-classe
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
49.
CONSOLIDATION OF STAIRCASE AREA ETCH AND CMOS CONTACT AREA ETCH IN 3D NAND
Systems, apparatuses, and methods may provide for technology that simultaneously forms staircase areas and CMOS (complementary metal-oxide-semiconductor) contact areas in three‐dimensional (3D) NAND memory. A 3D NAND memory includes a first CMOS contact area and a first staircase area. The first CMOS contact area is formed through a plurality of sequential chops. The first staircase area is formed through a plurality of sequential staircase chops. The first CMOS contact area is formed through the plurality of sequential chops being performed simultaneous to the plurality of sequential staircase chops.
H01L 27/24 - Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun comprenant des composants à l'état solide pour le redressement, l'amplification ou la commutation, sans barrière de potentiel ni barrière de surface
50.
METHOD FOR PILLAR BENDING IMPROVEMENT BY CUT TIERS PATTERN IMPLEMENTATION
Methods and apparatus for pillar bending improvement by cut tiers pattern implementation. The method uses a cut tier pattern in a staircase region of a 3D memory structure to reduce pillar bending in a pillar array region. The pillar array region includes a plurality of memory tiers comprising wordline layers interposed between isolation layers, where a memory tier comprises a two-dimensional (2D) array of memory cells. A plurality of vertical structures comprising pillars pass through memory cells in the wordline layers and pass through the isolation layers. The staircase structure is disposed adjacent to the pillar array region and includes vertical wordline drivers coupled to the wordline layers. A cut tier pattern comprising vertical trenches is formed in the staircase structure toward a side of the staircase structure adjacent to the pillar array region. The cut tier pattern includes one or more breaks used for routing circuitry in the wordlines.
H10B 41/10 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus
51.
Apparatus and method to improve read window budget in a three dimensional NAND memory
The gap width in a threshold voltage (Vt) distribution for a 3D NAND Flash cell is improved by performing touchup program on a selected portion of the word lines in a block after all of the word lines in the block have been programmed.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
An embodiment of an apparatus may include NAND memory organized as two or more memory planes and a controller communicatively coupled to the NAND memory, the controller including circuitry to provide synchronous independent plane read operations for the two or more memory planes of the NAND memory. Other embodiments are disclosed and claimed.
G11C 11/4096 - Circuits de commande ou de gestion d'entrée/sortie [E/S, I/O] de données, p. ex. circuits pour la lecture ou l'écriture, circuits d'attaque d'entrée/sortie ou commutateurs de lignes de bits
G11C 11/4074 - Circuits d'alimentation ou de génération de tension, p. ex. générateurs de tension de polarisation, générateurs de tension de substrat, alimentation de secours, circuits de commande d'alimentation
Dynamic program caching reduces latency of a program operation on multi-level cell (MLC) memory having at least three pages and programmable with multiple threshold voltage levels, such as a Triple Level Cell (TLC) NAND. A controller determines that the program operation can be initiated without loading all pages into the memory. In response, the NAND loads a first page and then executes portions of the program operation in parallel, at least in part, with loading subsequent pages. The NAND behavior is modified to monitor data loading completion times, to copy pages from a cache register to a data register as needed, and to resume program operation if a shutdown occurs. The portions of the program operation include a program prologue operation and a pulse verify loop for the first voltage level (L1) of the MLC memory.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
Dynamic program caching reduces latency of a program operation on multi-level cell (MLC) memory having at least three pages and programmable with multiple threshold voltage levels, such as a Triple Level Cell (TLC) NAND. A controller determines that the program operation can be initiated without loading all pages into the memory. In response, the NAND loads a first page and then executes portions of the program operation in parallel, at least in part, with loading subsequent pages. The NAND behavior is modified to monitor data loading completion times, to copy pages from a cache register to a data register as needed, and to resume program operation if a shutdown occurs. The portions of the program operation include a program prologue operation and a pulse verify loop for the first voltage level (LI) of the MLC memory.
G11C 11/56 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments d'emmagasinage comportant plus de deux états stables représentés par des échelons, p. ex. de tension, de courant, de phase, de fréquence
G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
G06F 12/0811 - Systèmes de mémoire cache multi-utilisateurs, multiprocesseurs ou multitraitement avec hiérarchies de mémoires cache multi-niveaux
55.
INTERFACE FOR DIFFERENT INTERNAL AND EXTERNAL MEMORY IO PATHS
An embodiment of an apparatus may include a memory package with one or more memory die on an internal input/output (IO) path of the memory package, and an interface module communicatively coupled to the one or more memory die through the internal IO path, the interface module including circuitry to perform IO external to the memory package at a first IO width and a first IO speed, and perform IO internal to the memory package at a second IO width and a second IO speed, wherein one or more of the second IO width is different from the first IO width and the second IO speed is different from the first IO speed. Other embodiments are disclosed and claimed.
