- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C07D - Composés hétérocycliques
- C07D 333/08 - Atomes d'hydrogène ou radicaux contenant uniquement des atomes d'hydrogène et de carbone
Détention brevets de la classe C07D 333/08
Brevets de cette classe: 94
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| LG Chem, Ltd. | 17679 |
8 |
| Sumitomo Chemical Company, Limited | 9109 |
4 |
| Corteva Agriscience LLC | 2703 |
4 |
| Merck Patent GmbH | 5759 |
3 |
| FUJIFILM Corporation | 29817 |
3 |
| Nevada Research & Innovation Corporation | 46 |
3 |
| Canon Inc. | 41108 |
2 |
| Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 4225 |
2 |
| Cytokinetics, Inc. | 280 |
2 |
| Osaka University | 3382 |
2 |
| Piramal Enterprises Limited | 153 |
2 |
| Riken | 1695 |
2 |
| Soochow University | 1749 |
2 |
| Syngenta Limited | 448 |
1 |
| Konica Minolta, Inc. | 8902 |
1 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5784 |
1 |
| Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 8475 |
1 |
| Tsinghua University | 6020 |
1 |
| University of South Florida | 1851 |
1 |
| Arkema France | 4173 |
1 |
| Autres propriétaires | 48 |