- Sections
- C - Chimiemétallurgie
- C07F - Composés acycliques, carbocycliques ou hétérocycliques contenant des éléments autres que le carbone, l'hydrogène, les halogènes, l'oxygène, l'azote, le soufre, le sélénium ou le tellure
- C07F 7/10 - Composés comportant une ou plusieurs liaisons C—Si azotés
Détention brevets de la classe C07F 7/10
Brevets de cette classe: 1252
Historique des publications depuis 10 ans
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Versum Materials US, LLC | 682 |
64 |
| Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 6143 |
54 |
| LG Chem, Ltd. | 17970 |
34 |
| Rohm and Haas Electronic Materials Korea Ltd. | 332 |
32 |
| FUJIFILM Corporation | 30689 |
26 |
| Entegris, Inc. | 2024 |
26 |
| Dnf Co.,Ltd. | 85 |
23 |
| L'Air Liquide, Societe Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procedes Georges Claude | 4137 |
20 |
| The University of Tokyo | 4390 |
20 |
| Dow Silicones Corporation | 2146 |
18 |
| Merck Patent GmbH | 5747 |
16 |
| Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 4275 |
15 |
| 3m Innovative Properties Company | 17455 |
13 |
| Up Chemical Co., Ltd. | 70 |
13 |
| Samsung Display Co., Ltd. | 39087 |
12 |
| JNC Corporation | 1556 |
11 |
| Konica Minolta, Inc. | 9176 |
10 |
| Bridgestone Corporation | 7270 |
10 |
| Incyte Holdings Corporation | 621 |
10 |
| The University of North Carolina at Chapel Hill | 2120 |
10 |
| Autres propriétaires | 815 |