Methods and apparatus of engineered dielectric profile for high aspect-ratio (AR) 3D NAND structures. The 3D NAND structures comprise a semiconductor structure having multiple stacked memory tiers comprising 2D arrays of memory cells that are charged using vertical structures formed in the semiconductor structure. The memory tiers comprise wordline layers interposed between isolation layers. The vertical structures, such as memory holes or trenches, have a dielectric (e.g., a tunnel dielectric) formed along sidewalls of holes or trenches having a cross-section profile where a thickness of the dielectric at a bottom wordline layer is thicker than the dielectric thickness for at least a portion of wordline layers above the bottom wordline layer. In one example, formation of the tunnel dielectric employs a sandwich design of engineered profile method in which a selective deposition of dielectric is deposited at the bottom sections of the vertical structures while the rest of the structure is un-altered.
H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
H10B 80/00 - Ensembles de plusieurs dispositifs comprenant au moins un dispositif de mémoire couvert par la présente sous-classe
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
An embodiment of a memory device may comprise a super-pillar formed through a plurality of sub-decks, a string of memory cells formed along the super-pillar, and respective regions of transition material disposed between respective sub-decks of the plurality of sub-decks, wherein the super-pillar comprises at least a first pillar formed through a first sub-deck of the plurality of sub-decks substantially aligned with a second pillar formed through a second sub-deck of the plurality of sub-decks. Other embodiments are disclosed and claimed.
H01L 27/11556 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par des agencements tridimensionnels, p.ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
58.
METHOD AND APPARATUS TO SELECT A PLANE IN A NAND FLASH DIE TO STORE A READ-ONLY RESERVED BLOCK
Manufacturing yield loss of NAND Flash dies is reduced by selecting a plane to store a read-only reserved block and another plane to store a backup read-only reserved block based on the Number of Valid Blocks (NVB) blocks in each plane in the NAND Flash array.
Manufacturing yield loss of NAND Flash dies is reduced by selecting a plane to store a read-only reserved block and another plane to store a backup read-only reserved block based on the Number of Valid Blocks (NVB) blocks in each plane in the NAND Flash array.
For NAND devices having a zero voltage program state as a result of a preconditioning operation, detecting the status of the zero voltage program state is important for customers to quickly validate their component and SSD flows to improve NAND retention and reliability after assembly and die level re-work. A zero voltage program state detection operation quickly determines the validity of the zero voltage program state of a NAND page of a NAND device. The detection operation includes reading a NAND page with reference voltages that delimit a predetermined acceptable range of voltage levels below and above a zero threshold voltage. If NAND memory cells having threshold voltage levels that fall below or above the acceptable voltage levels exceed a predetermined failed bytes limit for the NAND page, the zero voltage program state is invalid.
G06F 11/10 - Détection ou correction d'erreur par introduction de redondance dans la représentation des données, p. ex. en utilisant des codes de contrôle en ajoutant des chiffres binaires ou des symboles particuliers aux données exprimées suivant un code, p. ex. contrôle de parité, exclusion des 9 ou des 11
G06F 3/06 - Entrée numérique à partir de, ou sortie numérique vers des supports d'enregistrement
61.
EARLY READ OPERATION FOR STORAGE DEVICES WITH INDEPENDENT PLANES AND PLANE GROUPS
A storage device includes a storage array with multiple planes organized as plane groups, where the planes of a plane group receive and process commands in parallel. The storage device includes a storage controller that receives a command from a host controller. In response to receipt of the command the storage controller provides ready information for all planes to the host controller. The multiple planes can optionally have independent multiplane read operation (IMPRO). Each plane group can have a first plane and a second plane, and the storage controller can optionally read data from the first plane of a plane group in response to a virtual ready signal for the first plane, before the second plane of the plane group is ready.
An apparatus, a method and a system. The apparatus comprises a memory array including word lines defining a staircase structure, and a staircase etch stop layer including: a sandwich etch stop layer disposed on a top region the staircase and including a first etch stop layer and a third etch stop layer of a first material, and a second etch stop layer sandwiched between the first etch stop layer and the third etch stop layer and made of a second material having etch properties different from the first material; a precut etch stop layer disposed at a region of the staircase structure below the top region and including the second etch stop layer and the third etch stop layer and not the first etch stop layer; and contact structures extending through a dielectric layer and the staircase etch stop layer and landing on the word lines at the staircase structure.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
H01L 23/528 - Configuration de la structure d'interconnexion
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
63.
