- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C07D - Composés hétérocycliques
- C07D 333/08 - Atomes d'hydrogène ou radicaux contenant uniquement des atomes d'hydrogène et de carbone
Détention brevets de la classe C07D 333/08
Brevets de cette classe: 94
Historique des publications depuis 10 ans
|
2
|
8
|
7
|
5
|
6
|
6
|
5
|
3
|
4
|
0
|
| 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 | 2025 | 2026 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
|
Cette classe
|
|---|---|---|
| LG Chem, Ltd. | 17921 |
8 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9016 |
4 |
| Corteva Agriscience LLC | 2648 |
4 |
| Merck Patent GmbH | 5728 |
3 |
| FUJIFILM Corporation | 30514 |
3 |
| Canon Inc. | 43817 |
2 |
| Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 4235 |
2 |
| Cytokinetics, Inc. | 251 |
2 |
| Osaka University | 3267 |
2 |
| Piramal Enterprises Limited | 151 |
2 |
| Riken | 1717 |
2 |
| Soochow University | 1781 |
2 |
| Nevada Research & Innovation Corporation | 41 |
2 |
| Syngenta Limited | 426 |
1 |
| Konica Minolta, Inc. | 9119 |
1 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6096 |
1 |
| Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 8471 |
1 |
| Tsinghua University | 6211 |
1 |
| University of South Florida | 1876 |
1 |
| Arkema France | 4242 |
1 |
| Autres propriétaires | 49 |