Express status operation for storage devices with independent planes and plane groups
A storage device includes a storage array with multiple planes organized as plane groups, where the planes of a plane group receive and process commands in parallel. The storage device includes a storage controller that receives a command from a host controller. In response to receipt of the command the storage controller provides ready information for all planes to the host controller. The multiple planes can optionally have independent multiplane read operation (IMPRO). Each plane group can have a first plane and a second plane, and the storage controller can optionally read data from the first plane of a plane group in response to a virtual ready signal for the first plane, before the second plane of the plane group is ready.
Power consumption of sensing circuitry in a NAND Flash device is reduced by reducing the voltage supply to a portion of logic circuits in sensing circuitry. A first power domain provides power to a first portion of the logic circuits in the sensing circuity and a second power domain provides power to a second portion of the logic circuits in the sensing circuitry. The first power domain has a higher voltage than the second power domain.
Vertical wordline driver structures and methods. The vertical wordline driver comprises a transistor that is used to drive a wordline in a three-dimensional 3D memory structure. A vertical transistor structure is formed in a semiconductor substrate comprising a gate all around (GAA) structure or a double-gate structure including a gate oxide, an amorphous IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide) channel, adjacent to the gate oxide, and a liner adjacent to the amorphous IGZO channel. The GAA structure may comprise a conical frustrum shape or a cylindrical shape with straight walls. The double-gate structure may have straight or angled walls. An outer wall of the gate oxide is in contact with a polysilicon gate layer. An upper and lower contact is electrically coupled to the amorphous IGZO channel.
H10B 43/40 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région de circuit périphérique
H10B 41/41 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région de circuit périphérique de régions de mémoire comprenant un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
Technology to provide a multi-phase clocking scheme for a memory device includes generating, based on a first clock signal having a first frequency, multi-phase clock signals for a memory device having a second frequency, where the second frequency is a fraction of the first frequency, generating local clock signals for data channels of the memory device based on the multi-phase clock signals, where the local clock signals are synchronous with respective rising edges of the multi-phase clock signals, and providing output data for the data channels of the memory device in an output data sequence based on the local clock signals. In some embodiments, the second frequency is one-half of the first frequency, and the multi-phase clock signals are four-phase clock signals. In some embodiments, the output data is clocked out at an effective rate equal to the first frequency based on the local clock signals.
G11C 7/22 - Circuits de synchronisation ou d'horloge pour la lecture-écriture [R-W]Générateurs ou gestion de signaux de commande pour la lecture-écriture [R-W]
G11C 7/10 - Dispositions d'interface d'entrée/sortie [E/S, I/O] de données, p. ex. circuits de commande E/S de données, mémoires tampon de données E/S
Systems, apparatuses, and methods may provide for technology for forming a pre-offset platform on top of a substrate. A memory block is formed, where the memory block includes a staircase area and a memory array area located adjacent the staircase area. The memory array area includes a plurality of memory pillars extending into the memory block. The staircase area has a first height, the memory array area has a second height, and a tier expansion height is defined as a difference between the second height and the first height. The pre-offset platform is located between the substrate and the staircase area of the memory block. The pre-offset platform is oriented and arranged to offset the tier expansion height so that an upper surface of the staircase area and an upper surface of the memory array area are located in a same plane.
H10B 41/40 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région de circuit périphérique
H10B 41/20 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
H10B 41/50 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région limite entre la région noyau et la région de circuit périphérique
H10B 43/40 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région de circuit périphérique
H10B 43/50 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région limite entre la région noyau et la région de circuit périphérique
G11C 5/02 - Disposition d'éléments d'emmagasinage, p. ex. sous la forme d'une matrice
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
Systems, apparatuses, and methods may provide for technology that arranges stair wells for memory devices. The memory device includes a memory array and a memory block coupled to the memory array. The memory block includes a first through array via area and a first staircase area coupled to a plurality of decks. The first staircase area includes a first stair well and a second stair well located contiguous to the first stair well.
H10B 43/20 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur
G11C 8/14 - Organisation de lignes de motsDisposition de lignes de mots
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
H01L 23/48 - Dispositions pour conduire le courant électrique vers le ou hors du corps à l'état solide pendant son fonctionnement, p. ex. fils de connexion ou bornes
H10B 41/10 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 41/20 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
H10B 43/10 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
69.
Method and apparatus to reduce memory in a NAND flash device to store page related information
The size of page map memory in a NAND flash device used to store page related information is decreased by embedding page type in a row address. The row address is received by the NAND flash device from the host on the data bus in a six-cycle sequence. The received row address is used to decode a physical page address received during the row address cycle to obtain a word line and a block segment number for a block segment in the word line in the NAND flash array. A same block segment number is used for each page type in the block segment.
Embodiments of the present disclosure are directed to organic spacers for integrated circuits. Among other things, the organic spacers of the embodiments of the present disclosure help provide a cost-efficient and effective solution to address issues such as coefficient of thermal expansion (CTE) mismatches, dynamic warpage, and solder joint reliability (SJR). Other embodiments may be described and claimed.
H01L 23/373 - Refroidissement facilité par l'emploi de matériaux particuliers pour le dispositif
H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 21/48 - Fabrication ou traitement de parties, p. ex. de conteneurs, avant l'assemblage des dispositifs, en utilisant des procédés non couverts par l'un uniquement des groupes ou
An embodiment of an apparatus may include a chuck body, and a surface formed on the chuck body to hold a wafer, where the surface has a non-flat shape. Other embodiments are disclosed and claimed.
H01L 21/687 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension en utilisant des moyens mécaniques, p. ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
H01L 21/683 - Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitementAppareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants pour le maintien ou la préhension
72.
Selective etch stop for wordline contacts in vertical 3D NAND staircase regions
An embodiment of an apparatus may include a substrate, a memory array of vertical 3D NAND strings formed in the substrate, a staircase region formed in the substrate, a polysilicon wordline extended horizontally on a step of the staircase region, a wordline contact extended vertically through the staircase region to make electrical contact with the polysilicon wordline, and an etch stop material formed around the wordline contact and on the polysilicon wordline, where the etch stop material extends to an outside corner of the step, the etch stop material is absent from a sidewall of the step, and the etch stop material is undercut at the outside corner of the step. Other embodiments are disclosed and claimed.
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
G11C 5/02 - Disposition d'éléments d'emmagasinage, p. ex. sous la forme d'une matrice
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
H01L 23/538 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre la structure d'interconnexion entre une pluralité de puces semi-conductrices se trouvant au-dessus ou à l'intérieur de substrats isolants
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
An embodiment of an apparatus may include a substrate with alternated layers of conductor material and insulator material, a vertical channel through at least four of the alternated layers of the substrate, where an edge of the layers of insulator material abuts an edge of the vertical channel, and a memory cell on the vertical channel disposed in a layer of conductor material between two layers of the insulator material, where the memory cell comprises a control gate disposed in a recess of the layer of conductor material between the two layers of the insulator material, a trap base disposed in the recess between the control gate and the edge of the vertical channel, and tunnel oxide material that covers the trap base and extends into the vertical channel outside of the recess and beyond the edge of the two layers of insulator material. Other embodiments are disclosed and claimed.
H01L 27/11556 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par des agencements tridimensionnels, p.ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H01L 29/423 - Electrodes caractérisées par leur forme, leurs dimensions relatives ou leur disposition relative ne transportant pas le courant à redresser, à amplifier ou à commuter
G11C 5/02 - Disposition d'éléments d'emmagasinage, p. ex. sous la forme d'une matrice
H01L 29/788 - Transistors à effet de champ l'effet de champ étant produit par une porte isolée à grille flottante
G11C 5/06 - Dispositions pour interconnecter électriquement des éléments d'emmagasinage
H01L 29/66 - Types de dispositifs semi-conducteurs
74.
Skip program verify for dynamic start voltage sampling
Skip program verify for dynamic start voltage (DSV) sampling reduces latency of a program operation on multi-level cell (MLC) memory having at least two pages and programmable with multiple threshold voltage levels, such as a Triple Level Cell (TLC) NAND device. The NAND device skips program verifies corresponding to higher levels of voltage thresholds during DSV sampling. As a result, the NAND device can reduce a total program time (tPROG) to program the MLC memory, and determine the dynamic start program voltage more quickly. The NAND device can improve an effective TLC NAND tPROG by as much as 2% without impacting the placement of the first sub-block being programmed. The skipped program verifies corresponding to the higher levels of voltage thresholds are resumed as soon as DSV sampling is complete.
In one embodiment, an apparatus comprises a memory comprising a group of memory cells coupled to a wordline; and a controller configured to skip programming of one or more pages of the group of memory cells responsive to a sequential write operation; and program the one or more pages of the group of memory cells responsive to one or more random write commands.
G06F 3/06 - Entrée numérique à partir de, ou sortie numérique vers des supports d'enregistrement
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
G11C 11/56 - Mémoires numériques caractérisées par l'utilisation d'éléments d'emmagasinage électriques ou magnétiques particuliersÉléments d'emmagasinage correspondants utilisant des éléments d'emmagasinage comportant plus de deux états stables représentés par des échelons, p. ex. de tension, de courant, de phase, de fréquence
76.
Additional silicide layer on top of staircase for 3D NAND WL contact connection
An embodiment of an apparatus may include a substrate, a memory array of vertical 3D NAND strings formed in the substrate, a staircase region formed in the substrate, a polysilicon wordline extended horizontally into the staircase region, a wordline contact extended vertically through the staircase region to make electrical contact with the polysilicon wordline, and a punch stop layer disposed between the wordline contact and the polysilicon wordline. Other embodiments are disclosed and claimed.
G11C 8/14 - Organisation de lignes de motsDisposition de lignes de mots
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
77.
DYNAMIC NEGATIVE CHARGE PUMP FOR NON-VOLATILE MEMORY
An example of an apparatus may include NAND memory and circuitry coupled to the NAND memory to monitor a sense voltage for an operation associated with a wordline of the NAND memory, and adjust a negative charge pump for the wordline prior to completion of the operation based on the monitored sense voltage. Other examples are disclosed and claimed.
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
G11C 16/26 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
78.
FLASH MEMORY CHIP WITH SELF ALIGNED ISOLATION FILL BETWEEN PILLARS
An apparatus is described. The apparatus includes a flash memory chip having a self-aligned dielectric fill between pillars. The self-aligned dielectric fill extends through a polysilicon layer. The pillars have respective access transistors formed with the polysilicon layer. The self-aligned dielectric fill to electrically isolate the pillars.
A semiconductor circuit includes multiple decks of semiconductor devices, each deck having multiple three-dimensional (3D) stacks. The semiconductor circuit has a nitride layer between the first deck and the second deck. The nitride layer has a self-aligned pillar through the nitride layer to electrically connect the first deck to the second deck. The nitride layer can have multiple sublayers, with a mirrored gradient doping, with lower doping toward the middle of the nitride layer and higher doping toward the outsides of the nitride layer that interfaces with the decks.
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
H01L 23/535 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions internes, p. ex. structures d'interconnexions enterrées
H10B 41/20 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur
H10B 41/30 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
H10B 43/20 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur
H10B 43/30 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
80.
STATIC VOLTAGE REGULATOR WITH TIME-INTERLEAVED CHARGE PUMP
An example of an apparatus may include NAND memory and circuitry coupled to the NAND memory to control access to the NAND memory as two or more groups of memory cells, provide independent operations for the two or more groups of memory cells, share a voltage regulator among at least two of the two or more groups of memory cells, and provide a target constant voltage from the shared voltage regulator to a target group of the two or more groups of memory cells in an independent operation for the target group. Other examples are disclosed and claimed.
G11C 11/4074 - Circuits d'alimentation ou de génération de tension, p. ex. générateurs de tension de polarisation, générateurs de tension de substrat, alimentation de secours, circuits de commande d'alimentation
G11C 11/4096 - Circuits de commande ou de gestion d'entrée/sortie [E/S, I/O] de données, p. ex. circuits pour la lecture ou l'écriture, circuits d'attaque d'entrée/sortie ou commutateurs de lignes de bits
81.
NAND DUTY CYCLE CORRECTION FOR DATA INPUT WRITE PATH
An example of an apparatus may include NAND memory and circuitry coupled to the NAND memory to provide duty cycle correction (DCC) for one or more write paths of the NAND memory. Other examples are disclosed and claimed.
Systems, apparatuses, and methods provide for technology that stores a sampled dynamic start voltage value based on a fast to program plane. A current multi-plane program operation is received corresponding to a current cell block and wordline pair associated with a current enabled plane of a plurality of enabled planes. A block list is scanned based on the current cell block and wordline pair. The block list includes a plurality of entries including a reference start voltage corresponding to a reference cell block and wordline pair associated with a reference enabled plane. Additionally, the reference start voltage is reused as a dynamic start voltage in response to finding a match between the current cell block and wordline pair as compared to the reference cell block and wordline pair. Such a match is performed only for a least enabled plane of the plurality of enabled planes.
G11C 16/10 - Circuits de programmation ou d'entrée de données
G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
G11C 16/16 - Circuits pour effacer électriquement, p. ex. circuits de commutation de la tension d'effacement pour effacer des blocs, p. ex. des réseaux, des mots, des groupes
G11C 16/28 - Circuits de détection ou de lectureCircuits de sortie de données utilisant des cellules de détection différentielle ou des cellules de référence, p. ex. des cellules factices
Technology herein provides a performance-enhanced memory device including a memory array including a local word line circuit and a plurality of local word lines coupled to the local word line circuit, a word line (WL) sense circuit coupled to an access node in the local word line circuit, the WL sense circuit to sense a voltage level in the local word line circuit while bypassing a disturbance to operation of the local word lines and to provide an output signal that indicates when the voltage level has reached a high voltage threshold value to enable a read operation. The technology also provides read logic coupled to the WL sense circuit, the read logic to receive the output signal from the WL sense circuit, and trigger a read operation for one or more cells in the memory array when the output signal indicates that the voltage level has reached the high voltage threshold value.
G11C 8/08 - Circuits de commande de lignes de mots, p. ex. circuits d'attaque, de puissance, de tirage vers le haut, d'abaissement, circuits de précharge, pour lignes de mots
G11C 8/16 - Réseau de mémoire à accès multiple, p. ex. adressage à un élément d'emmagasinage par au moins deux groupes de lignes d'adressage indépendantes
84.
Grouped global wordline driver with shared bias scheme
Systems, apparatuses, and methods may provide for technology that groups a plurality of wordline drivers together and supports these grouped wordline drivers via a shared multiplexer, a shared level shifter, and/or one or more shared multi-well level shifters. In one example, such technology includes a shared multiplexer and a first and second grouped global wordline driver coupled to the shared multiplexer. The shared multiplexer is to access data state information from a plurality of memory cells. The first grouped global wordline driver is to output a first plurality of wordlines associated with a first plane. The second grouped global wordline driver is to output a second plurality of wordlines associated with a second plane, where the second plane is different than the first plane.
An embodiment of a memory device may include a substrate, a first memory array of three-dimensional (3D) NAND cells disposed on the substrate, an isolation trench disposed on the substrate adjacent to the first memory array, and an input/output (IO) contact positioned within the isolation trench. Other embodiments are disclosed and claimed.
H10B 43/50 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région limite entre la région noyau et la région de circuit périphérique
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 41/50 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région limite entre la région noyau et la région de circuit périphérique
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
86.
STRUCTURE AND METHOD OF INCREASING SUBTRACTIVE BITLINE AIR GAP HEIGHT
Systems, apparatuses, and methods may provide for technology for forming extended air gaps for bitline contacts. For example, such technology patterns and etches a dielectric layer and a bitline layer to create bitline contacts in a memory die. An air gap dielectric layer is deposited to form an air gap between adjacent bitline contacts, and wherein the air gap has a height dimension that extends past a height dimension of the bitline contacts.
H01L 21/768 - Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
H01L 23/535 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions internes, p. ex. structures d'interconnexions enterrées
H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux
87.
Lean command sequence for multi-plane read operations
Systems, apparatuses and methods may provide for technology that generates address information for a plurality of planes in NAND memory, excludes column information from the address information, and sends a read command sequence to the NAND memory, wherein the read command sequence includes the address information. In one example, the technology also excludes plane confirm commands and busy cycles from the read command sequence.
Systems, apparatuses and methods may provide for technology that conducts a pulse-verify loop sequence from a first program level in targeted NAND memory cells to a next-to-last program level in the memory cells, wherein the pulse-verify loop sequence includes an issuance of a program pulse and one or more verify pulses to the memory cells on a per program level basis, and wherein successive program pulses differ from one another by a gate step voltage amount. The technology may also issue a last level program pulse to the memory cells at a last program level, issue a single verify pulse to the memory cells after the last level program pulse, and issue a gate step pulse to the memory cells at a variable program level, wherein the variable program level differs from the last program level by an amount that is greater than the gate step voltage amount.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
89.
PAGE MAP RENUMBERING TO REDUCE ERROR CORRECTION FAILURES AND IMPROVE PROGRAM TIME UNIFORMITY
Systems, apparatuses and methods may provide for technology that detects a request to program a NAND memory containing a plurality of dies and programs the NAND memory on a stripe-by-stripe basis, wherein each stripe spans the plurality of dies and includes multiple types of pages. The multiple types of pages may reduce program time variability across the stripes and reduce the error susceptibility of the NAND memory.
A memory array including a varying width channel is disclosed. The array includes a plurality of WLs, which are above a layer, where the layer can be, for example, a Select Gate Source (SGS) of the memory array, or an isolation layer to isolate a first deck of the array from a second deck of the array. The channel extends through the plurality of word lines and at least partially through the layer. In an example, the channel comprises a first region and a second region. The first region of the channel has a first width that is at least 1 nm different from a second width of the second region of the channel. In an example, the first region extends through the plurality of word lines, and the second region extends through at least a part of the layer underneath the plurality of word lines. In one case, the first width is at least 1 nm less than a second width of the second region of the channel.
H01L 27/11556 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par des agencements tridimensionnels, p.ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H01L 27/11582 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec isolateurs de grille à piégeage de charge, p.ex. MNOS ou NROM caractérisées par des agencements tridimensionnels, p.ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. canaux en forme de U
H01L 27/11524 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
H01L 27/1157 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec isolateurs de grille à piégeage de charge, p.ex. MNOS ou NROM caractérisées par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
G11C 8/14 - Organisation de lignes de motsDisposition de lignes de mots
91.
Block-to-block isolation and deep contact using pillars in a memory array
An integrated circuit memory includes a first memory block and an adjacent second memory block. The first memory block comprises a first memory pillar around which a first memory cell is formed. The second memory block comprises a second memory pillar around which a second memory cell is formed. An isolation or slit area between the first and second memory blocks electrically isolates the first and second memory blocks. In an example, the slit area comprising a slit pillar around which no memory cells are formed. The slit pillar is a dummy pillar, and insulator material electrically isolates the slit pillar from a Word Line (WL) through which it passes. The isolation layer electrically can also isolate a (WL) of the first memory block from a corresponding WL of the second memory block. In an example, the slit pillar and the memory pillars have at least in part similar structures.
G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
G11C 16/04 - Mémoires mortes programmables effaçables programmables électriquement utilisant des transistors à seuil variable, p. ex. FAMOS
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 43/50 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région limite entre la région noyau et la région de circuit périphérique
Systems, apparatuses and methods may provide for memory cell technology comprising a control gate, a conductive channel, and a charge storage structure coupled to the control gate and the conductive channel, wherein the charge storage structure includes a polysilicon layer and a metal layer. In one example, the metal layer includes titanium nitride or other high effective work function metal.
H10B 43/35 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
93.
Dummy wordline contacts to improve etch margin of semi-isolated wordlines in staircase structures
A memory device with a three-dimensional (3D) staircase memory stack includes dummy connectors proximate semi-isolated connectors. The memory device includes multiple wordlines stacked in a 3D staircase stack, which includes a wordline at an edge of a region of the staircase. The memory device includes vertical connectors through an isolation layer on the 3D staircase stack to connect the wordlines with conductive lines in an access layer. A wordline at the edge of the region of the staircase has a vertical connector that will be adjacent a connector on one side and not on the other side. The memory device includes at least one dummy vertical connector on the edge side of the vertical connector of the wordline on the edge, wherein the dummy vertical connector does not electrically connect a wordline of the 3D staircase stack to a conductive line in the access layer.
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
G11C 8/14 - Organisation de lignes de motsDisposition de lignes de mots
H10B 41/10 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la configuration vue du dessus
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 41/35 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région noyau de mémoire avec un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
An embodiment of a memory device may comprise a vertical channel, a first memory cell formed on the vertical channel, a first wordline coupled to the first memory cell, a second memory cell formed on the vertical channel immediately above the first memory cell, a second wordline coupled to the second memory cell, and an airgap disposed between the first wordline and the second wordline. Other embodiments are disclosed and claimed.
H01L 23/522 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées
H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux
H10B 41/27 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 41/41 - Dispositifs de mémoire morte reprogrammable électriquement [EEPROM] comprenant des grilles flottantes caractérisés par la région de circuit périphérique de régions de mémoire comprenant un transistor de sélection de cellules, p. ex. NON-ET
H10B 43/27 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par les agencements tridimensionnels, p. ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p. ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p. ex. des canaux en forme de U
H10B 43/40 - Dispositifs EEPROM avec des isolants de grille à piégeage de charge caractérisés par la région de circuit périphérique
Systems, apparatuses, and methods may provide for technology that gap-fills stairwells for memory devices. The memory device is manufactured by forming a liner film on a trench of a stairwell layer of the memory device; depositing a doped silicon dioxide film on the liner film, wherein doping of the doped silicon dioxide film is performed during the deposition; and performing a pressurized and steamed anneal on the doped silicon dioxide film deposited on the liner film to form a reflowed doped silicon dioxide film.
H01L 23/532 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions externes formées d'une structure multicouche de couches conductrices et isolantes inséparables du corps semi-conducteur sur lequel elles ont été déposées caractérisées par les matériaux
H01L 23/535 - Dispositions pour conduire le courant électrique à l'intérieur du dispositif pendant son fonctionnement, d'un composant à un autre comprenant des interconnexions internes, p. ex. structures d'interconnexions enterrées
H01L 27/11556 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par des agencements tridimensionnels, p.ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H01L 27/11582 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec isolateurs de grille à piégeage de charge, p.ex. MNOS ou NROM caractérisées par des agencements tridimensionnels, p.ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. canaux en forme de U
Systems, apparatuses, and methods may provide for technology for forming a gate polysilicon for 3D-NAND complementary metal-oxide semiconductor under array (CuA) on a substrate with a barrier and spacer structure. For example, the technology includes forming a titanium nitride (TiN) barrier adjacent the gate polysilicon and forming a silicon nitride (SiN) spacer around the polysilicon gate and the titanium nitride barrier.
H01L 27/1157 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec isolateurs de grille à piégeage de charge, p.ex. MNOS ou NROM caractérisées par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
H01L 27/11524 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par la région noyau de mémoire avec transistors de sélection de cellules, p.ex. NON-ET
H01L 27/11556 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec grilles flottantes caractérisées par des agencements tridimensionnels, p.ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. des canaux en forme de U
H01L 27/11582 - Mémoires mortes programmables électriquement; Procédés de fabrication à étapes multiples de ces dispositifs avec isolateurs de grille à piégeage de charge, p.ex. MNOS ou NROM caractérisées par des agencements tridimensionnels, p.ex. avec des cellules à des niveaux différents de hauteur la région de source et la région de drain étant à différents niveaux, p.ex. avec des canaux inclinés les canaux comprenant des parties verticales, p.ex. canaux en forme de U
97.
Staggered read recovery for improved read window budget in a three dimensional (3D) NAND memory array
At the end of or after a reading operation in a 3D (three dimensional) NAND array, the wordlines of the 3D NAND array can be transitioned to ground in a staggered manner. The 3D NAND array includes a 3D stack with multiple wordlines vertically stacked, including a bottom-most wordline, a top-most wordline, and middle wordlines between the bottom-most wordline and the top-most wordline. A controller that controls the reading can set the multiple wordlines to a high voltage at the end or after the reading operation and then transition a selected wordline of the multiple wordlines from the high voltage to ground prior to transitioning the other wordlines to ground. Thus, the controller will transition the other wordlines from the high voltage to ground after a delay.
G11C 16/08 - Circuits d'adressageDécodeursCircuits de commande de lignes de mots
G11C 7/04 - Dispositions pour écrire une information ou pour lire une information dans une mémoire numérique avec des moyens d'éviter les effets perturbateurs thermiques
G11C 11/4074 - Circuits d'alimentation ou de génération de tension, p. ex. générateurs de tension de polarisation, générateurs de tension de substrat, alimentation de secours, circuits de commande d'alimentation
An apparatus is described. An apparatus includes controller logic circuitry to perform a program-verify programming process to a flash memory chip. The program-verify programming process is to reduce a size of a pre-program verify (PPV) bucket in response to a number of cells being fully programmed to a same digital state. The number of cells are less than a total number of cells to be programmed to the same digital state.
G11C 16/34 - Détermination de l'état de programmation, p. ex. de la tension de seuil, de la surprogrammation ou de la sousprogrammation, de la rétention
99.
Three-dimensional (3D) NAND component with control circuitry across multiple wafers
Three-dimensional (3D) NAND components formed with control circuitry split across two wafers can provide for more area for control circuitry for an array, enabling improved 3D NAND system performance. In one example, a 3D NAND component includes a first die including a three-dimensional (3D) NAND array and first complementary metal oxide semiconductor (CMOS) control circuitry to access the 3D NAND array, and a second die vertically stacked and bonded with the first die, the second die including second CMOS control circuitry to access the 3D NAND array of the first die.
H01L 25/065 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant tous d'un type prévu dans une seule des sous-classes , , , , ou , p. ex. ensembles de diodes redresseuses les dispositifs n'ayant pas de conteneurs séparés les dispositifs étant d'un type prévu dans le groupe
H01L 23/00 - Détails de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 25/00 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide
H01L 25/18 - Ensembles consistant en une pluralité de dispositifs à semi-conducteurs ou d'autres dispositifs à l'état solide les dispositifs étant de types prévus dans plusieurs différents groupes principaux de la même sous-classe , , , , ou
Systems, apparatuses and methods may provide for technology that applies a first set of control signals to even bitlines in NAND memory and senses voltage levels of the even bitlines during an even sensing time period. The technology may also apply a second set of control signals to odd bitlines in the NAND memory, and sense voltage levels of the odd bitlines during an odd sensing time period, wherein the second set of control signals are applied after expiration of a stagger time period between the even sensing time period and the odd sensing time period.
brevets
